Лаборатория атомно-слоевого осаждения и физики наноэлектронных структур

Необходимо авторизоваться.

- Two-dimensional semiconductors based on transition metal dichalcogendes (TMDC), logics and memory transistors based on TMDC; - Multicomponent high-k oxides aimed on gate CMOS dielectrics or on MIM-capacitors applications; - ALD doping for stabilization of oxide metastable phases with novel properties ( e.g. HfO2 based ferroelectrics for FeRAM); - In situ control of oxygen vacancies concentration in ALD oxides for resistive-switched memory and neuromorphic devices);

  1. Атомно-силовая микроскопия (АСМ)
  2. Просвечивающая электронная микроскопия (ПЭМ)
  3. Рентгеновская дифракция
  4. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
  5. Электрофизические измерения
  6. Спектроскопия комбинационного рассеяния света (Raman spectroscopy))
Андрей Маркеев 🥼
Заведующий
Черникова Анна Г
Анна Черникова
Старший научный сотрудник
Романов Роман Иванович
Роман Романов
Старший научный сотрудник
Всего публикаций
108
Всего цитирований
3283
Цитирований на публикацию
30.4
Среднее число публикаций в год
3.09
Годы публикаций
1991-2025 (35 лет)
h-index
31
i10-index
68
m-index
0.89
o-index
99
g-index
54
w-index
8
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Топ-100

Области наук

5
10
15
20
25
30
Condensed Matter Physics, 30, 27.78%
Condensed Matter Physics
30 публикаций, 27.78%
Surfaces, Coatings and Films, 28, 25.93%
Surfaces, Coatings and Films
28 публикаций, 25.93%
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 26, 24.07%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
26 публикаций, 24.07%
General Materials Science, 26, 24.07%
General Materials Science
26 публикаций, 24.07%
General Chemistry, 20, 18.52%
General Chemistry
20 публикаций, 18.52%
Materials Chemistry, 16, 14.81%
Materials Chemistry
16 публикаций, 14.81%
General Chemical Engineering, 16, 14.81%
General Chemical Engineering
16 публикаций, 14.81%
Electrical and Electronic Engineering, 15, 13.89%
Electrical and Electronic Engineering
15 публикаций, 13.89%
Surfaces and Interfaces, 14, 12.96%
Surfaces and Interfaces
14 публикаций, 12.96%
General Physics and Astronomy, 13, 12.04%
General Physics and Astronomy
13 публикаций, 12.04%
Physics and Astronomy (miscellaneous), 12, 11.11%
Physics and Astronomy (miscellaneous)
12 публикаций, 11.11%
Metals and Alloys, 6, 5.56%
Metals and Alloys
6 публикаций, 5.56%
Instrumentation, 6, 5.56%
Instrumentation
6 публикаций, 5.56%
Physical and Theoretical Chemistry, 5, 4.63%
Physical and Theoretical Chemistry
5 публикаций, 4.63%
Atomic and Molecular Physics, and Optics, 4, 3.7%
Atomic and Molecular Physics, and Optics
4 публикации, 3.7%
Mechanical Engineering, 4, 3.7%
Mechanical Engineering
4 публикации, 3.7%
General Energy, 4, 3.7%
General Energy
4 публикации, 3.7%
Mechanics of Materials, 4, 3.7%
Mechanics of Materials
4 публикации, 3.7%
Bioengineering, 3, 2.78%
Bioengineering
3 публикации, 2.78%
General Engineering, 3, 2.78%
General Engineering
3 публикации, 2.78%
Ceramics and Composites, 2, 1.85%
Ceramics and Composites
2 публикации, 1.85%
Process Chemistry and Technology, 2, 1.85%
Process Chemistry and Technology
2 публикации, 1.85%
Polymers and Plastics, 2, 1.85%
Polymers and Plastics
2 публикации, 1.85%
Biomedical Engineering, 2, 1.85%
Biomedical Engineering
2 публикации, 1.85%
Engineering (miscellaneous), 2, 1.85%
Engineering (miscellaneous)
2 публикации, 1.85%
Biochemistry, 1, 0.93%
Biochemistry
1 публикация, 0.93%
General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology, 1, 0.93%
General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology
1 публикация, 0.93%
Computer Science Applications, 1, 0.93%
Computer Science Applications
1 публикация, 0.93%
General Medicine, 1, 0.93%
General Medicine
1 публикация, 0.93%
Biophysics, 1, 0.93%
Biophysics
1 публикация, 0.93%
Multidisciplinary, 1, 0.93%
Multidisciplinary
1 публикация, 0.93%
Electrochemistry, 1, 0.93%
Electrochemistry
1 публикация, 0.93%
Colloid and Surface Chemistry, 1, 0.93%
Colloid and Surface Chemistry
1 публикация, 0.93%
Biotechnology, 1, 0.93%
Biotechnology
1 публикация, 0.93%
Biomaterials, 1, 0.93%
Biomaterials
1 публикация, 0.93%
General Environmental Science, 1, 0.93%
General Environmental Science
1 публикация, 0.93%
Applied Mathematics, 1, 0.93%
Applied Mathematics
1 публикация, 0.93%
Acoustics and Ultrasonics, 1, 0.93%
Acoustics and Ultrasonics
1 публикация, 0.93%
Fluid Flow and Transfer Processes, 1, 0.93%
Fluid Flow and Transfer Processes
1 публикация, 0.93%
General Earth and Planetary Sciences, 1, 0.93%
General Earth and Planetary Sciences
1 публикация, 0.93%
5
10
15
20
25
30

