,  том 14 ,  издание 23 ,  страницы 1635-1637

Effect of the nitrogen partial pressure on the preferred orientation of TiN thin films

Тип публикации: Journal Article
Дата публикации: 1995-01-01
SJR: 0.125
CiteScore: —
Impact factor: —
ISSN: 02618028, 15734811
General Materials Science
Для доступа к списку цитирований публикации необходимо авторизоваться.
Для доступа к списку профилей, цитирующих публикацию, необходимо авторизоваться.

Топ-30

Журналы

1
2
Journal of Applied Physics
2 публикации, 12.5%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
1 публикация, 6.25%
Materials Science & Engineering A: Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing
1 публикация, 6.25%
Surface and Coatings Technology
1 публикация, 6.25%
Vacuum
1 публикация, 6.25%
JSME International Journal Series A
1 публикация, 6.25%
Journal of Materials Engineering and Performance
1 публикация, 6.25%
Journal of Theoretical and Applied Physics
1 публикация, 6.25%
Science China: Physics, Mechanics and Astronomy
1 публикация, 6.25%
Materialia
1 публикация, 6.25%
Russian Chemical Reviews
1 публикация, 6.25%
Journal Physics D: Applied Physics
1 публикация, 6.25%
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology
1 публикация, 6.25%
Metallofizika i Noveishie Tekhnologii
1 публикация, 6.25%
Russian Microelectronics
1 публикация, 6.25%
1
2

Издатели

1
2
3
4
5
Elsevier
5 публикаций, 31.25%
AIP Publishing
2 публикации, 12.5%
Springer Nature
2 публикации, 12.5%
American Vacuum Society
1 публикация, 6.25%
Japan Society of Mechanical Engineers
1 публикация, 6.25%
Science in China Press
1 публикация, 6.25%
Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii
1 публикация, 6.25%
IOP Publishing
1 публикация, 6.25%
National Academy of Sciences of Ukraine (Co. LTD Ukrinformnauka) (Publications)
1 публикация, 6.25%
Pleiades Publishing
1 публикация, 6.25%
1
2
3
4
5
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика публикаций обновляется еженедельно.

Вы ученый?

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
 Войти с ORCID
Метрики
16
Поделиться
Цитировать
ГОСТ |
Цитировать
Yang H. H., JE J. H., Lee K. ‐. Effect of the nitrogen partial pressure on the preferred orientation of TiN thin films // Journal of Materials Science Letters. 1995. Vol. 14. No. 23. pp. 1635-1637.
ГОСТ со всеми авторами (до 50) Скопировать
Yang H. H., JE J. H., Lee K. ‐. Effect of the nitrogen partial pressure on the preferred orientation of TiN thin films // Journal of Materials Science Letters. 1995. Vol. 14. No. 23. pp. 1635-1637.
RIS |
Цитировать
TY - JOUR
DO - 10.1007/bf00422660
UR - https://doi.org/10.1007/bf00422660
TI - Effect of the nitrogen partial pressure on the preferred orientation of TiN thin films
T2 - Journal of Materials Science Letters
AU - Yang, H. H.
AU - JE, J. H.
AU - Lee, K. ‐B.
PY - 1995
DA - 1995/01/01
PB - Springer Nature
SP - 1635-1637
IS - 23
VL - 14
SN - 0261-8028
SN - 1573-4811
ER -
BibTex |
Цитировать
BibTex (до 50 авторов) Скопировать
@article{1995_Yang,
author = {H. H. Yang and J. H. JE and K. ‐B. Lee},
title = {Effect of the nitrogen partial pressure on the preferred orientation of TiN thin films},
journal = {Journal of Materials Science Letters},
year = {1995},
volume = {14},
publisher = {Springer Nature},
month = {jan},
url = {https://doi.org/10.1007/bf00422660},
number = {23},
pages = {1635--1637},
doi = {10.1007/bf00422660}
}
MLA
Цитировать
Yang, H. H., et al. “Effect of the nitrogen partial pressure on the preferred orientation of TiN thin films.” Journal of Materials Science Letters, vol. 14, no. 23, Jan. 1995, pp. 1635-1637. https://doi.org/10.1007/bf00422660.
Ошибка в публикации?