Photoreactors for Wastewater Treatment: A Review
Тип публикации: Journal Article
Дата публикации: 2010-11-01
SCImago Q3
БС4
SJR: 0.22
CiteScore: 2
Impact factor: —
ISSN: 18722121
General Engineering
Для доступа к списку цитирований публикации необходимо авторизоваться.
Топ-30
Журналы
|
1
2
3
4
5
|
|
|
Catalysts
5 публикаций, 9.43%
|
|
|
Applied Catalysis B: Environmental
4 публикации, 7.55%
|
|
|
Chemical Engineering Journal
3 публикации, 5.66%
|
|
|
Processes
2 публикации, 3.77%
|
|
|
Environmental Science and Pollution Research
2 публикации, 3.77%
|
|
|
Environmental Engineering Science
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Nanomaterials
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Materials
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Foods
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Applied Sciences (Switzerland)
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Inventions
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Surfaces and Interfaces
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Journal of Materials Research and Technology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Separation and Purification Technology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Journal of Industrial and Engineering Chemistry
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Inorganic Chemistry Communication
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Catalysis Today
1 публикация, 1.89%
|
|
|
ChemPhotoChem
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Journal of Chemical Technology and Biotechnology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
International Journal of Energy Research
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Separation Science and Technology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Interface Science and Technology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Journal of Nanotechnology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Green Chemistry and Sustainable Technology
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Environmental Nanotechnology, Monitoring and Management
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Journal of Environmental Chemical Engineering
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Materials Science in Semiconductor Processing
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Industrial & Engineering Chemistry Research
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Gels
1 публикация, 1.89%
|
|
|
1
2
3
4
5
|
Издатели
|
5
10
15
20
25
|
|
|
Elsevier
22 публикации, 41.51%
|
|
|
MDPI
13 публикаций, 24.53%
|
|
|
Wiley
8 публикаций, 15.09%
|
|
|
Springer Nature
3 публикации, 5.66%
|
|
|
Mary Ann Liebert
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Korean Society of Industrial Engineering Chemistry
1 публикация, 1.89%
|
|
|
IntechOpen
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Hindawi Limited
1 публикация, 1.89%
|
|
|
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Higher Education Press
1 публикация, 1.89%
|
|
|
Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii
1 публикация, 1.89%
|
|
|
5
10
15
20
25
|
- Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
- Статистика публикаций обновляется еженедельно.
Вы ученый?
Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
Войти с ORCID
Метрики
53
Всего цитирований:
53
Цитирований c 2025:
4
(7.54%)
Цитировать
ГОСТ |
RIS |
BibTex |
MLA
Цитировать
ГОСТ
Скопировать
Kowalska E., Rau S. Photoreactors for Wastewater Treatment: A Review // Recent Patents on Engineering. 2010. Vol. 4. No. 3. pp. 242-266.
ГОСТ со всеми авторами (до 50)
Скопировать
Kowalska E., Rau S. Photoreactors for Wastewater Treatment: A Review // Recent Patents on Engineering. 2010. Vol. 4. No. 3. pp. 242-266.
Цитировать
RIS
Скопировать
TY - JOUR
DO - 10.2174/187221210794578583
UR - https://doi.org/10.2174/187221210794578583
TI - Photoreactors for Wastewater Treatment: A Review
T2 - Recent Patents on Engineering
AU - Kowalska, Ewa
AU - Rau, Sven
PY - 2010
DA - 2010/11/01
PB - Bentham Science Publishers Ltd.
SP - 242-266
IS - 3
VL - 4
SN - 1872-2121
ER -
Цитировать
BibTex (до 50 авторов)
Скопировать
@article{2010_Kowalska,
author = {Ewa Kowalska and Sven Rau},
title = {Photoreactors for Wastewater Treatment: A Review},
journal = {Recent Patents on Engineering},
year = {2010},
volume = {4},
publisher = {Bentham Science Publishers Ltd.},
month = {nov},
url = {https://doi.org/10.2174/187221210794578583},
number = {3},
pages = {242--266},
doi = {10.2174/187221210794578583}
}
Цитировать
MLA
Скопировать
Kowalska, Ewa, and Sven Rau. “Photoreactors for Wastewater Treatment: A Review.” Recent Patents on Engineering, vol. 4, no. 3, Nov. 2010, pp. 242-266. https://doi.org/10.2174/187221210794578583.
Ошибка в публикации?