Заведующий лабораторией

Сорокин Павел Борисович

д.ф.-м.н., доц.
Публикаций
200
Цитирований
8 407
Индекс Хирша
40
Необходимо авторизоваться.
Коллектив

Наша лаборатория цифрового материаловедения занимается разработкой и применением квантово-химических методов моделирования различных систем на молекулярном уровне. Наши исследования нацелены на решение широкого круга задач, связанных с исследованием механизмов химических реакций, свойств кристаллов, наноматериалов и биомолекул.

Научная группа, состоящая из высококвалифицированных ученых, научных сотрудников и студентов, работает с использованием передовых методов квантово-химического моделирования и разнообразного программного обеспечения, такого как VASP, Siesta, LAMMPS, Gaussian и т.д.

​Научно-исследовательская деятельность лаборатории включает в себя проведение экспериментов и анализ результатов с использованием вычислительной химии и методов квантовой механики. Мы занимаемся моделированием химических реакций, количественной оценкой стабильности, прогнозированием свойств материалов, анализом электронных структур, определением параметров кристаллических и молекулярных структур, исследованием связывания лекарственных препаратов с носителями, и тому подобное.

  1. DFT расчеты
  2. Молекулярная динамика и квантово-химические расчеты
  3. Квантовая молекулярная динамика
  4. Теория квантовой механики/молекулярной механики (КМ/ММ)
Павел Сорокин 🥼 🤝
Заведующий лабораторией
Любовь Антипина 🥼 🤝
Старший научный сотрудник
Константин Ларионов 🥼 🤝
Научный сотрудник
Ерохин Сергей В
Сергей Ерохин
Научный сотрудник
Всего публикаций
192
Всего цитирований
8351
Цитирований на публикацию
43.49
Среднее число публикаций в год
9.6
Годы публикаций
2005-2024 (20 лет)
h-index
40
i10-index
121
m-index
2
o-index
316
g-index
87
w-index
12
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Топ-100

Области наук

10
20
30
40
50
60
70
80
90
General Materials Science, 89, 46.35%
General Materials Science
89 публикаций, 46.35%
Physical and Theoretical Chemistry, 44, 22.92%
Physical and Theoretical Chemistry
44 публикации, 22.92%
General Chemistry, 42, 21.88%
General Chemistry
42 публикации, 21.88%
Condensed Matter Physics, 41, 21.35%
Condensed Matter Physics
41 публикация, 21.35%
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 39, 20.31%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
39 публикаций, 20.31%
Mechanical Engineering, 30, 15.63%
Mechanical Engineering
30 публикаций, 15.63%
General Physics and Astronomy, 22, 11.46%
General Physics and Astronomy
22 публикации, 11.46%
Bioengineering, 18, 9.38%
Bioengineering
18 публикаций, 9.38%
Mechanics of Materials, 16, 8.33%
Mechanics of Materials
16 публикаций, 8.33%
Surfaces, Coatings and Films, 15, 7.81%
Surfaces, Coatings and Films
15 публикаций, 7.81%
General Chemical Engineering, 15, 7.81%
General Chemical Engineering
15 публикаций, 7.81%
General Energy, 15, 7.81%
General Energy
15 публикаций, 7.81%
Electrical and Electronic Engineering, 14, 7.29%
Electrical and Electronic Engineering
14 публикаций, 7.29%
Physics and Astronomy (miscellaneous), 14, 7.29%
Physics and Astronomy (miscellaneous)
14 публикаций, 7.29%
Materials Chemistry, 11, 5.73%
Materials Chemistry
11 публикаций, 5.73%
Atomic and Molecular Physics, and Optics, 9, 4.69%
Atomic and Molecular Physics, and Optics
9 публикаций, 4.69%
Metals and Alloys, 5, 2.6%
Metals and Alloys
5 публикаций, 2.6%
General Engineering, 5, 2.6%
General Engineering
5 публикаций, 2.6%
General Medicine, 4, 2.08%
General Medicine
4 публикации, 2.08%
Filtration and Separation, 4, 2.08%
Filtration and Separation
4 публикации, 2.08%
Catalysis, 3, 1.56%
Catalysis
3 публикации, 1.56%
Organic Chemistry, 3, 1.56%
Organic Chemistry
3 публикации, 1.56%
Biochemistry, 3, 1.56%
Biochemistry
3 публикации, 1.56%
Inorganic Chemistry, 3, 1.56%
Inorganic Chemistry
3 публикации, 1.56%
Computer Science Applications, 3, 1.56%
Computer Science Applications
3 публикации, 1.56%
Spectroscopy, 3, 1.56%
Spectroscopy
3 публикации, 1.56%
Biomaterials, 3, 1.56%
Biomaterials
3 публикации, 1.56%
Ceramics and Composites, 2, 1.04%
Ceramics and Composites
2 публикации, 1.04%
Molecular Biology, 2, 1.04%
Molecular Biology
2 публикации, 1.04%
Electrochemistry, 2, 1.04%
Electrochemistry
2 публикации, 1.04%
Computational Mathematics, 2, 1.04%
Computational Mathematics
2 публикации, 1.04%
Biomedical Engineering, 2, 1.04%
Biomedical Engineering
2 публикации, 1.04%
General Computer Science, 2, 1.04%
General Computer Science
2 публикации, 1.04%
General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology, 1, 0.52%
General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology
1 публикация, 0.52%
Multidisciplinary, 1, 0.52%
Multidisciplinary
1 публикация, 0.52%
Analytical Chemistry, 1, 0.52%
Analytical Chemistry
1 публикация, 0.52%
Chemistry (miscellaneous), 1, 0.52%
Chemistry (miscellaneous)
1 публикация, 0.52%
Biotechnology, 1, 0.52%
Biotechnology
1 публикация, 0.52%
Polymers and Plastics, 1, 0.52%
Polymers and Plastics
1 публикация, 0.52%
General Mathematics, 1, 0.52%
General Mathematics
1 публикация, 0.52%
Instrumentation, 1, 0.52%
Instrumentation
1 публикация, 0.52%
Surfaces and Interfaces, 1, 0.52%
Surfaces and Interfaces
1 публикация, 0.52%
Energy Engineering and Power Technology, 1, 0.52%
Energy Engineering and Power Technology
1 публикация, 0.52%
Fuel Technology, 1, 0.52%
Fuel Technology
1 публикация, 0.52%
Renewable Energy, Sustainability and the Environment, 1, 0.52%
Renewable Energy, Sustainability and the Environment
1 публикация, 0.52%
Biochemistry (medical), 1, 0.52%
Biochemistry (medical)
1 публикация, 0.52%
10
20
30
40
50
60
70
80
90

