Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers
Тип публикации: Proceedings Article
Дата публикации: 2023-05-01
SJR: 0.153
CiteScore: 0.5
Impact factor: —
ISSN: 0094243X, 15517616
Найдено
Ничего не найдено, попробуйте изменить настройки фильтра.
Вы ученый?
Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
Метрики
0
Всего цитирований:
0
Цитировать
ГОСТ |
RIS |
BibTex
Цитировать
ГОСТ
Скопировать
Fedotov A., Vakhrushev A., Sidorenko A. Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers // AIP Conference Proceedings. 2023. Vol. 2627. p. 20002.
ГОСТ со всеми авторами (до 50)
Скопировать
Fedotov A., Vakhrushev A., Sidorenko A. Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers // AIP Conference Proceedings. 2023. Vol. 2627. p. 20002.
Цитировать
RIS
Скопировать
TY - CPAPER
DO - 10.1063/5.0115094
UR - http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/5.0115094
TI - Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers
T2 - AIP Conference Proceedings
AU - Fedotov, Aleksey
AU - Vakhrushev, Alexander
AU - Sidorenko, Anatoliy
PY - 2023
DA - 2023/05/01
PB - AIP Publishing
SP - 20002
VL - 2627
SN - 0094-243X
SN - 1551-7616
ER -
Цитировать
BibTex (до 50 авторов)
Скопировать
@inproceedings{2023_Fedotov,
author = {Aleksey Fedotov and Alexander Vakhrushev and Anatoliy Sidorenko},
title = {Modeling the deposition of an additional layer to improve the interface of spin valve nanolayers},
year = {2023},
volume = {2627},
pages = {20002},
month = {may},
publisher = {AIP Publishing}
}
Профили