Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures
Badari Narayana Rao
1
,
Shintaro Yasui
1
,
Yefei Han
1
,
Yosuke Hamasaki
2
,
Tsukasa Katayama
3
,
Takahisa Shiraishi
4
,
Takanori Kiguchi
4
,
Mitsuru Itoh
1
Тип публикации: Journal Article
Дата публикации: 2020-03-29
scimago Q1
wos Q2
БС1
SJR: 1.045
CiteScore: 7.4
Impact factor: 4.7
ISSN: 26376113
Materials Chemistry
Electronic, Optical and Magnetic Materials
Electrochemistry
Краткое описание
Next-generation nonvolatile memory devices require many functionalities such as high-speed processing, low power consumption, lightweight, and a simple structure. The use of heterostructures with r...
Найдено
Ничего не найдено, попробуйте изменить настройки фильтра.
Найдено
Ничего не найдено, попробуйте изменить настройки фильтра.
Топ-30
Журналы
|
1
2
|
|
|
Advanced Functional Materials
2 публикации, 25%
|
|
|
Nanotechnology
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Chemistry of Materials
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Nanoscale Horizons
1 публикация, 12.5%
|
|
|
National Science Review
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Ceramics International
1 публикация, 12.5%
|
|
|
APL Materials
1 публикация, 12.5%
|
|
|
1
2
|
Издатели
|
1
2
|
|
|
Wiley
2 публикации, 25%
|
|
|
IOP Publishing
1 публикация, 12.5%
|
|
|
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Royal Society of Chemistry (RSC)
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Oxford University Press
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Elsevier
1 публикация, 12.5%
|
|
|
AIP Publishing
1 публикация, 12.5%
|
|
|
1
2
|
- Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
- Статистика публикаций обновляется еженедельно.
Вы ученый?
Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
Метрики
9
Всего цитирований:
9
Цитирований c 2024:
4
(50%)
Цитировать
ГОСТ |
RIS |
BibTex |
MLA
Цитировать
ГОСТ
Скопировать
Rao B. N. et al. Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures // ACS Applied Electronic Materials. 2020. Vol. 2. No. 4. pp. 1065-1073.
ГОСТ со всеми авторами (до 50)
Скопировать
Rao B. N., Yasui S., Han Y., Hamasaki Y., Katayama T., Shiraishi T., Kiguchi T., Itoh M. Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures // ACS Applied Electronic Materials. 2020. Vol. 2. No. 4. pp. 1065-1073.
Цитировать
RIS
Скопировать
TY - JOUR
DO - 10.1021/acsaelm.0c00083
UR - https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c00083
TI - Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures
T2 - ACS Applied Electronic Materials
AU - Rao, Badari Narayana
AU - Yasui, Shintaro
AU - Han, Yefei
AU - Hamasaki, Yosuke
AU - Katayama, Tsukasa
AU - Shiraishi, Takahisa
AU - Kiguchi, Takanori
AU - Itoh, Mitsuru
PY - 2020
DA - 2020/03/29
PB - American Chemical Society (ACS)
SP - 1065-1073
IS - 4
VL - 2
SN - 2637-6113
ER -
Цитировать
BibTex (до 50 авторов)
Скопировать
@article{2020_Rao,
author = {Badari Narayana Rao and Shintaro Yasui and Yefei Han and Yosuke Hamasaki and Tsukasa Katayama and Takahisa Shiraishi and Takanori Kiguchi and Mitsuru Itoh},
title = {Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures},
journal = {ACS Applied Electronic Materials},
year = {2020},
volume = {2},
publisher = {American Chemical Society (ACS)},
month = {mar},
url = {https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c00083},
number = {4},
pages = {1065--1073},
doi = {10.1021/acsaelm.0c00083}
}
Цитировать
MLA
Скопировать
Rao, Badari Narayana, et al. “Redox-Based Multilevel Resistive Switching in AlFeO3 Thin-Film Heterostructures.” ACS Applied Electronic Materials, vol. 2, no. 4, Mar. 2020, pp. 1065-1073. https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c00083.