Журналы

2
4
6
8
10
12
14
16
Journal of Physical Chemistry C
15 публикаций, 7.81%
Journal of Physical Chemistry Letters
14 публикаций, 7.29%
Nano Letters
13 публикаций, 6.77%
Nanoscale
9 публикаций, 4.69%
Nanomaterials
9 публикаций, 4.69%
JETP Letters
8 публикаций, 4.17%
Carbon
7 публикаций, 3.65%
Physical Chemistry Chemical Physics
6 публикаций, 3.13%
Applied Physics Letters
6 публикаций, 3.13%
Physica Status Solidi (B): Basic Research
6 публикаций, 3.13%
Nano Research
6 публикаций, 3.13%
Physical Review B
5 публикаций, 2.6%
ACS Nano
4 публикации, 2.08%
Physics of the Solid State
4 публикации, 2.08%
Nanotechnology
4 публикации, 2.08%
Journal of Alloys and Compounds
3 публикации, 1.56%
Diamond and Related Materials
3 публикации, 1.56%
Journal of Membrane Science
3 публикации, 1.56%
ChemChemTech
3 публикации, 1.56%
Materials
3 публикации, 1.56%
ACS applied materials & interfaces
2 публикации, 1.04%
Computational Materials Science
2 публикации, 1.04%
Journal of Materials Chemistry C
2 публикации, 1.04%
Acta Materialia
2 публикации, 1.04%
Materials and Design
2 публикации, 1.04%
Physics-Uspekhi
2 публикации, 1.04%
Journal of Applied Physics
2 публикации, 1.04%
International Journal of Molecular Sciences
2 публикации, 1.04%
Journal of Physical Chemistry A
2 публикации, 1.04%
AIP Conference Proceedings
2 публикации, 1.04%
Advanced Materials
2 публикации, 1.04%
Journal of Chemical Theory and Computation
1 публикация, 0.52%
Australian Journal of Chemistry
1 публикация, 0.52%
Ultramicroscopy
1 публикация, 0.52%
Materials Letters
1 публикация, 0.52%
ACS Applied Nano Materials
1 публикация, 0.52%
Advanced Optical Materials
1 публикация, 0.52%
Catalysis Science and Technology
1 публикация, 0.52%
RSC Advances
1 публикация, 0.52%
Nature Communications
1 публикация, 0.52%
Journal of Physics: Conference Series
1 публикация, 0.52%
Journal of the American Chemical Society
1 публикация, 0.52%
Science
1 публикация, 0.52%
Advanced Functional Materials
1 публикация, 0.52%
APL Materials
1 публикация, 0.52%
ACS Energy Letters
1 публикация, 0.52%
Journal of the European Ceramic Society
1 публикация, 0.52%
Small
1 публикация, 0.52%
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
1 публикация, 0.52%
Journal of Materials Science
1 публикация, 0.52%
Applied Surface Science
1 публикация, 0.52%
Journal of Structural Chemistry
1 публикация, 0.52%
Nature Physics
1 публикация, 0.52%
Ceramics International
1 публикация, 0.52%
Synthetic Metals
1 публикация, 0.52%
Crystals
1 публикация, 0.52%
Journal of Siberian Federal University. Mathematics & Physics
1 публикация, 0.52%
Europhysics Letters
1 публикация, 0.52%
Fullerenes Nanotubes and Carbon Nanostructures
1 публикация, 0.52%
Nature Chemistry
1 публикация, 0.52%
Langmuir
1 публикация, 0.52%
Separation and Purification Technology
1 публикация, 0.52%
ACS Applied Bio Materials
1 публикация, 0.52%
ECS Transactions
1 публикация, 0.52%
Russian Chemical Reviews
1 публикация, 0.52%
Materials Today: Proceedings
1 публикация, 0.52%
Beilstein Journal of Nanotechnology
1 публикация, 0.52%
Technical Physics Letters
1 публикация, 0.52%
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
1 публикация, 0.52%
NATO Security through Science Series A: Chemistry and Biology
1 публикация, 0.52%
2
4
6
8
10
12
14
16

Цитирующие журналы

50
100
150
200
250
Журнал не определён, 235, 2.81%
Журнал не определён
235 цитирований, 2.81%
Journal of Physical Chemistry C
229 цитирований, 2.74%
Carbon
192 цитирования, 2.3%
Physical Chemistry Chemical Physics
188 цитирований, 2.25%
Nanoscale
183 цитирования, 2.19%
ACS applied materials & interfaces
169 цитирований, 2.02%
Applied Surface Science
166 цитирований, 1.99%
Physical Review B
163 цитирования, 1.95%
ACS Nano
150 цитирований, 1.8%
Nanotechnology
133 цитирования, 1.59%
Nanomaterials
130 цитирований, 1.56%
Nano Letters
127 цитирований, 1.52%
Applied Physics Letters
118 цитирований, 1.41%
Small
107 цитирований, 1.28%
Advanced Materials
106 цитирований, 1.27%
Diamond and Related Materials
102 цитирования, 1.22%
Journal of Physical Chemistry Letters
100 цитирований, 1.2%
Advanced Functional Materials
91 цитирование, 1.09%
Chemical Engineering Journal
88 цитирований, 1.05%
Computational Materials Science
87 цитирований, 1.04%
Journal of Alloys and Compounds
84 цитирования, 1.01%
Scientific Reports
84 цитирования, 1.01%
Journal of Applied Physics
83 цитирования, 0.99%
Journal of Materials Chemistry A
83 цитирования, 0.99%
RSC Advances
80 цитирований, 0.96%
Separation and Purification Technology
70 цитирований, 0.84%
Journal of Physics Condensed Matter
69 цитирований, 0.83%
Journal of Materials Chemistry C
68 цитирований, 0.81%
International Journal of Hydrogen Energy
68 цитирований, 0.81%
Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures
68 цитирований, 0.81%
JETP Letters
65 цитирований, 0.78%
ACS Applied Nano Materials
63 цитирования, 0.75%
Ceramics International
59 цитирований, 0.71%
Materials
59 цитирований, 0.71%
Nature Communications
56 цитирований, 0.67%
Nano Research
56 цитирований, 0.67%
2D Materials
55 цитирований, 0.66%
Journal of Membrane Science
54 цитирования, 0.65%
Uspekhi Fizicheskih Nauk
46 цитирований, 0.55%
Chemistry of Materials
42 цитирования, 0.5%
Physica B: Condensed Matter
42 цитирования, 0.5%
Advanced Materials Interfaces
42 цитирования, 0.5%
ACS Omega
41 цитирование, 0.49%
Langmuir
41 цитирование, 0.49%
Journal of the American Chemical Society
38 цитирований, 0.45%
Advanced Science
35 цитирований, 0.42%
Physics-Uspekhi
35 цитирований, 0.42%
Journal of Physical Chemistry A
33 цитирования, 0.39%
Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects
33 цитирования, 0.39%
Journal of Chemical Physics
31 цитирование, 0.37%
Materials Today Communications
31 цитирование, 0.37%
Desalination
30 цитирований, 0.36%
Physica Status Solidi (B): Basic Research
29 цитирований, 0.35%
Materials Science & Engineering A: Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing
29 цитирований, 0.35%
Journal of Environmental Chemical Engineering
28 цитирований, 0.34%
npj Computational Materials
28 цитирований, 0.34%
Superlattices and Microstructures
28 цитирований, 0.34%
Chemical Physics Letters
27 цитирований, 0.32%
Physical Review Materials
27 цитирований, 0.32%
Journal of Materials Science
27 цитирований, 0.32%
Physics Letters, Section A: General, Atomic and Solid State Physics
25 цитирований, 0.3%
Angewandte Chemie - International Edition
25 цитирований, 0.3%
Angewandte Chemie
25 цитирований, 0.3%
Surfaces and Interfaces
24 цитирования, 0.29%
Materials Chemistry and Physics
24 цитирования, 0.29%
Chemical Reviews
23 цитирования, 0.28%
Journal Physics D: Applied Physics
23 цитирования, 0.28%
Nanoscale Advances
23 цитирования, 0.28%
Nano Energy
23 цитирования, 0.28%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
22 цитирования, 0.26%
Physical Review Letters
21 цитирование, 0.25%
Chemical Physics
21 цитирование, 0.25%
Applied Catalysis B: Environmental
21 цитирование, 0.25%
Progress in Materials Science
21 цитирование, 0.25%
Russian Chemical Reviews
21 цитирование, 0.25%
Advanced Theory and Simulations
21 цитирование, 0.25%
Advanced Optical Materials
20 цитирований, 0.24%
Materials Research Express
20 цитирований, 0.24%
Materials Today
20 цитирований, 0.24%
C – Journal of Carbon Research
20 цитирований, 0.24%
ACS Applied Electronic Materials
20 цитирований, 0.24%
Journal of Physics: Conference Series
19 цитирований, 0.23%
AIP Advances
19 цитирований, 0.23%
Solid State Communications
19 цитирований, 0.23%
Crystals
19 цитирований, 0.23%
CrystEngComm
18 цитирований, 0.22%
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
18 цитирований, 0.22%
Vacuum
18 цитирований, 0.22%
Journal of Materials Research and Technology
18 цитирований, 0.22%
Journal of Energy Storage
18 цитирований, 0.22%
Physica Scripta
18 цитирований, 0.22%
Journal of Hazardous Materials
18 цитирований, 0.22%
Journal of Water Process Engineering
18 цитирований, 0.22%
Nanoscale Horizons
17 цитирований, 0.2%
ACS Applied Energy Materials
17 цитирований, 0.2%
Chinese Physics B
17 цитирований, 0.2%
Physics of the Solid State
17 цитирований, 0.2%
Industrial & Engineering Chemistry Research
17 цитирований, 0.2%
Journal of Electronic Materials
17 цитирований, 0.2%
Chemical Society Reviews
17 цитирований, 0.2%
50
100
150
200
250

