Atomic Layer Deposition

Pensoft Publishers

ISSN: 27722570

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.

Годы выпуска

2024

Варианты названий

Atomic Layer Deposition

за всё время с 2021

Публикаций

Цитирований

Индекс Хирша

Публикаций

Цитирований

Топ-3 цитирующих журналов

Chemical Engineering Journal (2 цитирования)

ACS Applied Nano Materials (1 цитирование)

ACS applied materials & interfaces (1 цитирование)

Топ-3 организаций

Технологический институт Джорджии (2 публикации)

Делфтский технический университет (1 публикация)

Университет Твенте (1 публикация)

Найдено

Название публикации

Найдено

	1 2
Chemical Engineering Journal	Chemical Engineering Journal, 2, 14.29% Chemical Engineering Journal 2 цитирования, 14.29%
ACS applied materials & interfaces	ACS applied materials & interfaces, 1, 7.14% ACS applied materials & interfaces 1 цитирование, 7.14%
ACS Applied Nano Materials	ACS Applied Nano Materials, 1, 7.14% ACS Applied Nano Materials 1 цитирование, 7.14%
Catalysts	Catalysts, 1, 7.14% Catalysts 1 цитирование, 7.14%
Journal of Materials Chemistry C	Journal of Materials Chemistry C, 1, 7.14% Journal of Materials Chemistry C 1 цитирование, 7.14%
Journal of Physical Chemistry C	Journal of Physical Chemistry C, 1, 7.14% Journal of Physical Chemistry C 1 цитирование, 7.14%
Scientific Reports	Scientific Reports, 1, 7.14% Scientific Reports 1 цитирование, 7.14%
Plasma Processes and Polymers	Plasma Processes and Polymers, 1, 7.14% Plasma Processes and Polymers 1 цитирование, 7.14%
Journal of Vacuum Science and Technology B	Journal of Vacuum Science and Technology B, 1, 7.14% Journal of Vacuum Science and Technology B 1 цитирование, 7.14%
Materials	Materials, 1, 7.14% Materials 1 цитирование, 7.14%
PRX Energy	PRX Energy, 1, 7.14% PRX Energy 1 цитирование, 7.14%
Atomic Layer Deposition	Atomic Layer Deposition, 1, 7.14% Atomic Layer Deposition 1 цитирование, 7.14%
	1 2

	1 2 3
Elsevier	Elsevier, 3, 21.43% Elsevier 3 цитирования, 21.43%
American Chemical Society (ACS)	American Chemical Society (ACS), 3, 21.43% American Chemical Society (ACS) 3 цитирования, 21.43%
MDPI	MDPI, 2, 14.29% MDPI 2 цитирования, 14.29%
Springer Nature	Springer Nature, 1, 7.14% Springer Nature 1 цитирование, 7.14%
Wiley	Wiley, 1, 7.14% Wiley 1 цитирование, 7.14%
Royal Society of Chemistry (RSC)	Royal Society of Chemistry (RSC), 1, 7.14% Royal Society of Chemistry (RSC) 1 цитирование, 7.14%
Pensoft Publishers	Pensoft Publishers, 1, 7.14% Pensoft Publishers 1 цитирование, 7.14%
American Physical Society (APS)	American Physical Society (APS), 1, 7.14% American Physical Society (APS) 1 цитирование, 7.14%
American Vacuum Society	American Vacuum Society, 1, 7.14% American Vacuum Society 1 цитирование, 7.14%
	1 2 3

	1 2
Технологический институт Джорджии	Технологический институт Джорджии, 2, 33.33% Технологический институт Джорджии 2 публикации, 33.33%
Университет Твенте	Университет Твенте, 1, 16.67% Университет Твенте 1 публикация, 16.67%
Делфтский технический университет	Делфтский технический университет, 1, 16.67% Делфтский технический университет 1 публикация, 16.67%
Брукхейвенская национальная лаборатория	Брукхейвенская национальная лаборатория, 1, 16.67% Брукхейвенская национальная лаборатория 1 публикация, 16.67%
Университет Карлтона	Университет Карлтона, 1, 16.67% Университет Карлтона 1 публикация, 16.67%
	1 2