Журналы

2
4
6
8
10
12
Applied Physics Letters
12 публикаций, 11.11%
Nanomaterials
9 публикаций, 8.33%
ACS applied materials & interfaces
6 публикаций, 5.56%
Applied Surface Science
6 публикаций, 5.56%
Russian Journal of Applied Chemistry
5 публикаций, 4.63%
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
4 публикации, 3.7%
Journal of Physical Chemistry C
4 публикации, 3.7%
Vacuum
4 публикации, 3.7%
Microelectronic Engineering
4 публикации, 3.7%
Journal of Materials Chemistry C
3 публикации, 2.78%
Thin Solid Films
3 публикации, 2.78%
ACS Omega
3 публикации, 2.78%
Russian Microelectronics
3 публикации, 2.78%
Nanotechnologies in Russia
2 публикации, 1.85%
Journal of Physics: Conference Series
2 публикации, 1.85%
Physica Status Solidi - Rapid Research Letters
2 публикации, 1.85%
Acta Materialia
2 публикации, 1.85%
Physica Status Solidi (B): Basic Research
2 публикации, 1.85%
Journal of Applied Physics
2 публикации, 1.85%
Nanobiotechnology Reports
2 публикации, 1.85%
Preprints.org
2 публикации, 1.85%
Measurement Techniques
1 публикация, 0.93%
Journal of Surface Investigation
1 публикация, 0.93%
Journal of Chemical Physics
1 публикация, 0.93%
Surfaces and Interfaces
1 публикация, 0.93%
ACS Applied Nano Materials
1 публикация, 0.93%
Microscopy and Microanalysis
1 публикация, 0.93%
Nature Communications
1 публикация, 0.93%
npj 2D Materials and Applications
1 публикация, 0.93%
Journal of Alloys and Compounds
1 публикация, 0.93%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
1 публикация, 0.93%
JETP Letters
1 публикация, 0.93%
Russian Journal of General Chemistry
1 публикация, 0.93%
Journal of Experimental and Theoretical Physics
1 публикация, 0.93%
Journal Physics D: Applied Physics
1 публикация, 0.93%
Plasmonics
1 публикация, 0.93%
Nanotechnology
1 публикация, 0.93%
Applied Sciences (Switzerland)
1 публикация, 0.93%
Advanced Materials Interfaces
1 публикация, 0.93%
Heliyon
1 публикация, 0.93%
ECS Transactions
1 публикация, 0.93%
Journal of Colloid and Interface Science
1 публикация, 0.93%
Journal of Vacuum Science and Technology B
1 публикация, 0.93%
Materials
1 публикация, 0.93%
Physical Review B
1 публикация, 0.93%
ACS Applied Electronic Materials
1 публикация, 0.93%
ECS Meeting Abstracts
1 публикация, 0.93%
2
4
6
8
10
12

