Лаборатория технологий 3D-печати функциональных микроструктур
Публикаций
184
Цитирований
2 741
Индекс Хирша
29
Необходимо авторизоваться.
Изготовление полимерных оптических структур сверхвысокого разрешения. Разработка установки STED-DLW фотолитографии, в основе которой лежит метод прямого лазерного письма (DLW) с использованием дополнительного лазера гашения (STED- Stimulated Emission Depletion).
- Лазерная дифракция
- Темнопольная микроскопия
- Сканирующая электронная микроскопия (СЭМ)
- Фотолюминесценция
Алексей Витухновский
Заведующий лабораторией
Данила Колымагин
Научный сотрудник
Анастасия Писаренко
Младший научный сотрудник
Направления исследований
Прямое (3+1)D лазерное письмо элементов фотонных-интегральных схем
+
В Проекте предлагается развитие аддитивных лазерных технологий нового поколения применительно к созданию фотонных устройств, в частности, с применением прямого (3+1)D письма, основанного на фемтосекундной двухфотонной фотополимеризации. Главной идеей данного подхода является возможность влияния на оптические и механические свойства материала 3D-структур как в процессе литографии, так и управления свойствами полученных оптических элементов за счет контроля внешних условий таких как: температура, электрические и магнитные поля. Таким образом, кроме трех пространственных координат, добавляется еще одна ключевая для оптических элементов независимая переменная - показатель преломления вещества.
Генерация неразличимых фотонов при комнатной температуре в каскадных 3D резонаторах для фотонных интегральных схем на базе аддитивных технологий
+
Проект направлен на развитие аддитивной технологии создания фотонных интегральных схем (ФИС) и решение на базе данной технологии важнейшей проблемы квантовой фотоники - генерации одиночных фотонов с высокой степенью неразличимости. Фотонные интегральные схемы содержат множество оптически связанных между собой компонентов, изготовленных на одной подложке и совместно выполняющих разнообразные функции обработки оптических сигналов (в видимом или ближнем инфракрасном диапазонах длин волн).
Наноимпринт литография для массового создания 2.5D элементов микрооптики и оптоэлектроники
+
В рамках данного Проекта предлагается решение проблемы создания объемных мастер-штампов для наноимпринт литографии с помощью использования технологии прямой лазерной печати. Такой подход позволяет создавать не только элементы сложной планарной топологии с размерами элементов до 150 нм, но и задавать объемный рельеф на поверхности подложек и чипов. Такое преимущество может позволить массово создавать пассивные фотонные и дифракционные элементы, массивы микролинз, элементы совмещения многослойных литографических процессов для микроэлектромеханических систем (МЭМС). В ходе Проекта предполагается реализация и исследование технологии НИЛ с DLW мастер-штампами, созданными на основе оригинальных фотокомпозиций, включающих акриловые мономеры с отечественными фотоинициаторами.
Публикации и патенты
Найдено
Ничего не найдено, попробуйте изменить настройки фильтра.
Адрес лаборатории
Долгопрудный, Институтский переулок, 9
Необходимо авторизоваться.