Басов Михаил Викторович

36 лет / Москва, Россия / +7 (925) 625-03-53 / engineerbasovm@gmail.com

Научная степень: Кандидат технических наук

• Организация: Национальный Исследовательский Ядерный Университет «Московский Инженерно-Физический Институт» (НИЯУ МИФИ)
• Организация, где выполнялась работа: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие «Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики им. Н.Л. Духова» (ФГУП ВНИИА)
• Период обучения (соискательство): август 2013 г. – октябрь 2022 г.
• Название диссертационной работы: Схемотехнические решения по повышению чувствительности тензорезистивных преобразователей давления
• Специальность: 05.13.05 – элементы и устройства вычислительной техники и систем управления

Высшее образование: Специалист. Инженер-физик

• Организация: НИЯУ МИФИ
• Период обучения: сентябрь 2006 г. – февраль 2012 г.
• Факультет: Автоматика и Электроника
• Кафедра: Микро- и наноэлектроника
• Специальность: 14.05.04 – Электроника и автоматика физических установок

Опыт работы

• Организация: ФГУП ВНИИА
• Период: апрель 2012 г. – настоящее время
• Должность: инженер-технолог 1 категории
• Период: ноябрь 2010 г. – февраль 2012 г.
• Должность: стажёр

Профессиональные навыки:

• Разработка конструкций и технологий МЭМС. Опыт работы более 10 лет по производству микроэлектронных преобразователей давления (приоритетно на тезорезистивном эффекте) и температуры (приоритетно на базе p-n перехода и барьера Шоттки): уверенное понимание физики твердого тела, принципов работы полупроводниковых устройств, теоретический расчет и программное моделирование, создание топологии и участие в полном цикле производственного процесса
• Проведение независимых и командных исследований по разработкам передовых устройств в полупроводниковой промышленности. Управление проектами, концептуальная организация исследований, личное участие в разработках (от теоретических основ до финального продукта) и делегирование функционала в команде. Рад делиться своим опытом с командой и получать новые знания от коллег. Опыт работы в командах от 5 до 50 человек в зависимости от проектов
• Реализация и доказательство использования новых идей по процессам на пластинах (frontend) и в корпусе (backend). Выполнение технологических экспериментов для разработки новых этапов процесса, модулей и партий в целом для создания функциональных прототипов
• Управление и контроль за технологическими/производственными биполярными и КМОП процессами в чистых комнатах: поверхностная обработка (ЖХТ и ПХТ), фотолитография, процессы легирования (ионное легирование, диффузия, отжиг и окисление), CVD процессы для осаждения и травления диэлектрических пленок, напыление металлов, объемная обработка кремния с помощью жидкостного и сухого травления, корпусирование и разварка кристалла
• Планирование статистических экспериментов. Большой опыт тестирования разработок и продуктов, выпускаемых массово, на промежуточном и финальном уровне производства.
• Анализ научной и технической информации, исследование/доказательство актуальности путей решения для проблем
• Определение и решение ключевых задач в пределах моей компетенции. Общение и решение этих задач в тесном сотрудничестве с внутренней командой и внешними партнерами. Детальный анализ и определение основных узких мест проблем
• Владение высоким уровнем в реализации краткости и ясности отчетной презентации
• Самостоятельная публикация завершенных работ в передовых мировых журналах с высоким импакт-фактором: подготовка презентабельного материала; обсуждение и доказательство актуальности исследований при общении с рецензентами и редакторами журналов; распространение опубликованных материалов для увеличения большего интереса у сторонних исследователей и компаний
• Грамотное оформление правовых охранных документов, патентов и коммерческой тайны
• Владение языками: русский и английский (уровень Upper-Intermediate, имеется сертификат о сдачи экзамена B1 (Intermediate) в специализированной школе)
• Работа с программным обеспечением: Synopsys TCAD (G-2012.06), AutoCAD (Electrical 2020), NI Multisim (v.12, 2016), MS Office (2022)