Цитирующие журналы

50
100
150
200
250
Applied Physics Letters
226 цитирований, 6.88%
Журнал не определён, 140, 4.26%
Журнал не определён
140 цитирований, 4.26%
ACS applied materials & interfaces
112 цитирований, 3.41%
Journal of Applied Physics
99 цитирований, 3.02%
Nanomaterials
83 цитирования, 2.53%
Advanced Electronic Materials
79 цитирований, 2.41%
ACS Applied Electronic Materials
76 цитирований, 2.31%
Applied Surface Science
73 цитирования, 2.22%
IEEE Transactions on Electron Devices
71 цитирование, 2.16%
IEEE Electron Device Letters
65 цитирований, 1.98%
Physica Status Solidi - Rapid Research Letters
51 цитирование, 1.55%
Russian Journal of Inorganic Chemistry
48 цитирований, 1.46%
Nanotechnology
45 цитирований, 1.37%
Nanoscale
44 цитирования, 1.34%
Advanced Functional Materials
39 цитирований, 1.19%
Ceramics International
38 цитирований, 1.16%
Journal of Materials Chemistry C
37 цитирований, 1.13%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
35 цитирований, 1.07%
Vacuum
34 цитирования, 1.04%
Journal Physics D: Applied Physics
33 цитирования, 1.01%
Journal of Alloys and Compounds
31 цитирование, 0.94%
APL Materials
31 цитирование, 0.94%
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
30 цитирований, 0.91%
Physical Review Applied
30 цитирований, 0.91%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
28 цитирований, 0.85%
Journal of Physical Chemistry C
28 цитирований, 0.85%
Materials
28 цитирований, 0.85%
Advanced Materials Interfaces
27 цитирований, 0.82%
Nano Letters
26 цитирований, 0.79%
Nature Communications
25 цитирований, 0.76%
Thin Solid Films
25 цитирований, 0.76%
Advanced Materials
25 цитирований, 0.76%
ACS Nano
24 цитирования, 0.73%
Applied Physics Reviews
23 цитирования, 0.7%
Russian Microelectronics
23 цитирования, 0.7%
Russian Journal of Applied Chemistry
21 цитирование, 0.64%
Microelectronic Engineering
21 цитирование, 0.64%
Small
20 цитирований, 0.61%
ACS Omega
20 цитирований, 0.61%
AIP Advances
19 цитирований, 0.58%
Advanced Materials Technologies
18 цитирований, 0.55%
ACS Applied Nano Materials
17 цитирований, 0.52%
Acta Materialia
17 цитирований, 0.52%
Physical Review B
17 цитирований, 0.52%
Scientific Reports
16 цитирований, 0.49%
Nanobiotechnology Reports
16 цитирований, 0.49%
Surface and Coatings Technology
15 цитирований, 0.46%
Journal of Surface Investigation
14 цитирований, 0.43%
Materials Horizons
14 цитирований, 0.43%
IEEE Journal of the Electron Devices Society
14 цитирований, 0.43%
Advanced Science
14 цитирований, 0.43%
Журнал неорганической химии
14 цитирований, 0.43%
Surfaces and Interfaces
13 цитирований, 0.4%
Chemistry of Materials
13 цитирований, 0.4%
Journal of Materiomics
13 цитирований, 0.4%
Nanoscale Advances
13 цитирований, 0.4%
Journal of Materials Science: Materials in Electronics
13 цитирований, 0.4%
Chinese Physics B
12 цитирований, 0.37%
Semiconductor Science and Technology
12 цитирований, 0.37%
Physical Chemistry Chemical Physics
11 цитирований, 0.34%
Journal of Physics: Conference Series
11 цитирований, 0.34%
Solid-State Electronics
11 цитирований, 0.34%
Journal of Materials Chemistry A
11 цитирований, 0.34%
Coatings
11 цитирований, 0.34%
Science China Information Sciences
10 цитирований, 0.3%
Physical Review Materials
10 цитирований, 0.3%
Science
10 цитирований, 0.3%
Applied Materials Today
10 цитирований, 0.3%
Physica Status Solidi (B): Basic Research
10 цитирований, 0.3%
Applied Sciences (Switzerland)
10 цитирований, 0.3%
Journal of Electronic Materials
10 цитирований, 0.3%
Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics
10 цитирований, 0.3%
Chemosensors
9 цитирований, 0.27%
Materials Science in Semiconductor Processing
9 цитирований, 0.27%
Crystals
9 цитирований, 0.27%
Nano Convergence
9 цитирований, 0.27%
Science China Materials
9 цитирований, 0.27%
Journal of Vacuum Science and Technology B
9 цитирований, 0.27%
Advanced Physics Research
9 цитирований, 0.27%
Micromachines
8 цитирований, 0.24%
RSC Advances
8 цитирований, 0.24%
Materials and Design
8 цитирований, 0.24%
Laser and Photonics Reviews
8 цитирований, 0.24%
Nanophotonics
8 цитирований, 0.24%
JOM
8 цитирований, 0.24%
Applied Physics Express
8 цитирований, 0.24%
Optics Letters
7 цитирований, 0.21%
Electronics (Switzerland)
7 цитирований, 0.21%
JETP Letters
7 цитирований, 0.21%
ECS Journal of Solid State Science and Technology
7 цитирований, 0.21%
Light: Science and Applications
7 цитирований, 0.21%
Chemical Engineering Journal
7 цитирований, 0.21%
Technical Physics
7 цитирований, 0.21%
Advanced Intelligent Systems
7 цитирований, 0.21%
Applied Surface Science Advances
7 цитирований, 0.21%
IEEE Transactions on Materials for Electron Devices
7 цитирований, 0.21%
Microscopy and Microanalysis
6 цитирований, 0.18%
Computational Materials Science
6 цитирований, 0.18%
Chaos, Solitons and Fractals
6 цитирований, 0.18%
Optical Materials
6 цитирований, 0.18%
50
100
150
200
250

