О себе

Аспирант 4-го года НИУ МИЭТ, младший научный сотрудник научно-исследовательской лаборатории электронной микроскопии в НИУ МИЭТ.

Всего публикаций
8
Всего цитирований
5
Цитирований на публикацию
0.63
Среднее число публикаций в год
1.6
Среднее число соавторов
3.88
Годы публикаций
2022-2026 (5 лет)
h-index
1
i10-index
0
m-index
0.2
o-index
1
g-index
2
w-index
0
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Топ-100

Области наук

1
2
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 2, 25%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
2 публикации, 25%
Atomic and Molecular Physics, and Optics, 2, 25%
Atomic and Molecular Physics, and Optics
2 публикации, 25%
Condensed Matter Physics, 2, 25%
Condensed Matter Physics
2 публикации, 25%
1
2

Журналы

1
2
3
4
Semiconductors
4 публикации, 50%
Journal of Surface Investigation
2 публикации, 25%
Applied Surface Science
1 публикация, 12.5%
Поверхность Рентгеновские синхротронные и нейтронные исследования
1 публикация, 12.5%
1
2
3
4

Цитирующие журналы

1
2
3
Semiconductors
3 цитирования, 60%
Nanoscale
1 цитирование, 20%
Vacuum
1 цитирование, 20%
1
2
3

Цитируемые журналы

5
10
15
20
25
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
24 цитирования, 9.68%
Журнал не определён, 14, 5.65%
Журнал не определён
14 цитирований, 5.65%
Journal of Applied Physics
13 цитирований, 5.24%
Ultramicroscopy
12 цитирований, 4.84%
Applied Surface Science
12 цитирований, 4.84%
Physical Review B
12 цитирований, 4.84%
Journal of Surface Investigation
10 цитирований, 4.03%
MRS Bulletin
10 цитирований, 4.03%
Springer Series in Materials Science
6 цитирований, 2.42%
Optics Express
6 цитирований, 2.42%
Microscopy and Microanalysis
5 цитирований, 2.02%
Vacuum
4 цитирования, 1.61%
Scientific Reports
4 цитирования, 1.61%
Semiconductors
4 цитирования, 1.61%
Journal Physics D: Applied Physics
4 цитирования, 1.61%
Nanotechnology
4 цитирования, 1.61%
Microelectronic Engineering
4 цитирования, 1.61%
Journal of Nuclear Materials
4 цитирования, 1.61%
Nature Nanotechnology
3 цитирования, 1.21%
Journal of Chemical Physics
3 цитирования, 1.21%
Applied Physics Reviews
3 цитирования, 1.21%
Materials Research Express
3 цитирования, 1.21%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
3 цитирования, 1.21%
Scripta Materialia
3 цитирования, 1.21%
Journal of Vacuum Science and Technology B
3 цитирования, 1.21%
Advanced Materials Technologies
2 цитирования, 0.81%
Surface Science
2 цитирования, 0.81%
Micron
2 цитирования, 0.81%
Computational Materials Science
2 цитирования, 0.81%
Physical Review Letters
2 цитирования, 0.81%
Journal of Physics Condensed Matter
2 цитирования, 0.81%
Journal of the Electrochemical Society
2 цитирования, 0.81%
Nanomaterials
2 цитирования, 0.81%
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
2 цитирования, 0.81%
Physical Review A
2 цитирования, 0.81%
Surface and Interface Analysis
2 цитирования, 0.81%
Computer Physics Communications
2 цитирования, 0.81%
International Journal of Advanced Manufacturing Technology
2 цитирования, 0.81%
Beilstein Journal of Nanotechnology
2 цитирования, 0.81%
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena
2 цитирования, 0.81%
Nuclear Instruments and Methods
2 цитирования, 0.81%
Известия Российской академии наук Серия физическая
2 цитирования, 0.81%
Carbon
1 цитирование, 0.4%
Nanoscale
1 цитирование, 0.4%
Materials Science and Engineering: R: Reports
1 цитирование, 0.4%
Microelectronics Reliability
1 цитирование, 0.4%
Journal of Materials Research
1 цитирование, 0.4%
Applied Physics Letters
1 цитирование, 0.4%
Advanced Electronic Materials
1 цитирование, 0.4%
Applied Optics
1 цитирование, 0.4%
Astrophysical Journal Letters
1 цитирование, 0.4%
Computer
1 цитирование, 0.4%
Optical Materials
1 цитирование, 0.4%
Materials Science in Semiconductor Processing
1 цитирование, 0.4%
Materials and Design
1 цитирование, 0.4%
Small
1 цитирование, 0.4%
Annual Review of Chemical and Biomolecular Engineering
1 цитирование, 0.4%
BioTechniques
1 цитирование, 0.4%
Radiation Effects and Defects in Solids
1 цитирование, 0.4%
Journal of Applied Crystallography
1 цитирование, 0.4%
Surface and Coatings Technology
1 цитирование, 0.4%
Physical Review E
1 цитирование, 0.4%
Microscopy Research and Technique
1 цитирование, 0.4%
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
1 цитирование, 0.4%
Procedia Computer Science
1 цитирование, 0.4%
Applied Physics A: Materials Science and Processing
1 цитирование, 0.4%
Journal of Crystal Growth
1 цитирование, 0.4%
Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences
1 цитирование, 0.4%
Studies in Fuzziness and Soft Computing
1 цитирование, 0.4%
Journal of Microscopy
1 цитирование, 0.4%
Thin Solid Films
1 цитирование, 0.4%
Physica B: Condensed Matter
1 цитирование, 0.4%
Journal of Electronic Materials
1 цитирование, 0.4%
IEEE Transactions on Nuclear Science
1 цитирование, 0.4%
Journal of Computational Physics
1 цитирование, 0.4%
Lecture Notes in Mathematics
1 цитирование, 0.4%
Journal of Computational Electronics
1 цитирование, 0.4%
Journal of Physical Chemistry Letters
1 цитирование, 0.4%
Current Opinion in Solid State and Materials Science
1 цитирование, 0.4%
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
1 цитирование, 0.4%
Technical Physics Letters
1 цитирование, 0.4%
Поверхность Рентгеновские синхротронные и нейтронные исследования
1 цитирование, 0.4%
Nanofabrication
1 цитирование, 0.4%
5
10
15
20
25

Издатели

1
2
3
4
5
6
Pleiades Publishing
6 публикаций, 75%
Elsevier
1 публикация, 12.5%
The Russian Academy of Sciences
1 публикация, 12.5%
1
2
3
4
5
6

Организации из публикаций

1
2
3
4
5
6
7
8
Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники»
8 публикаций, 100%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
2 публикации, 25%
1
2
3
4
5
6
7
8

Страны из публикаций

1
2
3
4
5
6
7
8
Россия, 8, 100%
Россия
8 публикаций, 100%
1
2
3
4
5
6
7
8

Цитирующие организации

1
2
3
Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники»
3 цитирования, 60%
Даляньский университет Цзяотун
1 цитирование, 20%
1
2
3

Цитирующие страны

1
2
3
Россия, 3, 60%
Россия
3 цитирования, 60%
Китай, 1, 20%
Китай
1 цитирование, 20%
1
2
3
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.
Должность
Младший научный сотрудник
Тип занятости
Полная
Годы
2024 — нв
Должность
Инженер
Тип занятости
Частичная
Годы
2018 — 2024