Необходимо авторизоваться.

Разработка технологии нанесения углеродных алмазоподобных покрытий для повышения физико-механических и медико-биологических характеристик изделий. Компьютерный дизайн материалов.

  1. Ab inito
  2. DFT расчеты
  3. Атомно-слоевое осаждение (Atomic layer deposition)
  4. Вакуумно-термическое напыление
  5. Машинное обучение
  6. Молекулярно-слоевое осаждение (Molecular layer deposition)
  7. Осаждение тонких пленок
  8. Теория конденсированного состояния
  9. Плазменная обработка
Алексей Карцев 🥼 🤝
Заведующий лабораторией
Всего публикаций
6
Всего цитирований
29
Цитирований на публикацию
4.83
Среднее число публикаций в год
2
Годы публикаций
2022-2024 (3 года)
h-index
3
i10-index
1
m-index
1
o-index
6
g-index
5
w-index
1
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Топ-100

Области наук

1
2
3
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 3, 50%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
3 публикации, 50%
Condensed Matter Physics, 2, 33.33%
Condensed Matter Physics
2 публикации, 33.33%
Surfaces, Coatings and Films, 1, 16.67%
Surfaces, Coatings and Films
1 публикация, 16.67%
Physical and Theoretical Chemistry, 1, 16.67%
Physical and Theoretical Chemistry
1 публикация, 16.67%
Atomic and Molecular Physics, and Optics, 1, 16.67%
Atomic and Molecular Physics, and Optics
1 публикация, 16.67%
General Materials Science, 1, 16.67%
General Materials Science
1 публикация, 16.67%
Electrical and Electronic Engineering, 1, 16.67%
Electrical and Electronic Engineering
1 публикация, 16.67%
General Energy, 1, 16.67%
General Energy
1 публикация, 16.67%
Radiation, 1, 16.67%
Radiation
1 публикация, 16.67%
1
2
3

Журналы

1
Journal of Communications Technology and Electronics
1 публикация, 16.67%
Journal of Materials Chemistry C
1 публикация, 16.67%
Journal of Physics Condensed Matter
1 публикация, 16.67%
Journal of Physical Chemistry C
1 публикация, 16.67%
Optica
1 публикация, 16.67%
Поверхность Рентгеновские синхротронные и нейтронные исследования
1 публикация, 16.67%
1

Цитирующие журналы

1
2
3
4
Nanoscale
4 цитирования, 13.79%
Journal of Physical Chemistry Letters
3 цитирования, 10.34%
Journal of Materials Chemistry C
2 цитирования, 6.9%
Physical Review Materials
2 цитирования, 6.9%
Journal of Physical Chemistry C
2 цитирования, 6.9%
Small
2 цитирования, 6.9%
Advances in Optics and Photonics
1 цитирование, 3.45%
Journal of Surface Investigation
1 цитирование, 3.45%
Optics Letters
1 цитирование, 3.45%
Physical Chemistry Chemical Physics
1 цитирование, 3.45%
Journal of Alloys and Compounds
1 цитирование, 3.45%
Physical Review Letters
1 цитирование, 3.45%
Journal of Physics Condensed Matter
1 цитирование, 3.45%
Advanced Functional Materials
1 цитирование, 3.45%
Optics Express
1 цитирование, 3.45%
Nanotechnology
1 цитирование, 3.45%
Physical Review B
1 цитирование, 3.45%
ACS Applied Electronic Materials
1 цитирование, 3.45%
ACS Applied Engineering Materials
1 цитирование, 3.45%
Поверхность Рентгеновские синхротронные и нейтронные исследования
1 цитирование, 3.45%
1
2
3
4

Издатели

1
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 16.67%
Pleiades Publishing
1 публикация, 16.67%
Royal Society of Chemistry (RSC)
1 публикация, 16.67%
Optica Publishing Group
1 публикация, 16.67%
IOP Publishing
1 публикация, 16.67%
The Russian Academy of Sciences
1 публикация, 16.67%
1