Цитируемые журналы

50
100
150
200
250
300
350
Applied Physics Letters
347 цитирований, 9.9%
Journal of Applied Physics
195 цитирований, 5.56%
ACS applied materials & interfaces
123 цитирования, 3.51%
Nano Letters
111 цитирований, 3.17%
ACS Nano
106 цитирований, 3.02%
Журнал не определён, 94, 2.68%
Журнал не определён
94 цитирования, 2.68%
Applied Surface Science
85 цитирований, 2.43%
Physical Review B
84 цитирования, 2.4%
Advanced Functional Materials
66 цитирований, 1.88%
Thin Solid Films
66 цитирований, 1.88%
Nature Communications
65 цитирований, 1.85%
Chemistry of Materials
59 цитирований, 1.68%
Scientific Reports
56 цитирований, 1.6%
Advanced Materials
54 цитирования, 1.54%
Nanoscale
47 цитирований, 1.34%
Nature Nanotechnology
46 цитирований, 1.31%
Nanotechnology
46 цитирований, 1.31%
Microelectronic Engineering
44 цитирования, 1.26%
Nature Materials
43 цитирования, 1.23%
Advanced Electronic Materials
41 цитирование, 1.17%
Journal of the Electrochemical Society
39 цитирований, 1.11%
Journal of Physical Chemistry C
39 цитирований, 1.11%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
36 цитирований, 1.03%
Physical Review Letters
35 цитирований, 1%
Nanomaterials
35 цитирований, 1%
IEEE Electron Device Letters
34 цитирования, 0.97%
Chemical Vapor Deposition
33 цитирования, 0.94%
Nature
30 цитирований, 0.86%
IEEE Transactions on Electron Devices
30 цитирований, 0.86%
Journal of Alloys and Compounds
28 цитирований, 0.8%
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
26 цитирований, 0.74%
ACS Applied Nano Materials
25 цитирований, 0.71%
Science
25 цитирований, 0.71%
Journal of Materials Chemistry C
23 цитирования, 0.66%
ACS Applied Electronic Materials
22 цитирования, 0.63%
Nature Photonics
21 цитирование, 0.6%
ACS Photonics
20 цитирований, 0.57%
Advanced Materials Interfaces
20 цитирований, 0.57%
Physical Chemistry Chemical Physics
19 цитирований, 0.54%
Sensors and Actuators, B: Chemical
19 цитирований, 0.54%
Journal of Vacuum Science and Technology B
19 цитирований, 0.54%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
18 цитирований, 0.51%
Physica Status Solidi - Rapid Research Letters
18 цитирований, 0.51%
Journal Physics D: Applied Physics
18 цитирований, 0.51%
Journal of Chemical Physics
17 цитирований, 0.49%
APL Materials
17 цитирований, 0.49%
Journal of Materials Chemistry A
17 цитирований, 0.49%
2D Materials
16 цитирований, 0.46%
ECS Transactions
16 цитирований, 0.46%
Acta Materialia
15 цитирований, 0.43%
Surface and Interface Analysis
15 цитирований, 0.43%
Electrochemical and Solid-State Letters
15 цитирований, 0.43%
Surface Science
13 цитирований, 0.37%
RSC Advances
13 цитирований, 0.37%
npj 2D Materials and Applications
13 цитирований, 0.37%
Journal of the American Chemical Society
13 цитирований, 0.37%
Biomaterials
13 цитирований, 0.37%
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena
13 цитирований, 0.37%
Vacuum
12 цитирований, 0.34%
Ceramics International
12 цитирований, 0.34%
Langmuir
12 цитирований, 0.34%
Microelectronics Reliability
10 цитирований, 0.29%
Nano Research
10 цитирований, 0.29%
Nature Electronics
10 цитирований, 0.29%
ACS Omega
10 цитирований, 0.29%
Nanoscale Research Letters
10 цитирований, 0.29%
Surface Science Spectra
9 цитирований, 0.26%
Nano-Micro Letters
9 цитирований, 0.26%
IEEE Transactions on Device and Materials Reliability
9 цитирований, 0.26%
Review of Scientific Instruments
9 цитирований, 0.26%
Journal of Materials Science
9 цитирований, 0.26%
Journal of the American Ceramic Society
9 цитирований, 0.26%
Materials
9 цитирований, 0.26%
Journal of Physics Condensed Matter
8 цитирований, 0.23%
Applied Materials Today
8 цитирований, 0.23%
Surface and Coatings Technology
8 цитирований, 0.23%
Light: Science and Applications
8 цитирований, 0.23%
Journal of Crystal Growth
8 цитирований, 0.23%
Journal of Non-Crystalline Solids
8 цитирований, 0.23%
Sensors
8 цитирований, 0.23%
Journal of Biomedical Materials Research
8 цитирований, 0.23%
Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America
7 цитирований, 0.2%
Materials Letters
7 цитирований, 0.2%
Materials Today
7 цитирований, 0.2%
Inorganic Chemistry Frontiers
7 цитирований, 0.2%
Optics Express
7 цитирований, 0.2%
Materials Chemistry and Physics
7 цитирований, 0.2%
Applied Physics A: Materials Science and Processing
7 цитирований, 0.2%
Journal of Colloid and Interface Science
7 цитирований, 0.2%
Journal of the Optical Society of America B: Optical Physics
7 цитирований, 0.2%
The Journal of Physical Chemistry
7 цитирований, 0.2%
Russian Journal of Inorganic Chemistry
6 цитирований, 0.17%
Advanced Optical Materials
6 цитирований, 0.17%
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
6 цитирований, 0.17%
Journal of Raman Spectroscopy
6 цитирований, 0.17%
JETP Letters
6 цитирований, 0.17%
International Journal of Hydrogen Energy
6 цитирований, 0.17%
Chemical Reviews
6 цитирований, 0.17%
Journal of Power Sources
6 цитирований, 0.17%
Electrochimica Acta
6 цитирований, 0.17%
50
100
150
200
250
300
350