Издатели

10
20
30
40
50
60
American Chemical Society (ACS)
56 публикаций, 29.17%
Elsevier
31 публикация, 16.15%
Royal Society of Chemistry (RSC)
19 публикаций, 9.9%
MDPI
15 публикаций, 7.81%
Pleiades Publishing
14 публикаций, 7.29%
Springer Nature
11 публикаций, 5.73%
Wiley
11 публикаций, 5.73%
AIP Publishing
11 публикаций, 5.73%
IOP Publishing
6 публикаций, 3.13%
American Physical Society (APS)
5 публикаций, 2.6%
Ivanovo State University of Chemistry and Technology
3 публикации, 1.56%
Uspekhi Fizicheskikh Nauk Journal
2 публикации, 1.04%
Taylor & Francis
1 публикация, 0.52%
American Association for the Advancement of Science (AAAS)
1 публикация, 0.52%
American Scientific Publishers
1 публикация, 0.52%
Siberian Federal University
1 публикация, 0.52%
Beilstein-Institut
1 публикация, 0.52%
The Electrochemical Society
1 публикация, 0.52%
CSIRO Publishing
1 публикация, 0.52%
Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii
1 публикация, 0.52%
10
20
30
40
50
60

Организации из публикаций

20
40
60
80
100
120
140
Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»
137 публикаций, 71.35%
Институт биохимической физики им. Н.М. Эмануэля РАН
72 публикации, 37.5%
Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов
71 публикация, 36.98%
Московский физико-технический институт
66 публикаций, 34.38%
Национальный институт материаловедения
29 публикаций, 15.1%
Сибирский Федеральный Университет
27 публикаций, 14.06%
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
24 публикации, 12.5%
Сколковский институт науки и технологий
19 публикаций, 9.9%
Квинслендский технологический университет
16 публикаций, 8.33%
Университет Райса
15 публикаций, 7.81%
Национальные институты квантовой науки и технологий
13 публикаций, 6.77%
Национальный университет Кёнпук
13 публикаций, 6.77%
Университет Аалто
12 публикаций, 6.25%
Университет Цукубы
10 публикаций, 5.21%
Организация не определена, 9, 4.69%
Организация не определена
9 публикаций, 4.69%
Японское агентство по атомной энергии
8 публикаций, 4.17%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
7 публикаций, 3.65%
Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
6 публикаций, 3.13%
Центр им. Гельмгольца Дрезден-Россендорф
5 публикаций, 2.6%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий
5 публикаций, 2.6%
Тулейнский университет
5 публикаций, 2.6%
Новосибирский Государственный Университет
4 публикации, 2.08%
Новосибирский государственный технический университет
4 публикации, 2.08%
ФИЦ "Красноярский научный центр" СО РАН
4 публикации, 2.08%
Берлинский университет имени Гумбольдта
4 публикации, 2.08%
Пекинский университет Цзяотун
4 публикации, 2.08%
Институт технической физики и материаловедения
4 публикации, 2.08%
Уорикский университет
4 публикации, 2.08%
Университет Вуллонгонг
4 публикации, 2.08%
Киотский университет
4 публикации, 2.08%
Объединённый институт ядерных исследований
3 публикации, 1.56%
Харбинский политехнический университет
3 публикации, 1.56%
Фуданьский университет
3 публикации, 1.56%
Тяньцзиньский университет
3 публикации, 1.56%
Корейский научно-исследовательский институт стандартов и науки
3 публикации, 1.56%
Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН
2 публикации, 1.04%
Институт химии и химической технологии СО РАН
2 публикации, 1.04%
Институт спектроскопии РАН
2 публикации, 1.04%
Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН
2 публикации, 1.04%
Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
2 публикации, 1.04%
Российский национальный исследовательский медицинский университет имени Н. И. Пирогова
2 публикации, 1.04%
Государственный научный центр прикладной микробиологии и биотехнологии
2 публикации, 1.04%
Индийский научный институт
2 публикации, 1.04%
Индийский институт технологии в Гувахати
2 публикации, 1.04%
Хэбэйский технологический университет
2 публикации, 1.04%
Наньянский технологический университет
2 публикации, 1.04%
Университет штата Мичиган
2 публикации, 1.04%
Аньхойский университет
2 публикации, 1.04%
Университет штата Пенсильвания
2 публикации, 1.04%
Университет Монаша
2 публикации, 1.04%
Колумбийский университет
2 публикации, 1.04%
Университет Донгук
2 публикации, 1.04%
Чжэнчжоуский университет
2 публикации, 1.04%
Университет Тохоку
2 публикации, 1.04%
Хунаньский университет
2 публикации, 1.04%
Университет Намюра
2 публикации, 1.04%
Венский университет
2 публикации, 1.04%
Университет Кюсю
2 публикации, 1.04%
Научно-исследовательская организация по ускорителям высоких энергий
2 публикации, 1.04%
Университет Николая Коперника
2 публикации, 1.04%
Брненский технический университет
2 публикации, 1.04%
Центрально-Европейский Технологический Институт
2 публикации, 1.04%
Университет Акрона
2 публикации, 1.04%
Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина РАН
1 публикация, 0.52%
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
1 публикация, 0.52%
Институт химии твердого тела и механохимии СО РАН
1 публикация, 0.52%
Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
1 публикация, 0.52%
Курчатовский комплекс "Кристаллография и Фотоника"
1 публикация, 0.52%
Научно-технологический центр уникального приборостроения РАН
1 публикация, 0.52%
Дальневосточный федеральный университет
1 публикация, 0.52%
Институт биохимии имени А. Н. Баха РАН
1 публикация, 0.52%
ФИЦ «Фундаментальные Основы Биотехнологии» РАН
1 публикация, 0.52%
Институт кристаллографии имени А. В. Шубникова
1 публикация, 0.52%
Государственный университет «Дубна»
1 публикация, 0.52%
Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
1 публикация, 0.52%
Российский экономический университет имени Г. В. Плеханова
1 публикация, 0.52%
Национальный медицинский исследовательский центр онкологии им. Н. Н. Блохина Минздрава России
1 публикация, 0.52%
Институт тепло- и массообмена имени А. В. Лыкова НАН Беларуси
1 публикация, 0.52%
Университет Цинхуа
1 публикация, 0.52%
Хуачжунский университет науки и технологии
1 публикация, 0.52%
Институт Вейцмана
1 публикация, 0.52%
Технион - израильский технологический институт
1 публикация, 0.52%
Университет Твенте
1 публикация, 0.52%
Китайский нефтяной университет в Восточном Китае
1 публикация, 0.52%
Восточно-Китайский педагогический университет
1 публикация, 0.52%
Университет Турку
1 публикация, 0.52%
Университет Ювяскюля
1 публикация, 0.52%
Шанхайский университет
1 публикация, 0.52%
Янчжоуский университет
1 публикация, 0.52%
Эймсская лаборатория
1 публикация, 0.52%
Университет штата Айова
1 публикация, 0.52%
Университет Южной Африки
1 публикация, 0.52%
Ульсанский национальный институт науки и технологий
1 публикация, 0.52%
Институт фундаментальных наук
1 публикация, 0.52%
Городской университет Гонконга
1 публикация, 0.52%
Университет Кэйо
1 публикация, 0.52%
Исследовательский центр естественных наук
1 публикация, 0.52%
Исследовательский центр физики Вигнера
1 публикация, 0.52%
Люксембургский университет
1 публикация, 0.52%
Хайнаньский университет
1 публикация, 0.52%
20
40
60
80
100
120
140