Организации из публикаций

1
2
3
4
5
Московский государственный технический университет им. Н. Э. Баумана
5 публикаций, 83.33%
Российский Университет Дружбы Народов
4 публикации, 66.67%
Вычислительный центр ДВО РАН
4 публикации, 66.67%
Институт радиотехники и электроники имени В.А. Котельникова РАН
2 публикации, 33.33%
МИРЭА — Российский технологический университет
2 публикации, 33.33%
Индийский институт технологии в Харагпуре
2 публикации, 33.33%
Университет Райса
2 публикации, 33.33%
Индийский научный институт
1 публикация, 16.67%
Индийский институт технологии в Гандинагаре
1 публикация, 16.67%
Оксфордский университет
1 публикация, 16.67%
Национальная ускорительная лаборатория SLAC
1 публикация, 16.67%
Стэнфордский университет
1 публикация, 16.67%
Институт квантовой оптики Общества Макса Планка
1 публикация, 16.67%
Мюнхенский университет имени Людвига и Максимилиана
1 публикация, 16.67%
Университет штата Кампинас
1 публикация, 16.67%
Университет Джимма
1 публикация, 16.67%
1
2
3
4
5

Страны из публикаций

1
2
3
4
5
6
Россия, 6, 100%
Россия
6 публикаций, 100%
США, 3, 50%
США
3 публикации, 50%
Индия, 2, 33.33%
Индия
2 публикации, 33.33%
Страна не определена, 1, 16.67%
Страна не определена
1 публикация, 16.67%
Германия, 1, 16.67%
Германия
1 публикация, 16.67%
Бразилия, 1, 16.67%
Бразилия
1 публикация, 16.67%
Великобритания, 1, 16.67%
Великобритания
1 публикация, 16.67%
Эфиопия, 1, 16.67%
Эфиопия
1 публикация, 16.67%
1
2
3
4
5
6

Цитирующие организации

1
2
3
4
5
6
Вычислительный центр ДВО РАН
6 цитирований, 20.69%
Индийский институт технологии в Харагпуре
6 цитирований, 20.69%
Московский государственный технический университет им. Н. Э. Баумана
5 цитирований, 17.24%
МИРЭА — Российский технологический университет
5 цитирований, 17.24%
Российский Университет Дружбы Народов
4 цитирования, 13.79%
Индийский институт технологии в Джамму
3 цитирования, 10.34%
Технический университет Чалмерса
3 цитирования, 10.34%
Организация не определена, 2, 6.9%
Организация не определена
2 цитирования, 6.9%
Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики»
2 цитирования, 6.9%
Институт радиотехники и электроники имени В.А. Котельникова РАН
2 цитирования, 6.9%
Индийский научный институт
2 цитирования, 6.9%
Индийский институт технологии в Гандинагаре
2 цитирования, 6.9%
Университет Бахр-Дара
2 цитирования, 6.9%
Научно-технологический университет имени короля Абдаллы
1 цитирование, 3.45%
Делийский университет
1 цитирование, 3.45%
Индийский институт технологии (Бенаресский индуистский университет) в Варанаси
1 цитирование, 3.45%
Технологический университет имени Насир ад-Дина Туси
1 цитирование, 3.45%
Университет Шахеда
1 цитирование, 3.45%
Университет Гренобль-Альпы
1 цитирование, 3.45%
Нанкинский университет аэронавтики и астронавтики
1 цитирование, 3.45%
Нанкинский университет почты и телекоммуникаций
1 цитирование, 3.45%
Автономный университет Барселоны
1 цитирование, 3.45%
Национальный институт материаловедения
1 цитирование, 3.45%
Шанхайский университет
1 цитирование, 3.45%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли
1 цитирование, 3.45%
Университет Райса
1 цитирование, 3.45%
Университет Модены и Реджо-Эмилии
1 цитирование, 3.45%
Шаньдунский университет Цзянжу
1 цитирование, 3.45%
Национальная ускорительная лаборатория SLAC
1 цитирование, 3.45%
Стэнфордский университет
1 цитирование, 3.45%
Университет штата Аризона
1 цитирование, 3.45%
Аньянский педагогический университет
1 цитирование, 3.45%
Северо-Восточный университет
1 цитирование, 3.45%
Университет Южного Иллинойса в Карбондейле
1 цитирование, 3.45%
Барселонский институт науки и технологий
1 цитирование, 3.45%
Федеральный университет ABC
1 цитирование, 3.45%
Университет штата Кампинас
1 цитирование, 3.45%
Вроцлавский университет естественных и технических наук
1 цитирование, 3.45%
Каталонский институт нанонауки и нанотехнологий
1 цитирование, 3.45%
Каталонский институт научных исследований и повышения квалификации
1 цитирование, 3.45%
Университет Коннектикута
1 цитирование, 3.45%
Университет Джимма
1 цитирование, 3.45%
Брненский технический университет
1 цитирование, 3.45%
Университет Монпелье
1 цитирование, 3.45%
Университет Тулуза III - Поль Сабатье
1 цитирование, 3.45%
Институт Нееля
1 цитирование, 3.45%
Университет штата Калифорния, Нортридж
1 цитирование, 3.45%
1
2
3
4
5
6

