том 2 издание 4 страницы 1065-1073

Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures

Тип публикацииJournal Article
Дата публикации2020-03-29
scimago Q1
wos Q2
БС1
SJR1.045
CiteScore7.4
Impact factor4.7
ISSN26376113
Materials Chemistry
Electronic, Optical and Magnetic Materials
Electrochemistry
Краткое описание
Next-generation nonvolatile memory devices require many functionalities such as high-speed processing, low power consumption, lightweight, and a simple structure. The use of heterostructures with r...
Найдено 
Найдено 

Топ-30

Журналы

1
2
Advanced Functional Materials
2 публикации, 25%
Nanotechnology
1 публикация, 12.5%
Chemistry of Materials
1 публикация, 12.5%
Nanoscale Horizons
1 публикация, 12.5%
National Science Review
1 публикация, 12.5%
Ceramics International
1 публикация, 12.5%
APL Materials
1 публикация, 12.5%
1
2

Издатели

1
2
Wiley
2 публикации, 25%
IOP Publishing
1 публикация, 12.5%
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 12.5%
Royal Society of Chemistry (RSC)
1 публикация, 12.5%
Oxford University Press
1 публикация, 12.5%
Elsevier
1 публикация, 12.5%
AIP Publishing
1 публикация, 12.5%
1
2
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика публикаций обновляется еженедельно.

Вы ученый?

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
Метрики
9
Поделиться
Цитировать
ГОСТ |
Цитировать
Rao B. N. et al. Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures // ACS Applied Electronic Materials. 2020. Vol. 2. No. 4. pp. 1065-1073.
ГОСТ со всеми авторами (до 50) Скопировать
Rao B. N., Yasui S., Han Y., Hamasaki Y., Katayama T., Shiraishi T., Kiguchi T., Itoh M. Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures // ACS Applied Electronic Materials. 2020. Vol. 2. No. 4. pp. 1065-1073.
RIS |
Цитировать
TY - JOUR
DO - 10.1021/acsaelm.0c00083
UR - https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c00083
TI - Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures
T2 - ACS Applied Electronic Materials
AU - Rao, Badari Narayana
AU - Yasui, Shintaro
AU - Han, Yefei
AU - Hamasaki, Yosuke
AU - Katayama, Tsukasa
AU - Shiraishi, Takahisa
AU - Kiguchi, Takanori
AU - Itoh, Mitsuru
PY - 2020
DA - 2020/03/29
PB - American Chemical Society (ACS)
SP - 1065-1073
IS - 4
VL - 2
SN - 2637-6113
ER -
BibTex |
Цитировать
BibTex (до 50 авторов) Скопировать
@article{2020_Rao,
author = {Badari Narayana Rao and Shintaro Yasui and Yefei Han and Yosuke Hamasaki and Tsukasa Katayama and Takahisa Shiraishi and Takanori Kiguchi and Mitsuru Itoh},
title = {Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures},
journal = {ACS Applied Electronic Materials},
year = {2020},
volume = {2},
publisher = {American Chemical Society (ACS)},
month = {mar},
url = {https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c00083},
number = {4},
pages = {1065--1073},
doi = {10.1021/acsaelm.0c00083}
}
MLA
Цитировать
Rao, Badari Narayana, et al. “Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures.” ACS Applied Electronic Materials, vol. 2, no. 4, Mar. 2020, pp. 1065-1073. https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c00083.