Страны из публикаций

20
40
60
80
100
120
140
160
180
Россия, 180, 93.75%
Россия
180 публикаций, 93.75%
Япония, 49, 25.52%
Япония
49 публикаций, 25.52%
США, 22, 11.46%
США
22 публикации, 11.46%
Китай, 21, 10.94%
Китай
21 публикация, 10.94%
Республика Корея, 19, 9.9%
Республика Корея
19 публикаций, 9.9%
Австралия, 16, 8.33%
Австралия
16 публикаций, 8.33%
Финляндия, 13, 6.77%
Финляндия
13 публикаций, 6.77%
Страна не определена, 12, 6.25%
Страна не определена
12 публикаций, 6.25%
Германия, 12, 6.25%
Германия
12 публикаций, 6.25%
Венгрия, 5, 2.6%
Венгрия
5 публикаций, 2.6%
Великобритания, 4, 2.08%
Великобритания
4 публикации, 2.08%
Индия, 4, 2.08%
Индия
4 публикации, 2.08%
Франция, 3, 1.56%
Франция
3 публикации, 1.56%
Израиль, 3, 1.56%
Израиль
3 публикации, 1.56%
Австрия, 2, 1.04%
Австрия
2 публикации, 1.04%
Бельгия, 2, 1.04%
Бельгия
2 публикации, 1.04%
Польша, 2, 1.04%
Польша
2 публикации, 1.04%
Сингапур, 2, 1.04%
Сингапур
2 публикации, 1.04%
Чехия, 2, 1.04%
Чехия
2 публикации, 1.04%
Беларусь, 1, 0.52%
Беларусь
1 публикация, 0.52%
Эстония, 1, 0.52%
Эстония
1 публикация, 0.52%
Ирландия, 1, 0.52%
Ирландия
1 публикация, 0.52%
Люксембург, 1, 0.52%
Люксембург
1 публикация, 0.52%
Мексика, 1, 0.52%
Мексика
1 публикация, 0.52%
Нидерланды, 1, 0.52%
Нидерланды
1 публикация, 0.52%
ЮАР, 1, 0.52%
ЮАР
1 публикация, 0.52%
20
40
60
80
100
120
140
160
180

Цитирующие организации

100
200
300
400
500
600
700
800
900
Организация не определена, 865, 10.36%
Организация не определена
865 цитирований, 10.36%
Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»
174 цитирования, 2.08%
Университет науки и технологий Китая
149 цитирований, 1.78%
Университет Китайской академии наук
137 цитирований, 1.64%
Национальный институт материаловедения
127 цитирований, 1.52%
Институт биохимической физики им. Н.М. Эмануэля РАН
116 цитирований, 1.39%
Московский физико-технический институт
107 цитирований, 1.28%
Университет Цинхуа
101 цитирование, 1.21%
Сколковский институт науки и технологий
100 цитирований, 1.2%
Чжэцзянский университет
100 цитирований, 1.2%
Университет Райса
100 цитирований, 1.2%
Харбинский политехнический университет
99 цитирований, 1.19%
Наньянский технологический университет
97 цитирований, 1.16%
Университет Цзилинь
91 цитирование, 1.09%
Пекинский университет
86 цитирований, 1.03%
Университет Сонгюнгван
80 цитирований, 0.96%
Национальный университет Сингапура
77 цитирований, 0.92%
Квинслендский технологический университет
77 цитирований, 0.92%
Нанкинский университет
76 цитирований, 0.91%
Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов
74 цитирования, 0.89%
Городской университет Гонконга
71 цитирование, 0.85%
Чжэнчжоуский университет
67 цитирований, 0.8%
Университет Аалто
63 цитирования, 0.75%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий
61 цитирование, 0.73%
Тяньцзиньский университет
59 цитирований, 0.71%
Ульсанский национальный институт науки и технологий
59 цитирований, 0.71%
Университет Цзянсу
58 цитирований, 0.69%
Институт физики Китайской академии наук
57 цитирований, 0.68%
Сианьский университет Цзяотун
54 цитирования, 0.65%
Агентство науки, технологий и исследований
54 цитирования, 0.65%
Сычуаньский университет
53 цитирования, 0.63%
Шэньчжэньский Университет
53 цитирования, 0.63%
Шаньдунский университет
53 цитирования, 0.63%
Нанкинский университет аэронавтики и астронавтики
52 цитирования, 0.62%
Сямэньский университет
51 цитирование, 0.61%
Университет штата Пенсильвания
51 цитирование, 0.61%
Институт фундаментальных наук
51 цитирование, 0.61%
Фуданьский университет
50 цитирований, 0.6%
Сибирский Федеральный Университет
48 цитирований, 0.57%
Даляньский технологический университет
47 цитирований, 0.56%
Ок-Риджская национальная лаборатория
47 цитирований, 0.56%
Хэбэйский технологический университет
44 цитирования, 0.53%
Хунаньский университет
44 цитирования, 0.53%
Уханьский университет
43 цитирования, 0.51%
Университет Сучжоу (Сучжоу)
42 цитирования, 0.5%
Пекинский технологический институт
41 цитирование, 0.49%
Центр совместных инноваций передовых микроструктур
41 цитирование, 0.49%
Бэйханский университет
40 цитирований, 0.48%
Университет Фучжоу
40 цитирований, 0.48%
Массачусетский технологический институт
40 цитирований, 0.48%
Центральный южный университет
39 цитирований, 0.47%
Университет имени Сунь Ятсена
39 цитирований, 0.47%
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
38 цитирований, 0.46%
Северо-западный политехнический университет
38 цитирований, 0.46%
Нинбоский институт промышленных технологий, Китайская академия наук
38 цитирований, 0.46%
Корейский институт науки и технологий
37 цитирований, 0.44%
Национальный университет Кёнпук
37 цитирований, 0.44%
Пекинская национальная лаборатория молекулярных наук
37 цитирований, 0.44%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
36 цитирований, 0.43%
Токийский университет
36 цитирований, 0.43%
Институт исследования металлов, Китайская академия наук
36 цитирований, 0.43%
Хуачжунский университет науки и технологии
35 цитирований, 0.42%
Университет электронных наук и технологий Китая
35 цитирований, 0.42%
Кембриджский университет
35 цитирований, 0.42%
Университет Дикина
35 цитирований, 0.42%
Университет Тунцзи
34 цитирования, 0.41%
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
33 цитирования, 0.4%
Шанхайский университет
33 цитирования, 0.4%
Университет Цукубы
33 цитирования, 0.4%
Университет Вуллонгонг
33 цитирования, 0.4%
Гонконгский политехнический университет
33 цитирования, 0.4%
Техасский университет в Остине
33 цитирования, 0.4%
Ланьчжоуский институт химической физики Китайской академии наук
33 цитирования, 0.4%
Шанхайский университет Цзяотун
32 цитирования, 0.38%
Нанкинский университет науки и технологий
32 цитирования, 0.38%
Манчестерский университет
32 цитирования, 0.38%
Юго-Восточный университет
31 цитирование, 0.37%
Пекинский научно-технический университет
31 цитирование, 0.37%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли
31 цитирование, 0.37%
Университет Париж-Сакле
31 цитирование, 0.37%
Институт высокопроизводительных вычислений
31 цитирование, 0.37%
Нанкинский технологический университет
30 цитирований, 0.36%
Университет Ёнсе
30 цитирований, 0.36%
Южно-китайский технологический университет
29 цитирований, 0.35%
Восточно-Китайский университет науки и технологий
29 цитирований, 0.35%
Пхоханский университет науки и технологий
29 цитирований, 0.35%
Куньминский университет науки и технологий
29 цитирований, 0.35%
Исламский университет Азад, Тегеран
28 цитирований, 0.34%
Уппсальский университет
28 цитирований, 0.34%
Хэнаньский университет
28 цитирований, 0.34%
Киотский университет
28 цитирований, 0.34%
Институт полупроводников Китайской академии наук
28 цитирований, 0.34%
Дрезденский технический университет
27 цитирований, 0.32%
Южный университет науки и технологий
27 цитирований, 0.32%
Мельбурнский королевский технологический университет
27 цитирований, 0.32%
Институт материаловедения и инженерии
27 цитирований, 0.32%
Российский экономический университет имени Г. В. Плеханова
26 цитирований, 0.31%
Университет Тегерана
26 цитирований, 0.31%
Чунцинский университет
26 цитирований, 0.31%
Корейский институт передовых технологий
26 цитирований, 0.31%
100
200
300
400
500
600
700
800
900