Издатели

5
10
15
20
25
Elsevier
23 публикации, 21.3%
Pleiades Publishing
16 публикаций, 14.81%
American Chemical Society (ACS)
15 публикаций, 13.89%
AIP Publishing
15 публикаций, 13.89%
MDPI
13 публикаций, 12.04%
Wiley
9 публикаций, 8.33%
Springer Nature
4 публикации, 3.7%
IOP Publishing
4 публикации, 3.7%
Royal Society of Chemistry (RSC)
3 публикации, 2.78%
American Vacuum Society
2 публикации, 1.85%
The Electrochemical Society
2 публикации, 1.85%
Oxford University Press
1 публикация, 0.93%
American Physical Society (APS)
1 публикация, 0.93%
5
10
15
20
25

Организации из публикаций

10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
Московский физико-технический институт
95 публикаций, 87.96%
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
31 публикация, 28.7%
Сеульский университет
11 публикаций, 10.19%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
9 публикаций, 8.33%
Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
8 публикаций, 7.41%
Организация не определена, 7, 6.48%
Организация не определена
7 публикаций, 6.48%
Новосибирский Государственный Университет
7 публикаций, 6.48%
Ереванский государственный университет
5 публикаций, 4.63%
Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
4 публикации, 3.7%
Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
4 публикации, 3.7%
Дрезденский технический университет
4 публикации, 3.7%
Немецкий Электронный Синхротрон
4 публикации, 3.7%
Университет Менуфии
4 публикации, 3.7%
Сколковский институт науки и технологий
3 публикации, 2.78%
Институт кристаллографии имени А. В. Шубникова
3 публикации, 2.78%
Новосибирский государственный технический университет
3 публикации, 2.78%
Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики имени Н. Л. Духова
3 публикации, 2.78%
Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов
3 публикации, 2.78%
Научно-исследовательский институт физических проблем им Ф. В. Лукина
3 публикации, 2.78%
Санкт-Петербургский государственный университет
2 публикации, 1.85%
Владимирский государственный университет
2 публикации, 1.85%
Джамия-Миллия-Исламия
2 публикации, 1.85%
Университет Экс-Марсель
2 публикации, 1.85%
Университет Ольборга
2 публикации, 1.85%
Пусанский университет
2 публикации, 1.85%
Институт биохимической физики им. Н.М. Эмануэля РАН
1 публикация, 0.93%
Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН
1 публикация, 0.93%
Институт радиотехники и электроники имени В.А. Котельникова РАН
1 публикация, 0.93%
Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН
1 публикация, 0.93%
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
1 публикация, 0.93%
Институт физики микроструктур РАН
1 публикация, 0.93%
Физико-технологический институт имени К.А. Валиева
1 публикация, 0.93%
Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина
1 публикация, 0.93%
Дальневосточный федеральный университет
1 публикация, 0.93%
Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского
1 публикация, 0.93%
Сибирский Федеральный Университет
1 публикация, 0.93%
МИРЭА — Российский технологический университет
1 публикация, 0.93%
Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н. Г. Чернышевского
1 публикация, 0.93%
Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева
1 публикация, 0.93%
ФИЦ "Красноярский научный центр" СО РАН
1 публикация, 0.93%
Федеральная политехническая школа Лозанны
1 публикация, 0.93%
European Synchrotron Radiation Facility
1 публикация, 0.93%
Центр им. Гельмгольца Дрезден-Россендорф
1 публикация, 0.93%
Университет Осло
1 публикация, 0.93%
Манчестерский университет
1 публикация, 0.93%
Национальный университет Сингапура
1 публикация, 0.93%
Шанхайский институт керамики Китайской академии наук
1 публикация, 0.93%
Институт Фраунгофера по материаловедению и лучевым технологиям
1 публикация, 0.93%
Университет Небраски–Линкольн
1 публикация, 0.93%
Рижский Технический Университет
1 публикация, 0.93%
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100

