0000-0003-3235-6055

Альтамирано-Санчес Эфраин Альтамирано

Efrain Altamirano Altamirano-Sanchez

Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр

Публикаций

Цитирований

Индекс Хирша

R-3D10B-0B7BF-YW47N

0000-0003-3235-6055

Аффилиации

Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр

2023

Найдено

Всего публикаций

Всего цитирований

Цитирований на публикацию

3.25

Среднее число публикаций в год

1.33

Среднее число соавторов

Годы публикаций

2023-2025 (3 года)

h-index

i10-index

m-index

0.67

o-index

g-index

w-index

Описание метрик

h-index

Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.

https://www.pnas.org/doi/full/10.1073/pnas.0507655102

i10-index

Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.

https://scholar.googleblog.com/2011/11/google-scholar-citations-open-to-all.html

m-index

m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.

https://harzing.com/publications/white-papers/reflections-on-the-h-index

o-index

Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.

https://arxiv.org/abs/1511.01545

g-index

Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g² цитирований.

https://doi.org/10.1007/s11192-006-0144-7

w-index

Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

https://doi.org/10.1002/asi.21276

Топ-100

Области наук

	1
Surfaces, Coatings and Films	Surfaces, Coatings and Films, 1, 25% Surfaces, Coatings and Films 1 публикация, 25%
Condensed Matter Physics	Condensed Matter Physics, 1, 25% Condensed Matter Physics 1 публикация, 25%
Surfaces and Interfaces	Surfaces and Interfaces, 1, 25% Surfaces and Interfaces 1 публикация, 25%
	1

Журналы

	1 2
Microelectronic Engineering	Microelectronic Engineering, 2, 50% Microelectronic Engineering 2 публикации, 50%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films	Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 1, 25% Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films 1 публикация, 25%
ECS Meeting Abstracts	ECS Meeting Abstracts, 1, 25% ECS Meeting Abstracts 1 публикация, 25%
	1 2

Цитирующие журналы

	1 2
Журнал не определён	Журнал не определён, 2, 15.38% Журнал не определён 2 цитирования, 15.38%
Solid State Phenomena	Solid State Phenomena, 2, 15.38% Solid State Phenomena 2 цитирования, 15.38%
Surfaces and Interfaces	Surfaces and Interfaces, 1, 7.69% Surfaces and Interfaces 1 цитирование, 7.69%
ACS applied materials & interfaces	ACS applied materials & interfaces, 1, 7.69% ACS applied materials & interfaces 1 цитирование, 7.69%
Engineering	Engineering, 1, 7.69% Engineering 1 цитирование, 7.69%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films	Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 1, 7.69% Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films 1 цитирование, 7.69%
Chemistry of Materials	Chemistry of Materials, 1, 7.69% Chemistry of Materials 1 цитирование, 7.69%
Small	Small, 1, 7.69% Small 1 цитирование, 7.69%
Microelectronic Engineering	Microelectronic Engineering, 1, 7.69% Microelectronic Engineering 1 цитирование, 7.69%
Advanced Engineering Materials	Advanced Engineering Materials, 1, 7.69% Advanced Engineering Materials 1 цитирование, 7.69%
Advanced Materials Interfaces	Advanced Materials Interfaces, 1, 7.69% Advanced Materials Interfaces 1 цитирование, 7.69%
	1 2

Издатели

	1 2
Elsevier	Elsevier, 2, 50% Elsevier 2 публикации, 50%
American Vacuum Society	American Vacuum Society, 1, 25% American Vacuum Society 1 публикация, 25%
The Electrochemical Society	The Electrochemical Society, 1, 25% The Electrochemical Society 1 публикация, 25%
	1 2

Организации из публикаций

	1 2
Организация не определена	Организация не определена, 2, 50% Организация не определена 2 публикации, 50%
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр	Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр, 2, 50% Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр 2 публикации, 50%
	1 2

Страны из публикаций

	1 2
Страна не определена	Страна не определена, 2, 50% Страна не определена 2 публикации, 50%
Германия	Германия, 2, 50% Германия 2 публикации, 50%
Бельгия	Бельгия, 2, 50% Бельгия 2 публикации, 50%
Япония	Япония, 1, 25% Япония 1 публикация, 25%
	1 2

Цитирующие организации

	1 2 3 4 5 6
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр	Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр, 6, 46.15% Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр 6 цитирований, 46.15%
Организация не определена	Организация не определена, 4, 30.77% Организация не определена 4 цитирования, 30.77%
Национальный университет Сингапура	Национальный университет Сингапура, 4, 30.77% Национальный университет Сингапура 4 цитирования, 30.77%
Агентство науки, технологий и исследований	Агентство науки, технологий и исследований, 4, 30.77% Агентство науки, технологий и исследований 4 цитирования, 30.77%
Институт материаловедения и инженерии	Институт материаловедения и инженерии, 2, 15.38% Институт материаловедения и инженерии 2 цитирования, 15.38%
Фуданьский университет	Фуданьский университет, 1, 7.69% Фуданьский университет 1 цитирование, 7.69%
Лёвенский католический университет	Лёвенский католический университет, 1, 7.69% Лёвенский католический университет 1 цитирование, 7.69%
Samsung	Samsung, 1, 7.69% Samsung 1 цитирование, 7.69%
Корейский институт передовых технологий	Корейский институт передовых технологий, 1, 7.69% Корейский институт передовых технологий 1 цитирование, 7.69%
Корейский институт энергетических исследований	Корейский институт энергетических исследований, 1, 7.69% Корейский институт энергетических исследований 1 цитирование, 7.69%
Университет Колорадо в Боулдере	Университет Колорадо в Боулдере, 1, 7.69% Университет Колорадо в Боулдере 1 цитирование, 7.69%
	1 2 3 4 5 6

Цитирующие страны

	1 2 3 4 5 6 7 8
Бельгия	Бельгия, 8, 61.54% Бельгия 8 цитирований, 61.54%
Сингапур	Сингапур, 4, 30.77% Сингапур 4 цитирования, 30.77%
Финляндия	Финляндия, 2, 15.38% Финляндия 2 цитирования, 15.38%
Страна не определена	Страна не определена, 1, 7.69% Страна не определена 1 цитирование, 7.69%
Германия	Германия, 1, 7.69% Германия 1 цитирование, 7.69%
США	США, 1, 7.69% США 1 цитирование, 7.69%
Китай	Китай, 1, 7.69% Китай 1 цитирование, 7.69%
Великобритания	Великобритания, 1, 7.69% Великобритания 1 цитирование, 7.69%
Республика Корея	Республика Корея, 1, 7.69% Республика Корея 1 цитирование, 7.69%
	1 2 3 4 5 6 7 8

Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
Статистика пересчитывается раз в сутки.

По данным ORCID

0000-0003-3235-6055

Surfaces and Interfaces (2)