том 2627 страницы 20002

Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers

Тип публикацииProceedings Article
Дата публикации2023-05-01
SJR0.153
CiteScore0.5
Impact factor
ISSN0094243X, 15517616
Найдено 

Вы ученый?

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
Метрики
0
Поделиться
Цитировать
ГОСТ |
Цитировать
Fedotov A., Vakhrushev A., Sidorenko A. Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers // AIP Conference Proceedings. 2023. Vol. 2627. p. 20002.
ГОСТ со всеми авторами (до 50) Скопировать
Fedotov A., Vakhrushev A., Sidorenko A. Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers // AIP Conference Proceedings. 2023. Vol. 2627. p. 20002.
RIS |
Цитировать
TY - CPAPER
DO - 10.1063/5.0115094
UR - http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/5.0115094
TI - Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers
T2 - AIP Conference Proceedings
AU - Fedotov, Aleksey
AU - Vakhrushev, Alexander
AU - Sidorenko, Anatoliy
PY - 2023
DA - 2023/05/01
PB - AIP Publishing
SP - 20002
VL - 2627
SN - 0094-243X
SN - 1551-7616
ER -
BibTex
Цитировать
BibTex (до 50 авторов) Скопировать
@inproceedings{2023_Fedotov,
author = {Aleksey Fedotov and Alexander Vakhrushev and Anatoliy Sidorenko},
title = {Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers},
year = {2023},
volume = {2627},
pages = {20002},
month = {may},
publisher = {AIP Publishing}
}