Страны из публикаций

20
40
60
80
100
120
Россия, 102, 94.44%
Россия
102 публикации, 94.44%
Республика Корея, 11, 10.19%
Республика Корея
11 публикаций, 10.19%
Германия, 10, 9.26%
Германия
10 публикаций, 9.26%
Страна не определена, 9, 8.33%
Страна не определена
9 публикаций, 8.33%
Армения, 5, 4.63%
Армения
5 публикаций, 4.63%
Египет, 4, 3.7%
Египет
4 публикации, 3.7%
ОАЭ, 4, 3.7%
ОАЭ
4 публикации, 3.7%
Франция, 3, 2.78%
Франция
3 публикации, 2.78%
Китай, 2, 1.85%
Китай
2 публикации, 1.85%
Дания, 2, 1.85%
Дания
2 публикации, 1.85%
Индия, 2, 1.85%
Индия
2 публикации, 1.85%
США, 1, 0.93%
США
1 публикация, 0.93%
Великобритания, 1, 0.93%
Великобритания
1 публикация, 0.93%
Латвия, 1, 0.93%
Латвия
1 публикация, 0.93%
Норвегия, 1, 0.93%
Норвегия
1 публикация, 0.93%
Сингапур, 1, 0.93%
Сингапур
1 публикация, 0.93%
Швейцария, 1, 0.93%
Швейцария
1 публикация, 0.93%
СССР, 1, 0.93%
СССР
1 публикация, 0.93%
20
40
60
80
100
120

Цитирующие организации

50
100
150
200
250
300
350
400
Организация не определена, 362, 11.03%
Организация не определена
362 цитирования, 11.03%
Московский физико-технический институт
209 цитирований, 6.37%
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
78 цитирований, 2.38%
Сеульский университет
74 цитирования, 2.25%
Дрезденский технический университет
72 цитирования, 2.19%
Фуданьский университет
51 цитирование, 1.55%
Сидяньский университет
50 цитирований, 1.52%
Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
49 цитирований, 1.49%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук
43 цитирования, 1.31%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
42 цитирования, 1.28%
Национальный университет Сингапура
37 цитирований, 1.13%
Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
36 цитирований, 1.1%
Университет Китайской академии наук
33 цитирования, 1.01%
Университет Ханьян
33 цитирования, 1.01%
Шаньдунский университет
33 цитирования, 1.01%
Сяньтаньский университет
33 цитирования, 1.01%
Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
32 цитирования, 0.97%
Нанкинский университет
32 цитирования, 0.97%
Национальный университет Ян Мин Цзяотун
32 цитирования, 0.97%
Автономный университет Барселоны
30 цитирований, 0.91%
Новосибирский Государственный Университет
29 цитирований, 0.88%
Пекинский университет
27 цитирований, 0.82%
Пусанский университет
27 цитирований, 0.82%
Санкт-Петербургский государственный университет
26 цитирований, 0.79%
Барселонский институт материаловедения
26 цитирований, 0.79%
Шанхайский университет Цзяотун
23 цитирования, 0.7%
Корейский институт передовых технологий
23 цитирования, 0.7%
Университет штата Северная Каролина
23 цитирования, 0.7%
Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева
22 цитирования, 0.67%
Новосибирский государственный технический университет
21 цитирование, 0.64%
Чжэцзянский университет
21 цитирование, 0.64%
Университет Сонгюнгван
21 цитирование, 0.64%
Пхоханский университет науки и технологий
21 цитирование, 0.64%
Университет Донгук
21 цитирование, 0.64%
Университет Цинхуа
20 цитирований, 0.61%
Университет Экс-Марсель
20 цитирований, 0.61%
Манчестерский университет
20 цитирований, 0.61%
Ереванский государственный университет
19 цитирований, 0.58%
Наньянский технологический университет
19 цитирований, 0.58%
Техасский университет в Далласе
19 цитирований, 0.58%
Университет Небраски–Линкольн
19 цитирований, 0.58%
Университет Париж-Сакле
19 цитирований, 0.58%
Университет Вирджинии