Цитирующие страны

1
2
3
4
5
6
7
8
Россия, 8, 27.59%
Россия
8 цитирований, 27.59%
Страна не определена, 6, 20.69%
Страна не определена
6 цитирований, 20.69%
США, 6, 20.69%
США
6 цитирований, 20.69%
Индия, 6, 20.69%
Индия
6 цитирований, 20.69%
Китай, 4, 13.79%
Китай
4 цитирования, 13.79%
Швеция, 3, 10.34%
Швеция
3 цитирования, 10.34%
Эфиопия, 3, 10.34%
Эфиопия
3 цитирования, 10.34%
Бразилия, 2, 6.9%
Бразилия
2 цитирования, 6.9%
Франция, 1, 3.45%
Франция
1 цитирование, 3.45%
Иран, 1, 3.45%
Иран
1 цитирование, 3.45%
Испания, 1, 3.45%
Испания
1 цитирование, 3.45%
Италия, 1, 3.45%
Италия
1 цитирование, 3.45%
Польша, 1, 3.45%
Польша
1 цитирование, 3.45%
Саудовская Аравия, 1, 3.45%
Саудовская Аравия
1 цитирование, 3.45%
Чехия, 1, 3.45%
Чехия
1 цитирование, 3.45%
Япония, 1, 3.45%
Япония
1 цитирование, 3.45%
1
2
3
4
5
6
7
8
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.

Направления исследований

Алмазоподобные покрытия

+
Алмазоподобные покрытия
Разработка и исследование углеродных алмазоподобных покрытий для деталей эндопротезов для повышения их физико-механических и медико-биологических характеристик. Одной из основных задач проекта является создание научно-технического задела для разработки промышленной технологии производства отечественных эндопротезов, превосходящих по качеству импортные аналоги. В рамках проекта будут проведены исследования процессов формирования алмазоподобных углеродных покрытий, их структуры, а также зависимость характеристик поверхности с покрытием от параметров структуры поверхностного алмазоподобного слоя.

Квазидвумерные магнетики

+
Квазидвумерные магнетики
Используя передовые методы компьютерного дизайна материалов, предполагается разработать новые двумерные графеноподобные структуры, сочетающие в себе уникальные электронные свойства и обладающие высокой магнитной анизотропией, и на основе сравнительного анализа их магнитных и электронных свойств выбрать наиболее технологически пригодные для применения в различных отраслях электронной промышленности, ориентированных на изготовление устройств магнитной записи и обработки информации. Поскольку возможность регулирования свойств данных двухмерных соединений путем допирования и изменения подложки, на которой они выращиваются, позволяет производить материалы с требуемыми для потребителей свойствами, то актуальным является проведение теоретических комплексных исследований их электронных и магнитных структур с выявлением трендов их изменений. Такие исследования позволят на основе первопринципного моделирования различных чистых и допированных двумерных материалов с графеноподобной структурой, выращенных на различных подложках, обосновать требования к магнитным и электронным свойствам этих материалов для применения в спинтронике и электронике. Эти результаты будут методологической основой для разработки научно обоснованных технологий получения широкой номенклатуры новых двумерных магнитных материалов, а также изучения и определения влияния примесей и дефектов на их конечные магнитные и электронные свойства. Это, в свою очередь, расширит область применения данных материалов в технике и производстве наноустройств, например, таких как элементы памяти спинтроники и поверхностей с высокой плотностью магнитной записи.

Публикации и патенты

Найдено 

Партнёры

Адрес лаборатории

2-я Бауманская ул., д.5, стр.1, Москва
Необходимо авторизоваться.