Лаборатория технологий 3D-печати функциональных микроструктур
Публикаций
184
Цитирований
2 758
Индекс Хирша
30
Необходимо авторизоваться.
Изготовление полимерных оптических структур сверхвысокого разрешения. Разработка установки STED-DLW фотолитографии, в основе которой лежит метод прямого лазерного письма (DLW) с использованием дополнительного лазера гашения (STED- Stimulated Emission Depletion).
- Лазерная дифракция
- Темнопольная микроскопия
- Сканирующая электронная микроскопия (СЭМ)
- Фотолюминесценция
Алексей Витухновский
Заведующий лабораторией
Данила Колымагин
Научный сотрудник
Анастасия Писаренко
Младший научный сотрудник
Всего публикаций
181
Всего цитирований
2765
Цитирований на публикацию
15.28
Среднее число публикаций в год
4.21
Годы публикаций
1980-2022 (43 года)
h-index
30
i10-index
86
m-index
0.7
o-index
71
g-index
43
w-index
5
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.
Топ-100
Области наук
Журналы
Цитирующие журналы
Издатели
|
10
20
30
40
50
60
70
|
|
|
Elsevier
64 публикации, 35.36%
|
|
|
Pleiades Publishing
44 публикации, 24.31%
|
|
|
IOP Publishing
21 публикация, 11.6%
|
|
|
Springer Nature
17 публикаций, 9.39%
|
|
|
American Chemical Society (ACS)
6 публикаций, 3.31%
|
|
|
AIP Publishing
5 публикаций, 2.76%
|
|
|
Taylor & Francis
3 публикации, 1.66%
|
|
|
Uspekhi Fizicheskikh Nauk Journal
3 публикации, 1.66%
|
|
|
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
3 публикации, 1.66%
|
|
|
SPIE-Intl Soc Optical Eng
3 публикации, 1.66%
|
|
|
MDPI
2 публикации, 1.1%
|
|
|
OOO Zhurnal "Mendeleevskie Soobshcheniya"
2 публикации, 1.1%
|
|
|
Wiley
1 публикация, 0.55%
|
|
|
World Scientific
1 публикация, 0.55%
|
|
|
EDP Sciences
1 публикация, 0.55%
|
|
|
Optica Publishing Group
1 публикация, 0.55%
|
|
|
Japan Society of Applied Physics
1 публикация, 0.55%
|
|
|
American Physical Society (APS)
1 публикация, 0.55%
|
|
|
Hindawi Limited
1 публикация, 0.55%
|
|
|
Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii
1 публикация, 0.55%
|
|
|
10
20
30
40
50
60
70
|
Организации из публикаций
Страны из публикаций
|
20
40
60
80
100
120
140
160
|
|
|
Россия
|
Россия, 160, 88.4%
Россия
160 публикаций, 88.4%
|
|
Страна не определена
|
Страна не определена, 18, 9.94%
Страна не определена
18 публикаций, 9.94%
|
|
Бельгия
|
Бельгия, 14, 7.73%
Бельгия
14 публикаций, 7.73%
|
|
Япония
|
Япония, 8, 4.42%
Япония
8 публикаций, 4.42%
|
|
Великобритания
|
Великобритания, 7, 3.87%
Великобритания
7 публикаций, 3.87%
|
|
Греция
|
Греция, 6, 3.31%
Греция
6 публикаций, 3.31%
|
|
СССР
|
СССР, 6, 3.31%
СССР
6 публикаций, 3.31%
|
|
Украина
|
Украина, 5, 2.76%
Украина
5 публикаций, 2.76%
|
|
США
|
США, 4, 2.21%
США
4 публикации, 2.21%
|
|
Китай
|
Китай, 2, 1.1%
Китай
2 публикации, 1.1%
|
|
Германия
|
Германия, 1, 0.55%
Германия
1 публикация, 0.55%
|
|
Франция
|
Франция, 1, 0.55%
Франция
1 публикация, 0.55%
|
|
Беларусь
|
Беларусь, 1, 0.55%
Беларусь
1 публикация, 0.55%
|
|
Ирландия
|
Ирландия, 1, 0.55%
Ирландия
1 публикация, 0.55%
|
|
Канада
|
Канада, 1, 0.55%
Канада
1 публикация, 0.55%
|
|
Швеция
|
Швеция, 1, 0.55%
Швеция
1 публикация, 0.55%
|
|
20
40
60
80
100
120
140
160
|
Цитирующие организации
Цитирующие страны
- Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
- Статистика пересчитывается раз в сутки.
Направления исследований
Прямое (3+1)D лазерное письмо элементов фотонных-интегральных схем
+
В Проекте предлагается развитие аддитивных лазерных технологий нового поколения применительно к созданию фотонных устройств, в частности, с применением прямого (3+1)D письма, основанного на фемтосекундной двухфотонной фотополимеризации. Главной идеей данного подхода является возможность влияния на оптические и механические свойства материала 3D-структур как в процессе литографии, так и управления свойствами полученных оптических элементов за счет контроля внешних условий таких как: температура, электрические и магнитные поля. Таким образом, кроме трех пространственных координат, добавляется еще одна ключевая для оптических элементов независимая переменная - показатель преломления вещества.
Генерация неразличимых фотонов при комнатной температуре в каскадных 3D резонаторах для фотонных интегральных схем на базе аддитивных технологий
+
Проект направлен на развитие аддитивной технологии создания фотонных интегральных схем (ФИС) и решение на базе данной технологии важнейшей проблемы квантовой фотоники - генерации одиночных фотонов с высокой степенью неразличимости. Фотонные интегральные схемы содержат множество оптически связанных между собой компонентов, изготовленных на одной подложке и совместно выполняющих разнообразные функции обработки оптических сигналов (в видимом или ближнем инфракрасном диапазонах длин волн).
Наноимпринт литография для массового создания 2.5D элементов микрооптики и оптоэлектроники
+
В рамках данного Проекта предлагается решение проблемы создания объемных мастер-штампов для наноимпринт литографии с помощью использования технологии прямой лазерной печати. Такой подход позволяет создавать не только элементы сложной планарной топологии с размерами элементов до 150 нм, но и задавать объемный рельеф на поверхности подложек и чипов. Такое преимущество может позволить массово создавать пассивные фотонные и дифракционные элементы, массивы микролинз, элементы совмещения многослойных литографических процессов для микроэлектромеханических систем (МЭМС). В ходе Проекта предполагается реализация и исследование технологии НИЛ с DLW мастер-штампами, созданными на основе оригинальных фотокомпозиций, включающих акриловые мономеры с отечественными фотоинициаторами.
Публикации и патенты
Найдено
Ничего не найдено, попробуйте изменить настройки фильтра.
Адрес лаборатории
Долгопрудный, Институтский переулок, 9
Необходимо авторизоваться.