19 цитирований, 0.58%
Samsung
18 цитирований, 0.55%
Хуачжунский университет науки и технологии
17 цитирований, 0.52%
Даляньский технологический университет
17 цитирований, 0.52%
Восточно-Китайский педагогический университет
17 цитирований, 0.52%
Университет Корё
17 цитирований, 0.52%
Калифорнийский университет в Беркли
17 цитирований, 0.52%
Центр совместных инноваций передовых микроструктур
17 цитирований, 0.52%
Центральная школа Лиона
17 цитирований, 0.52%
Федеральная политехническая школа Лозанны
16 цитирований, 0.49%
Университет Гренобль-Альпы
16 цитирований, 0.49%
Хэбэйский университет
16 цитирований, 0.49%
Корейский институт науки и технологий
16 цитирований, 0.49%
Гонконгский политехнический университет
16 цитирований, 0.49%
Университет науки и технологий Китая
16 цитирований, 0.49%
Университет Минью
16 цитирований, 0.49%
Токийский университет
15 цитирований, 0.46%
Физико-технологический институт имени К.А. Валиева
14 цитирований, 0.43%
Сианьский университет Цзяотун
14 цитирований, 0.43%
Университет электронных наук и технологий Китая
14 цитирований, 0.43%
Национальный институт материаловедения
14 цитирований, 0.43%
Кембриджский университет
14 цитирований, 0.43%
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр
14 цитирований, 0.43%
Университет штата Пенсильвания
14 цитирований, 0.43%
Канвонский национальный университет
14 цитирований, 0.43%
Северо-западный политехнический университет
13 цитирований, 0.4%
Лёвенский католический университет
13 цитирований, 0.4%
Центральный южный университет
13 цитирований, 0.4%
Южно-Китайский педагогический университет
13 цитирований, 0.4%
Национальный университет Цинхуа
13 цитирований, 0.4%
Юлихский исследовательский центр
13 цитирований, 0.4%
Университет Клода Бернара Лион 1
13 цитирований, 0.4%
Сколковский институт науки и технологий
12 цитирований, 0.37%
Лундский университет
12 цитирований, 0.37%
Университет Кёнхи
12 цитирований, 0.37%
Университет Инха
12 цитирований, 0.37%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий
12 цитирований, 0.37%
Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена
12 цитирований, 0.37%
Немецкий Электронный Синхротрон
12 цитирований, 0.37%
Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
11 цитирований, 0.34%
Нанькайский университет
11 цитирований, 0.34%
Университет Нового Южного Уэльса
11 цитирований, 0.34%
Национальный университет Тайваня
11 цитирований, 0.34%
Токийский технологический институт
11 цитирований, 0.34%
Берлинский центр материалов и энергии имени Гельмгольца
11 цитирований, 0.34%
Институт физики Чешской академии наук
11 цитирований, 0.34%
Национальный институт прикладных наук Лиона
11 цитирований, 0.34%
Высшая школа химии, физики и электроники Лиона
11 цитирований, 0.34%
Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова РАН
10 цитирований, 0.3%
Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН
10 цитирований, 0.3%
Институт общей физики имени А.М. Прохорова РАН
10 цитирований, 0.3%
Институт электрофизики УрО РАН
10 цитирований, 0.3%
Институт механики сплошных сред УрО РАН
10 цитирований, 0.3%
Владимирский государственный университет
10 цитирований, 0.3%
Харбинский политехнический университет
10 цитирований, 0.3%
Швейцарская высшая техническая школа Цюриха
10 цитирований, 0.3%
Гуандунский технологический университет
10 цитирований, 0.3%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли
10 цитирований, 0.3%
50
100
150
200
250
300
350
400