Цитирующие страны

500
1000
1500
2000
2500
3000
3500
Китай, 3049, 36.51%
Китай
3049 цитирований, 36.51%
США, 1085, 12.99%
США
1085 цитирований, 12.99%
Страна не определена, 844, 10.11%
Страна не определена
844 цитирования, 10.11%
Россия, 671, 8.03%
Россия
671 цитирование, 8.03%
Индия, 454, 5.44%
Индия
454 цитирования, 5.44%
Республика Корея, 391, 4.68%
Республика Корея
391 цитирование, 4.68%
Япония, 375, 4.49%
Япония
375 цитирований, 4.49%
Австралия, 300, 3.59%
Австралия
300 цитирований, 3.59%
Германия, 259, 3.1%
Германия
259 цитирований, 3.1%
Великобритания, 242, 2.9%
Великобритания
242 цитирования, 2.9%
Сингапур, 228, 2.73%
Сингапур
228 цитирований, 2.73%
Иран, 225, 2.69%
Иран
225 цитирований, 2.69%
Франция, 159, 1.9%
Франция
159 цитирований, 1.9%
Италия, 127, 1.52%
Италия
127 цитирований, 1.52%
Бразилия, 123, 1.47%
Бразилия
123 цитирования, 1.47%
Саудовская Аравия, 106, 1.27%
Саудовская Аравия
106 цитирований, 1.27%
Испания, 105, 1.26%
Испания
105 цитирований, 1.26%
Турция, 100, 1.2%
Турция
100 цитирований, 1.2%
Канада, 99, 1.19%
Канада
99 цитирований, 1.19%
Финляндия, 88, 1.05%
Финляндия
88 цитирований, 1.05%
Бельгия, 73, 0.87%
Бельгия
73 цитирования, 0.87%
Швеция, 73, 0.87%
Швеция
73 цитирования, 0.87%
Пакистан, 68, 0.81%
Пакистан
68 цитирований, 0.81%
Польша, 55, 0.66%
Польша
55 цитирований, 0.66%
Нидерланды, 51, 0.61%
Нидерланды
51 цитирование, 0.61%
Мексика, 47, 0.56%
Мексика
47 цитирований, 0.56%
Чехия, 47, 0.56%
Чехия
47 цитирований, 0.56%
Египет, 44, 0.53%
Египет
44 цитирования, 0.53%
Израиль, 44, 0.53%
Израиль
44 цитирования, 0.53%
Вьетнам, 41, 0.49%
Вьетнам
41 цитирование, 0.49%
Дания, 41, 0.49%
Дания
41 цитирование, 0.49%
Малайзия, 41, 0.49%
Малайзия
41 цитирование, 0.49%
ЮАР, 41, 0.49%
ЮАР
41 цитирование, 0.49%
Венгрия, 37, 0.44%
Венгрия
37 цитирований, 0.44%
Швейцария, 34, 0.41%
Швейцария
34 цитирования, 0.41%
Австрия, 32, 0.38%
Австрия
32 цитирования, 0.38%
Бангладеш, 28, 0.34%
Бангладеш
28 цитирований, 0.34%
Беларусь, 27, 0.32%
Беларусь
27 цитирований, 0.32%
Ирак, 27, 0.32%
Ирак
27 цитирований, 0.32%
Ирландия, 24, 0.29%
Ирландия
24 цитирования, 0.29%
Украина, 22, 0.26%
Украина
22 цитирования, 0.26%
Марокко, 22, 0.26%
Марокко
22 цитирования, 0.26%
Таиланд, 20, 0.24%
Таиланд
20 цитирований, 0.24%
Катар, 17, 0.2%
Катар
17 цитирований, 0.2%
Чили, 17, 0.2%
Чили
17 цитирований, 0.2%
Норвегия, 16, 0.19%
Норвегия
16 цитирований, 0.19%
ОАЭ, 16, 0.19%
ОАЭ
16 цитирований, 0.19%
Сербия, 15, 0.18%
Сербия
15 цитирований, 0.18%
Греция, 14, 0.17%
Греция
14 цитирований, 0.17%
Румыния, 12, 0.14%
Румыния
12 цитирований, 0.14%
Тунис, 11, 0.13%
Тунис
11 цитирований, 0.13%
Португалия, 10, 0.12%
Португалия
10 цитирований, 0.12%
Алжир, 10, 0.12%
Алжир
10 цитирований, 0.12%
Индонезия, 10, 0.12%
Индонезия
10 цитирований, 0.12%
Колумбия, 10, 0.12%
Колумбия
10 цитирований, 0.12%
Нигерия, 10, 0.12%
Нигерия
10 цитирований, 0.12%
Аргентина, 9, 0.11%
Аргентина
9 цитирований, 0.11%
Гонконг (САР), 9, 0.11%
Гонконг (САР)
9 цитирований, 0.11%
Непал, 9, 0.11%
Непал
9 цитирований, 0.11%
Литва, 8, 0.1%
Литва
8 цитирований, 0.1%
Словакия, 8, 0.1%
Словакия
8 цитирований, 0.1%
Словения, 8, 0.1%
Словения
8 цитирований, 0.1%
Казахстан, 7, 0.08%
Казахстан
7 цитирований, 0.08%
Доминиканская Республика, 7, 0.08%
Доминиканская Республика
7 цитирований, 0.08%
Пуэрто-Рико, 7, 0.08%
Пуэрто-Рико
7 цитирований, 0.08%
Филиппины, 7, 0.08%
Филиппины
7 цитирований, 0.08%
Армения, 6, 0.07%
Армения
6 цитирований, 0.07%
Новая Зеландия, 6, 0.07%
Новая Зеландия
6 цитирований, 0.07%
Узбекистан, 6, 0.07%
Узбекистан
6 цитирований, 0.07%
Эстония, 5, 0.06%
Эстония
5 цитирований, 0.06%
Болгария, 4, 0.05%
Болгария
4 цитирования, 0.05%
Бруней-Даруссалам, 4, 0.05%
Бруней-Даруссалам
4 цитирования, 0.05%
Хорватия, 4, 0.05%
Хорватия
4 цитирования, 0.05%
Шри-Ланка, 4, 0.05%
Шри-Ланка
4 цитирования, 0.05%
Иордания, 3, 0.04%
Иордания
3 цитирования, 0.04%
Кувейт, 3, 0.04%
Кувейт
3 цитирования, 0.04%
Ливан, 3, 0.04%
Ливан
3 цитирования, 0.04%
Монголия, 3, 0.04%
Монголия
3 цитирования, 0.04%
Оман, 3, 0.04%
Оман
3 цитирования, 0.04%
Тайвань, 3, 0.04%
Тайвань
3 цитирования, 0.04%
Азербайджан, 2, 0.02%
Азербайджан
2 цитирования, 0.02%
Бахрейн, 2, 0.02%
Бахрейн
2 цитирования, 0.02%
Гана, 2, 0.02%
Гана
2 цитирования, 0.02%
Камерун, 2, 0.02%
Камерун
2 цитирования, 0.02%
Кения, 2, 0.02%
Кения
2 цитирования, 0.02%
Латвия, 2, 0.02%
Латвия
2 цитирования, 0.02%
Люксембург, 2, 0.02%
Люксембург
2 цитирования, 0.02%
Палестина, 2, 0.02%
Палестина
2 цитирования, 0.02%
Уругвай, 2, 0.02%
Уругвай
2 цитирования, 0.02%
Эквадор, 2, 0.02%
Эквадор
2 цитирования, 0.02%
Эфиопия, 2, 0.02%
Эфиопия
2 цитирования, 0.02%
Босния и Герцеговина, 1, 0.01%
Босния и Герцеговина
1 цитирование, 0.01%
Венесуэла, 1, 0.01%
Венесуэла
1 цитирование, 0.01%
Грузия, 1, 0.01%
Грузия
1 цитирование, 0.01%
Исландия, 1, 0.01%
Исландия
1 цитирование, 0.01%
Йемен, 1, 0.01%
Йемен
1 цитирование, 0.01%
Кипр, 1, 0.01%
Кипр
1 цитирование, 0.01%
Кыргызстан, 1, 0.01%
Кыргызстан
1 цитирование, 0.01%
Конго - Киншаса, 1, 0.01%
Конго - Киншаса
1 цитирование, 0.01%
Молдова, 1, 0.01%
Молдова
1 цитирование, 0.01%
500
1000
1500
2000
2500
3000
3500
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.