Реализованные проекты

• Запуск и поддержка серийного производства тензомодулей датчиков давления объемом несколько тысяч единиц в год. Тензомодули применимы в составе датчиков дифференциального и избыточного давления для атомной и нефтегазовой промышленности для 6 групп диапазонов от 1,6 кПа до 16 МПа и с основной и дополнительной погрешностью менее 0,5%. Участие заключается в разработке топологии и технологии производства, выбора материала и моделирования процессов до сдачи партии финального продукта с ОТК и последующая поддержка по проекту с потребителем
• Участие в 5 ОКР и 2 НИР. В результате проведенных работ и реализации проектов по личной инициативе были разработаны и внедрены в производство конструкции элементов и технологии производства по следующим разработкам
• Тензомодуль датчика давления для микробарометра систем инфразвукового мониторинга. Достигнуты рекордны показатели чувствительности более S = 30 мВ/В/кПа для диапазона до 1 кПа при сохранении показателей погрешностей до 0,5% и повышении механической прочности при перегрузке давление до 400 кПа
• Миниатюрный кристалл датчик температуры (0,8х0,8х0,4 мм3) на основе диода Шоттки с чувствительностью K = -1,64 мВ/ºС (Iпр = 1 мА) для диапазона от -65 до +120 ºС и погрешностью до 0,7%
• Тензомодули датчиков дифференциального давления для 3 групп диапазонов от 25 кПа до 160 кПа с повышенной механической прочностью и датчиком температуры
• Тензомодули датчиков абсолютного давления для 4 групп диапазонов от 0,3 МПа до 1 МПа с датчиком температуры
• Тензомодуль датчика давления, где кристалл датчика давления использует электрическую схему в виде дифференциального каскада с отрицательной обратной связью с применением биполярных транзисторов (диссертационная работа)
• Преобразователь давления и температуры на едином кристалле датчика

Личностные качества

• Целеустремленный
• Пунктуальный
• Ответственный
• Готов к переездам
• Расстановка приоритетов и прагматичный выбор
• Стремление к изучению нового
• Готов к большим трудностям
• Эффективно делегирую задачи и управляю временем
• Готов работать с новыми задачами
• Хорошая адаптация к новому месту и коллективу
• Заинтересован в долгосрочном участии в растущей исследовательской группе
• Реалист

Публикации

• 13 статей (Sensors and Actuators A: Physical (Elsevier), Sensors Journal (IEEE), Journal of Micromechanics and Microengineering (IOP) и иные)
• 22 патентов РФ
• 18 конференций (IEEE Sensors 2021, ICOECS 2022, Российская конференция по физике полупроводников 2019 и 2018, а также иные)
• 250+ рецензий статей в 60+ международных журналах (Sensors Journal (IEEE), Sensors (MDPI), Sensors and Actuators A: Physical (Elsevier), Micromachines (MDPI) и иные)

Премии

• Научный руководитель победителя «Всероссийского инженерного конкурса» в 2025 г. 
• «Лучший изобретатель» от ФГУП «ВНИИА» в 2024 г.
• 2 место в секции «Информационно-измерительные и управляющие системы» на IV Научно-практическая конференция «Физико-технические интеллектуальные системы» (ФТИС-2025) (Москва, Россия, 2025)
• Победитель конкурса молодых учёных имени А.А. Бриша от ФГУП «ВНИИА» в 2023 г.
• Победитель конкурса «University Technology Exposure Program» от компаний Wevolver, Mouser Electronics and ANSYS в 2022 г.
• Победитель конкурса «Инновационный лидер атомной промышленности» от госкорпорации Росатом в 2019 г.
• Призёр в секции «Микроэлектроника» на Научно-Технической Конференции «ВНИИА»: 1 место в 2021 и 2014 гг., 2 место в 2019, 2017 и 2013 гг.

Членство в научных сообществах:

• Associate Member of the Institute of Physics (IOP, United Kingdom, 2025)

Основные ресурсы с информацией о кандидате (h – индекс Хирша (исключая самоцитирования), с – количество цитат)

• Scopus (h = 10 (10), c = 275)
• Web of Science (h = 10 (10), c = 266)
• Russian Citation Index (h = 10 (10), c = 314)
• Google Scholar (h = 13 (10), c = 398)
• ResearchGate (h = 13 (13), c = 613)
• SemanticScholar (h = 12, c = 292)
• Dimensions (h = 11, c = 329)
• Lens (h = 11, c = 329)
• SSRN
• Academia
• LinkedIn
• ArXiv
• ORCID
• Loop
• TechRxiv
• ResearchSquare
• OSF
• Google Patents
• Espacenet
• Glassdoor