Цитирующие страны

100
200
300
400
500
600
700
Китай, 672, 20.47%
Китай
672 цитирования, 20.47%
Россия, 428, 13.04%
Россия
428 цитирований, 13.04%
Страна не определена, 319, 9.72%
Страна не определена
319 цитирований, 9.72%
Республика Корея, 274, 8.35%
Республика Корея
274 цитирования, 8.35%
США, 265, 8.07%
США
265 цитирований, 8.07%
Германия, 207, 6.31%
Германия
207 цитирований, 6.31%
Индия, 118, 3.59%
Индия
118 цитирований, 3.59%
Франция, 95, 2.89%
Франция
95 цитирований, 2.89%
Япония, 83, 2.53%
Япония
83 цитирования, 2.53%
Великобритания, 73, 2.22%
Великобритания
73 цитирования, 2.22%
Италия, 68, 2.07%
Италия
68 цитирований, 2.07%
Сингапур, 57, 1.74%
Сингапур
57 цитирований, 1.74%
Испания, 54, 1.64%
Испания
54 цитирования, 1.64%
Швейцария, 35, 1.07%
Швейцария
35 цитирований, 1.07%
ОАЭ, 34, 1.04%
ОАЭ
34 цитирования, 1.04%
Бельгия, 31, 0.94%
Бельгия
31 цитирование, 0.94%
Швеция, 25, 0.76%
Швеция
25 цитирований, 0.76%
Канада, 24, 0.73%
Канада
24 цитирования, 0.73%
Чехия, 23, 0.7%
Чехия
23 цитирования, 0.7%
Португалия, 22, 0.67%
Португалия
22 цитирования, 0.67%
Австралия, 21, 0.64%
Австралия
21 цитирование, 0.64%
Саудовская Аравия, 20, 0.61%
Саудовская Аравия
20 цитирований, 0.61%
Финляндия, 20, 0.61%
Финляндия
20 цитирований, 0.61%
Армения, 19, 0.58%
Армения
19 цитирований, 0.58%
Нидерланды, 17, 0.52%
Нидерланды
17 цитирований, 0.52%
Румыния, 17, 0.52%
Румыния
17 цитирований, 0.52%
Иран, 16, 0.49%
Иран
16 цитирований, 0.49%
Польша, 16, 0.49%
Польша
16 цитирований, 0.49%
Бразилия, 14, 0.43%
Бразилия
14 цитирований, 0.43%
Малайзия, 14, 0.43%
Малайзия
14 цитирований, 0.43%
Мексика, 14, 0.43%
Мексика
14 цитирований, 0.43%
Дания, 13, 0.4%
Дания
13 цитирований, 0.4%
Таиланд, 11, 0.34%
Таиланд
11 цитирований, 0.34%
Австрия, 9, 0.27%
Австрия
9 цитирований, 0.27%
Индонезия, 9, 0.27%
Индонезия
9 цитирований, 0.27%
Турция, 9, 0.27%
Турция
9 цитирований, 0.27%
Украина, 8, 0.24%
Украина
8 цитирований, 0.24%
Греция, 8, 0.24%
Греция
8 цитирований, 0.24%
Египет, 8, 0.24%
Египет
8 цитирований, 0.24%
Ирландия, 8, 0.24%
Ирландия
8 цитирований, 0.24%
Люксембург, 8, 0.24%
Люксембург
8 цитирований, 0.24%
Вьетнам, 7, 0.21%
Вьетнам
7 цитирований, 0.21%
Израиль, 7, 0.21%
Израиль
7 цитирований, 0.21%
Нигерия, 7, 0.21%
Нигерия
7 цитирований, 0.21%
Пакистан, 7, 0.21%
Пакистан
7 цитирований, 0.21%
Казахстан, 6, 0.18%
Казахстан
6 цитирований, 0.18%
Эстония, 6, 0.18%
Эстония
6 цитирований, 0.18%
Ирак, 6, 0.18%
Ирак
6 цитирований, 0.18%
Словения, 6, 0.18%
Словения
6 цитирований, 0.18%
Тунис, 6, 0.18%
Тунис
6 цитирований, 0.18%
ЮАР, 6, 0.18%
ЮАР
6 цитирований, 0.18%
Беларусь, 5, 0.15%
Беларусь
5 цитирований, 0.15%
Словакия, 4, 0.12%
Словакия
4 цитирования, 0.12%
Хорватия, 4, 0.12%
Хорватия
4 цитирования, 0.12%
Тайвань, 4, 0.12%
Тайвань
4 цитирования, 0.12%
Алжир, 3, 0.09%
Алжир
3 цитирования, 0.09%
Болгария, 3, 0.09%
Болгария
3 цитирования, 0.09%
Латвия, 3, 0.09%
Латвия
3 цитирования, 0.09%
Эфиопия, 3, 0.09%
Эфиопия
3 цитирования, 0.09%
Венгрия, 2, 0.06%
Венгрия
2 цитирования, 0.06%
Литва, 2, 0.06%
Литва
2 цитирования, 0.06%
Марокко, 2, 0.06%
Марокко
2 цитирования, 0.06%
Молдова, 2, 0.06%
Молдова
2 цитирования, 0.06%
Норвегия, 2, 0.06%
Норвегия
2 цитирования, 0.06%
Сербия, 2, 0.06%
Сербия
2 цитирования, 0.06%
Бангладеш, 1, 0.03%
Бангладеш
1 цитирование, 0.03%
Ботсвана, 1, 0.03%
Ботсвана
1 цитирование, 0.03%
Гонконг (САР), 1, 0.03%
Гонконг (САР)
1 цитирование, 0.03%
Гренада, 1, 0.03%
Гренада
1 цитирование, 0.03%
Йемен, 1, 0.03%
Йемен
1 цитирование, 0.03%
Лаос, 1, 0.03%
Лаос
1 цитирование, 0.03%
Новая Зеландия, 1, 0.03%
Новая Зеландия
1 цитирование, 0.03%
Оман, 1, 0.03%
Оман
1 цитирование, 0.03%
Палестина, 1, 0.03%
Палестина
1 цитирование, 0.03%
Танзания, 1, 0.03%
Танзания
1 цитирование, 0.03%
Узбекистан, 1, 0.03%
Узбекистан
1 цитирование, 0.03%
Чили, 1, 0.03%
Чили
1 цитирование, 0.03%
Эквадор, 1, 0.03%
Эквадор
1 цитирование, 0.03%
100
200
300
400
500
600
700
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.

Направления исследований

- Two-dimensional semiconductors based on transition metal dichalcogendes (TMDC), logics and memory transistors based on TMDC

+
- исследование и разработка процессов роста двумерных халькогенидов переходных металлов ( MoS2, WS2); - исследование комплекса проблем при созданию 2D МДП-транзисторов : обеспечение низкой эквивалентной толщины (EOT) и низкой плотности поверхностных состояний подзатворного диэлектрика, обеспечение оптимального порогового напряжения ( работа выхода металла затвора\ варьирование диполя на границах раздела затворного стека, обеспечение низкого барьера Шоттки для омичности контактов истока/стока

Публикации и патенты

Партнёры

Институт физики полупроводников СО РАН
Научно исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова

Адрес лаборатории

Россия, Московская область, Долгопрудный, Институтский пер., д. 9
Необходимо авторизоваться.