Направления исследований

Предложен перспективный сорбент для очистки сточных вод от антибиотиков

+
Статья опубликована в журнале Nanomaterials. В результате постоянного роста объемов использования лекарственных средств накопление антибиотиков и продуктов их распада в сточных водах стало серьезной проблемой для человека и окружающей среды. Чаще всего антибиотики попадают в реки и грунтовые воды в качестве отходов от фармацевтических предприятий, медицинских и аптечных учреждений, сельского хозяйства. Присутствие антибиотиков в воде приводит к росту устойчивости к ним бактерий и микроорганизмов, развитию аллергических реакций, и даже размножению опасных бактерий. В настоящее время существуют различные методы очистки сточных вод, однако, у каждого метода есть свои ограничения. Один из самых простых и недорогих методов отчистки, не требующих сложных производственных конструкций или проведения дополнительных химических реакций, является сорбция. Именно на нее и сделали упор сотрудники Лаборатории цифрового материаловедения и научно-исследовательского центра «Неорганические наноматериалы» НИТУ МИСИС. Для предложенного метода нет необходимости создавать специальное дорогостоящее оборудование или искусственно вводить в систему дополнительные химические или биологически активные компоненты, способные нарушить экологический баланс. Достаточно просто пропустить загрязненную воду через фильтр или суспензию из наночастиц нитрида бора. Сорбент, созданный исследователями на основе гексагонального нитрида бора, способен эффективно очищать сточные воды антибиотиков. В своем исследовании сотрудники НИТУ МИСИС выбрали три вида антибиотиков, являющиеся одними из самых распространенных загрязнителей: ципрофлоксацин, тетрациклин и бициллин. В дальнейшем ученые планируют увеличить сорбционную емкость наночастиц путем нанесения полимера и осаждения ионов металла, а также расширить спектр исследуемых антибиотиков.

Магнитный туннельный переход на основе полуметаллического сплава Гейслера/МоS2

+
Магнитный туннельный переход на основе полуметаллического сплава Гейслера/МоS2
Статья была опубликована в ACS Applied Materials & Interfaces. Несмотря на значительный прогресс в последние десятилетия, ультратонкие оксидные (MgO и Al2O3) спейсеры, служащие туннельными барьерами, не обеспечивали достаточного значения магнитосопротивления (MR) в вертикальном спин-клапане. В последнее время в качестве альтернативных спейсеров стали рассматриваться двумерные материалы, демонстрирующие чрезвычайно большое разнообразие электронных и структурных свойств. Графен и h-BN были рассмотрены как низкоомные барьеры для вертикального спинового клапана. Кроме них, использование дихалькогенидов переходных металлов (ДПМ) может значительно расширить разнообразие электронных свойств и настроить эффективность магнитных переходов. Помимо надлежащего выбора 2D спейсеров, большое значение имеет поиск идеального источника спин-поляризованных электронов. С этой целью уже несколько десятилетий рассматриваются полуметаллические материалы, включая сплавы Гейслера, такие как Co2FeGe1/2Ga1/2, Co2MnSi, CoFeMnSi, Co2FeAl1/2Si1/2 и другие. В данной работе предложен и теоретически исследован нового магнитного туннельного перехода на основе электродов из сплава Гейслера Co2FeGe1/2Ga1/2 и спейсера MoS2 как перспективного элемента для устройств спинтроники. Методом DFT исследованы электронные и магнитные свойства границы раздела MoS2/CFGG как для случая FeGeGa-, так и Co-терминирования поверхности CFGG. Продемонстрирован устойчивый ферромагнетизм по всей толщине пленки CFGG. Показано, что спиновая поляризация подавляется в нескольких внешних атомных слоях CFGG из-за межфазных взаимодействий и быстро восстанавливается в пределах четырех атомных слоев (до 5 Å). Далее, изучается спин-зависимый баллистический транспорт магнитного туннельного перехода CFGG/MoS2/CFGG в рамках неравновесного формализма функции Грина для спейсеров MoS2, варьирующихся от монослойных до четырехслойных пленок. В случае нулевого смещения значения магнитосопротивления находятся в диапазоне 10^4-10^5 %. Также получены воль-амперные характеристики, демонстрирующие сохранение больших значений MR при напряжении смещения. Наряду с последними достижениями в синтезе гетероструктуры графен/CFGG, данная работа поддерживает дальнейшие экспериментальные и теоретические исследования полуметаллических магнитных переходов на основе сплава Гейслера, обладающих высокой эффективностью в спинтронике.

