том 21 издание 31 страницы 315301

Titania-assisted electron-beam and synchrotron lithography

Тип публикацииJournal Article
Дата публикации2010-07-15
SCImago Q2
WOS Q3
БС1
SJR0.526
CiteScore5.9
Impact factor2.9
ISSN09574484, 13616528
General Chemistry
General Materials Science
Electrical and Electronic Engineering
Mechanical Engineering
Bioengineering
Mechanics of Materials
Краткое описание
Novel imaging layer technology for electron-beam and extreme-ultraviolet lithographic processes based upon generation of Pd nanoparticles in the Pd(2+)-loaded TiO(2) films was developed. The electroless metallization of the patterned TiO(2):Pd(2+) films yields both negative and positive nickel images with resolution down to approximately 100 nm.
Для доступа к списку цитирований публикации необходимо авторизоваться.
Для доступа к списку профилей, цитирующих публикацию, необходимо авторизоваться.

Топ-30

Журналы

1
ACS applied materials & interfaces
1 публикация, 20%
Angewandte Chemie - International Edition
1 публикация, 20%
Advanced Materials Interfaces
1 публикация, 20%
Advanced Functional Materials
1 публикация, 20%
Angewandte Chemie
1 публикация, 20%
1

Издатели

1
2
3
4
Wiley
4 публикации, 80%
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 20%
1
2
3
4
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика публикаций обновляется еженедельно.

Вы ученый?

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
 Войти с ORCID
Метрики
5
Поделиться
Цитировать
ГОСТ |
Цитировать
Sokolov V. G. et al. Titania-assisted electron-beam and synchrotron lithography // Nanotechnology. 2010. Vol. 21. No. 31. p. 315301.
ГОСТ со всеми авторами (до 50) Скопировать
Skorb E. V., Grützmacher D., Dais C., Guzenko V. A., Sokolov V. N., Gaevskaya T. V., Sviridov D. V. Titania-assisted electron-beam and synchrotron lithography // Nanotechnology. 2010. Vol. 21. No. 31. p. 315301.
RIS |
Цитировать
TY - JOUR
DO - 10.1088/0957-4484/21/31/315301
UR - https://doi.org/10.1088/0957-4484/21/31/315301
TI - Titania-assisted electron-beam and synchrotron lithography
T2 - Nanotechnology
AU - Skorb, Ekaterina V.
AU - Grützmacher, Detlev
AU - Dais, Christian
AU - Guzenko, Vitaliy A.
AU - Sokolov, V. N.
AU - Gaevskaya, Tatjana V
AU - Sviridov, D. V.
PY - 2010
DA - 2010/07/15
PB - IOP Publishing
SP - 315301
IS - 31
VL - 21
PMID - 20634573
SN - 0957-4484
SN - 1361-6528
ER -
BibTex |
Цитировать
BibTex (до 50 авторов) Скопировать
@article{2010_Sokolov,
author = {Ekaterina V. Skorb and Detlev Grützmacher and Christian Dais and Vitaliy A. Guzenko and V. N. Sokolov and Tatjana V Gaevskaya and D. V. Sviridov},
title = {Titania-assisted electron-beam and synchrotron lithography},
journal = {Nanotechnology},
year = {2010},
volume = {21},
publisher = {IOP Publishing},
month = {jul},
url = {https://doi.org/10.1088/0957-4484/21/31/315301},
number = {31},
pages = {315301},
doi = {10.1088/0957-4484/21/31/315301}
}
MLA
Цитировать
Sokolov, Valeriy G., et al. “Titania-assisted electron-beam and synchrotron lithography.” Nanotechnology, vol. 21, no. 31, Jul. 2010, p. 315301. https://doi.org/10.1088/0957-4484/21/31/315301.
Лаборатории
Ошибка в публикации?