Optimization of x-ray lithography conditions for fabrication of large arrays of high-aspect-ratio submicron pores
Тип публикации: Journal Article
Дата публикации: 2021-04-13
SCImago Q2
WOS Q2
БС2
SJR: 0.454
CiteScore: 4.4
Impact factor: 2.5
ISSN: 09601317, 13616439
Electronic, Optical and Magnetic Materials
Electrical and Electronic Engineering
Mechanical Engineering
Mechanics of Materials
Краткое описание
Patterning using a focused ionizing radiation beam provides a high spatial resolution but is not feasible when creating large arrays of microstructures. We propose the optimization of x-ray lithography parameters to create submicropores in a low-sensitivity material (polyethylene terephthalate) using a wide x-ray beam. This optimization results in the fabrication of regularly arranged micropores with a high aspect ratio (over 20) and diameters of up to 0.4 µm across a large substrate area (up to several square centimeters).
Найдено
Ничего не найдено, попробуйте изменить настройки фильтра.
Для доступа к списку цитирований публикации необходимо авторизоваться.
Для доступа к списку профилей, цитирующих публикацию, необходимо авторизоваться.
Топ-30
Журналы
|
1
2
3
|
|
|
Journal of Surface Investigation
3 публикации, 37.5%
|
|
|
Поверхность Рентгеновские синхротронные и нейтронные исследования
2 публикации, 25%
|
|
|
Scientific Reports
1 публикация, 12.5%
|
|
|
Technical Physics Letters
1 публикация, 12.5%
|
|
|
International Journal of Molecular Sciences
1 публикация, 12.5%
|
|
|
1
2
3
|
Издатели
|
1
2
3
4
|
|
|
Pleiades Publishing
4 публикации, 50%
|
|
|
The Russian Academy of Sciences
2 публикации, 25%
|
|
|
Springer Nature
1 публикация, 12.5%
|
|
|
MDPI
1 публикация, 12.5%
|
|
|
1
2
3
4
|
- Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
- Статистика публикаций обновляется еженедельно.
Вы ученый?
Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.
Войти с ORCID
Метрики
8
Всего цитирований:
8
Цитирований c 2025:
1
(12.5%)
Цитировать
ГОСТ |
RIS |
BibTex |
MLA
Цитировать
ГОСТ
Скопировать
Nazmov V. et al. Optimization of x-ray lithography conditions for fabrication of large arrays of high-aspect-ratio submicron pores // Journal of Micromechanics and Microengineering. 2021. Vol. 31. No. 5. p. 55011.
ГОСТ со всеми авторами (до 50)
Скопировать
Nazmov V., Goldenberg B., Vasiliev A., Asadchikov V. Optimization of x-ray lithography conditions for fabrication of large arrays of high-aspect-ratio submicron pores // Journal of Micromechanics and Microengineering. 2021. Vol. 31. No. 5. p. 55011.
Цитировать
RIS
Скопировать
TY - JOUR
DO - 10.1088/1361-6439/abf331
UR - https://doi.org/10.1088/1361-6439/abf331
TI - Optimization of x-ray lithography conditions for fabrication of large arrays of high-aspect-ratio submicron pores
T2 - Journal of Micromechanics and Microengineering
AU - Nazmov, V
AU - Goldenberg, B.
AU - Vasiliev, Anton
AU - Asadchikov, V
PY - 2021
DA - 2021/04/13
PB - IOP Publishing
SP - 55011
IS - 5
VL - 31
SN - 0960-1317
SN - 1361-6439
ER -
Цитировать
BibTex (до 50 авторов)
Скопировать
@article{2021_Nazmov,
author = {V Nazmov and B. Goldenberg and Anton Vasiliev and V Asadchikov},
title = {Optimization of x-ray lithography conditions for fabrication of large arrays of high-aspect-ratio submicron pores},
journal = {Journal of Micromechanics and Microengineering},
year = {2021},
volume = {31},
publisher = {IOP Publishing},
month = {apr},
url = {https://doi.org/10.1088/1361-6439/abf331},
number = {5},
pages = {55011},
doi = {10.1088/1361-6439/abf331}
}
Цитировать
MLA
Скопировать
Nazmov, V., et al. “Optimization of x-ray lithography conditions for fabrication of large arrays of high-aspect-ratio submicron pores.” Journal of Micromechanics and Microengineering, vol. 31, no. 5, Apr. 2021, p. 55011. https://doi.org/10.1088/1361-6439/abf331.
Ошибка в публикации?