Оксид диамана. Двумерная пленка со смешанным покрытием и разнообразными электронными свойствами

+
Оксид диамана. Двумерная пленка со смешанным покрытием и разнообразными электронными свойствами
Статья опубликована в J. Phys. Chem. Lett. Возможность легкого окисления sp2-гибридизированного углерода дает доступ к оксиду графена, одному из старейших и наиболее подробно изученных производных графена. Относительно недорогой и широко доступный GO является привлекательным материалом для различных применений в области сенсорики, хранения энергии, двумерной электроники и оптоэлектроники, фотокатализа и мемристоров и т.д. Оксид графена является монослойным материалом, дальнейшее развитие которого может быть посвящено изучению более толстой структуры, такой как бислойный оксид графена. Гидрирование или фторирование бислойного графена приводит к безбарьерному соединению слоев в sp3-гибридизированную структуру, называемую диаманом. Предсказанный нами эффект химически индуцированного перехода был многократно подтвержден в эксперименте. Важно отметить, что, несмотря на успешный синтез диамана с помощью гидрирования и фторирования, в большинстве работ связывание графена связано с осаждением оксидных групп на его поверхности. В отличие от гидрированного и фторированного диамана, структура окисленного диамана до сих пор детально не изучена. Существует лишь ограниченное число работ, в которых предложены относительно простые модели. Это является препятствием для дальнейшего анализа и интерпретации экспериментальных данных. Основная проблема заключается в том, что оксид графена (как и оксид диамана) можно рассматривать как двумерный твердый раствор различных функциональных групп, статистически распределенных на поверхности графена. Вероятно, это справедливо и для оксида диамана, поэтому описание его структуры требует рассмотрения его как твердого раствора различных функциональных групп, как мы предложили для оксида графена. В представленной работе мы попытались восполнить этот пробел и выяснить детали образования оксида диамана, а также его свойства. Мы изучили идею о том, что кислородсодержащие группы способны нарушить π-систему и полностью покрыть внешнюю поверхность многослойного графена, изменяя гибридизацию атомов углерода с sp2 на sp3. Сначала мы нашли энергетически выгодные структуры диаманов с полным покрытием поверхности H, -OH или пероксидными функциональными группами. Затем мы выявили термодинамический диапазон стабильности в зависимости от внешнего давления и химического окружения, определяемый выбором прекурсора. В частности, мы обнаружили, что обычно используемый источник кислорода, H2O, требует приложения давления для образования стабильного окисленного диамана, что находится в полном соответствии с экспериментальными данными. Далее мы изучили возможность регулирования электронных свойств в энергетически выгодных пленках диамана. Мы показали, что в зависимости от концентрации OH-групп на поверхности запрещённая зона оксида диамана может изменяться от 4,6 эВ до 6,5 эВ, а эффективная масса варьируется от 1,1 м0 до 0,6 м0. Для двух наиболее репрезентативных пленок, а именно H-диамана и OH-диамана, мы изучили, как их электронные состояния изменяются в зависимости от толщины пленки. Мы показали, что двухслойный диаман ведет себя как однородный полупроводник, в то время как более толстые пленки с более чем 5 слоями включают поверхностные и объемные области с различными свойствами проводимости.

Роль структурных дефектов в росте двумерного алмаза из графена

+
Роль структурных дефектов в росте двумерного алмаза из графена
Работа была опубликована в журнале Nanomaterials. Синтез двумерного алмаза является сложнейшей задачей, поскольку в отличие от графена и многих других двумерных материалов, диаман не может быть расщеплен из кристалла. Более того, термодинамический анализ показывает, что алмазная пленка из нескольких слоев без стабилизирующего слоя является нестабильной и распадается на многослойный графен, поскольку поверхностная энергия алмаза выше, чем у графита. Этот вывод подтверждается экспериментом, в которых графен подвергался высоким давлениям в алмазной камере. Было получено, что давление алмазообразования в многослойном графене было намного выше, чем в алмазе, при этом образовавшиеся алмазные плёнки были нестабильными при после снятия давления. Наиболее перспективным способом получения двумерного алмаза представляется использование графена в качестве прекурсора, на который осаждаются сторонние атомы (например, водород). В этом случае термодинамическая стабильность материала полностью меняется, ранее нестабильная алмазная пленка становится энергетически выгодной, а графеновые слои стремятся соединиться друг с другом. Несмотря на ряд обнадеживающих экспериментальных результатов, подтверждающих подобные предсказания, вопрос о синтезе диамана далек от разрешения. Действительно, зарождению диамана в графене препятствует высокая стабильность графеновой π-системы, сопротивляющейся присоединению новых атомов. В результате только два слоя графена могут быть относительно легко соединены, и только в случае использования водородной плазмы в качестве источника водорода. В случае использования H2 можно ожидать появления значительного барьера зарождения, который может быть преодолен только с помощью высокого давления и температуры. Однако действительная структура графена содержит структурные дефекты, которые могут быть использованы в качестве центров зарождения, что может позволить синтезировать диаман в менее жестких условиях. В представленной работе мы подробно исследовали такой эффект. Для этого мы изучили одни из наиболее распространенных структурных дефектов в графене и выявили их влияние на зарождение алмаза. Мы обнаружили, что тип и концентрация структурных дефектов могут в достаточной степени влиять на начальную и, что особенно важно, на последующие стадии зарождения алмаза. При этом влияние дефектов на прочность связи C-H исчезает уже на второй координационной сфере. Мы показали, что агломерация вакансий (которая может быть произведена низкоэнергетическим ионным облучением) может в достаточной степени расширить реакционную область, что исчезает барьер зарождения для первых стадий зарождения. Влияние дефектов Стоуна-Уэльса меньше, но все же способствует гидрированию и связыванию графеновых слоев. Мы показываем, что 1D дефект (дислокация) не только способствует алмазообразованию, но и может привести к появлению 2D алмаза, состоящего из химически связанных зерен различной кристаллографической ориентации. Поэтому поликристаллический графен, обычно наблюдаемый в эксперименте, может стать основой для специфических поликристаллов 2D алмаза, содержащие различные поверхности. Даже гексагональные и кубические 2D алмазы могут сосуществовать вместе в одной пленке с энергией границ зерен, сравнимой с аналогичными значениями для других двумерных углеродных структур.

Края в двухслойном h-BN. Особенности атомной структуры

+
Статья была опубликована в Nanoscale (2022). Поверхность всегда представляла особый интерес из-за широкой вариабельности ее структуры и наличия необычных свойств. С другой стороны, "поверхность поверхности" - край наноструктуры может оказаться не менее важным и привнести новые явления. Точное формирование краев на двумерных материалах при определенной кристаллографической ориентации является сложной задачей и требует точных знаний о их химических свойствах. В некоторых случаях край демонстрирует очень специфическую структуру. Например, края многослойного графена имеют тенденцию соединяться друг с другом. Случай двухслойного графена был подробно исследован, и было показано, что соединение краев даже не требует преодоления какого-либо барьера, и поэтому спонтанно образуется полая sp2-гибридизированная графеновая структура. В нашей предыдущей работе было показано, что структура замкнутых краёв биграфена на самом деле строго определена и может быть представлена как изогнутая граница раздела между разориентированными (в общем случае) графеновых зёрен. Понимание структуры края важно и для случая образования отверстий в двумерной структуре, поскольку это привлекательный объект для изменения свойств материала. Для однослойного графена было проведено множество исследований по изучению отверстий для секвенирования ДНК, зондирования газов, фильтрации ионов и молекул (в частности, опреснения воды), молекулярного транспорта и др. Несколько аналогичных исследований также было проведено с гексагональным нитридом бора (h-BN) и дисульфидом молибдена (MoS2). Разнообразие форм отверстий и типов пассивации их краев не позволяет проводить систематические экспериментальные исследования. Обычно исследования сосредоточены на тестах производительности без информации о конфигурации кромок и химической стабильности, которые могут существенно повлиять на производительность. Двойник углерода, нитрид бора, менее изучен в этом отношении, хотя представляется перспективным создание дырок не в биграфене, а именно в двухслойном h-BN. Действительно, сильная тенденция слоев к упаковке AA' позволяет быть уверенным в том, что двухслойная структура будет заранее предопределена. Однако остается совершенно неясным, какие края многослойного h-BN будут иметь тенденцию к закрытию и какова будет окончательная структура. Структура краев многослойного h-BN обычно неизвестна, тогда как из общей логики можно ожидать аналогичного эффекта самопассивации из-за близких значений изгибной жесткости и краевой энергии. Представленная работа посвящена исследованию краев двухслойных h-BN. Показано, что края имеют тенденцию к соединению независимо от среза. Бездефектного соединения можно ожидать только в случае зигзагообразного края, в других случаях образуется ряд тетрагональных и октагональных дефектов. Этот результат был получен при проведении аналогии между краем двухслойного h-BN и границей раздела монослойного h-BN (см. рисунок). Информация о структуре и энергетике замкнутых краев позволила предсказать форму отверстий в h-BN, которая согласуется с экспериментальными данными. Наконец, показано, что закрытые края не создают состояний в запрещённой зоне, тем самым не изменяя диэлектричность h-BN.

Полупроводниковые каналы в углеродных нанотрубках с помощью термомеханического изменения хиральности

+
Работа опубликована в журнале Science 374, 1616-1620 (2021) Данная работа сделана совместно с рядом зарубежных институтов, основной эксперимент в которой был проведен в NIMS (Цукуба, Япония), проф. D.M.Tang. Экспериментальные измерения хиральности в процессе растяжения углеродных нанотрубок (УНТ) и нагрева до 2000 K показали, что в её центральном участке происходила пластическая деформация, при этом наблюдалась четкая тенденция увеличения хирального угла. Интересно, что это противоречило прошлой теоретической модели, описывающей пластическую деформацию через движение дислокационных ядер (дефектов 5|7, соседние пятиугольник и семиугольник), возникающих при высоких деформациях в УНТ из дефекта Стоуна-Уэйлса, и предсказывающей постепенное уменьшение хирального угла. Экспериментальные условия позволили предположить, что в связи с крайне медленным удлинением нагретой нанотрубки образование дефектов Стоуна-Уэйлса (и их дальнейшая их трансформация в дислокационные ядра 5|7) не может являться основной причиной изменения хиральности, поскольку процесс образования таких дефектов при этих условиях является обратимым. Для решения обозначенной проблемы нами был предложен и теоретически описан новый механизм, согласно которому дислокации образуются в результате испарения димеров углерода (C2) и связанного с этим образования дефектов 5|8|5. Данный дефект может разделиться на дислокации 5|7, как в результате поворота связей, так и за счёт дальнейшего испарения углерода (Рис. (d,e)). Рассчитанная энергия образования дефектов 5|8|5 в зависимости от углов хиральности методами теории функционала плотности показывает, что в УНТ с малым хиральным углом энергетически выгоднее появляться дислокациям с вектором Бюргерса (1,0), которые в результате движения по структуре увеличивают хиральный угол. Также мы рассчитали отношение вероятностей образования дислокаций (1,0) и (0,1) для предсказания тенденции хиральности согласно нашей модели. Результат (Рис. (f)) позволил достаточно точно описать экспериментальные наблюдения и объяснить природу механизма пластической деформации нанотрубок при высоких температурах и медленном растяжении. Таким образом, нами был изучен метод локального изменения хиральности, который позволяет реализовать контакт металл-полупроводник-металл в одностенных углеродных нанотрубках, то есть создать внутримолекулярный транзистор на основе нанотрубок.

Экспериментальное и численное исследование наноструктурированных материалов на основе графена и его соединений

+
Проект посвящён развитию новых средств получения наноструктурированных материалов и исследованию новых материалов на основе графена с электрическими, механическими и оптическими свойствами, перспективными для различных приложений. Исследование создаваемых материалов будет осуществлено не только экспериментально, но и с привлечением численных методов моделирования. Для успешного развития графеновой электроники крайне важно понимание физики влияния различных особенностей структуры материала на его электрические и оптические свойства. Такими особенностями могут быть края, границы раздела между областями с различными параметрами решётки, механические напряжения.

Исследование новых классов наноматериалов с необычной структурой: плёнки моноатомной толщины на основе d-металлов и квазиодномерные ван-дер-ваальсовые нанопровода и наноленты состава M2X3 и M2X3Y8

+
В проекте будут изучены стабильность и свойства нового класса наноматериалов с особой атомной структурой, определяемой низкой размерностью. Новизна проекта в первую очередь обуславливается выбором объектов исследования, систематическое изучение и описание которых (несмотря на их перспективность) до сих пор не было проведено. Мы предлагаем впервые исследовать два семейства материалов, каждое из которых имеет свои привлекательные свойства: плёнки моноатомной толщины на основе ряда металлов и квазиодномерные структуры бинарного M2X3 и тернарного M2X3Y8 составов. В проекте будет проведено комплексное теоретическое изучение структуры и физико-химических свойств таких объектов, а также будет осуществлено предсказание механизмов их получения и определение потенциальных областей применения. Полученные данные значительно расширят фундаментальные знания о низкоразмерных наноматериалах, позволят всесторонне описать их потенциальные свойства, а результаты проекта станут базой для дальнейшего проведения контролируемого синтеза наноструктур c необходимым составом и свойствами, что, несомненно, вызовет интерес научного сообщества к данной проблеме и может перевести развитие области синтеза низкоразмерных материалов на новый уровень.

Химически индуцированный фазовый переход в низкоразмерных структурах

+
Контролируемое изменение структуры наноматериалов на атомном уровне является важнейшей задачей современного материаловедения. Влияние поверхности выражается в необходимости учёта размера наноструктур при описании их стабильности. Особенно отчётливо данная проблема проявляется при исследовании фазовой трансформации наноматериалов, когда их энергия начинает зависеть не только от внешних условий, но и от вклада поверхностных эффектов. Например, классическая фазовая диаграмма Банди углерода меняется при уменьшении толщины углеродной плёнки, давление фазового перехода графит-алмаз увеличивается, что отражает увеличение нестабильности алмаза при уменьшении его размера. При достижении атомарной толщины алмазные плёнки должны демонстрировать ряд крайне привлекательных физических свойств, однако их синтез требует принципиально иных подходов. Естественным для сегодняшней науки кажутся два пути синтеза наноматериала: способы «сверху-вниз» и «снизу-вверх». Способ «сверху-вниз», когда макроскопический материал разделяется до необходимой наноструктуры, не рассматривался, поскольку, вероятно, является невозможным получение алмазных плёнок нанометровой толщины путём разделения кристалла алмаза. Способ «снизу-вверх» (необходимая наноструктура синтезируется из наноструктур меньших размеров), кажется, для данного случая наиболее привлекательным, хотя и, безусловно, требует преодоления ряда нетривиальных научных проблем. Традиционный метод химического осаждения из газовой фазы неприменим для решения задачи получения алмазов атомарной толщины из-за высокой скорости роста алмазных слоёв и их неоднородности на атомном уровне. Поэтому в данной работе будет рассмотрен другой вариант получения алмазных плёнок, когда исходным материалом является не пар, а двухслойная графеновая плёнка. Образование алмазных пленок происходит путём контролируемой химической реакции двух графеновых листов со сторонними атомами – главным образом водородом или фтором. Такой способ будет опробован нами экспериментально, а теоретически мы детально изучим механизм трансформации графеновых слоёв не только в случае бислойного графена, но также и других структур на основе слабо связанных слоёв – двухслойных углеродных нанотрубок и родственных наноматериалов.

Публикации и патенты

Найдено 

Новости лаборатории

Адрес лаборатории

Ленинский пр 4, каб. Б-435а
Необходимо авторизоваться.