Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology

SPIE-Intl Soc Optical Eng

ISSN: 27088340

Публикации журнала в Cobalt

Вы ученый?

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.

Войти с ORCID

SCImago

БС

БС2

Impact factor

2.3

SJR

0.437

CiteScore

4.3

Годы выпуска

2024-2026

Варианты названий

Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology

Страница журнала в БС

за всё время с 2021

Публикаций

413

Цитирований

1 378

Индекс Хирша

Публикаций

412

Цитирований

1 362

Топ-3 цитирующих журналов

Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology (105 цитирований)

Optics Express (65 цитирований)

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes (55 цитирований)

Топ-3 организаций

за всё время за 5 лет

Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр (67 публикаций)

Лёвенский католический университет (29 публикаций)

Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли (17 публикаций)

Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр (59 публикаций)

Лёвенский католический университет (27 публикаций)

Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли (14 публикаций)

Топ-3 стран

за всё время за 5 лет

США (117 публикаций)

Бельгия (70 публикаций)

Китай (57 публикаций)

США (104 публикации)

Бельгия (62 публикации)

Китай (51 публикация)

Топ-3 учёных по количеству статей

1 публикация в журнале

Виолетта Лука

26 публикаций, 309 цитирований, 9 рецензий

Индекс Хирша 11

Стэнфордский университет

1 публикация в журнале

Янаги Масаси

22 публикации, 378 цитирований

Индекс Хирша 10

1 публикация в журнале

Папаверо Георгий

PhD

20 публикаций, 155 цитирований

Индекс Хирша 7

Университет имени Аристотеля в Салониках

Национальный центр научных исследований «Демокрит»

Наиболее цитируемые за 5 лет

Название публикации

Топ-100

Цитирующие журналы

	20 40 60 80 100 120
Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology	Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology, 105, 7.62% Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 105 цитирований, 7.62%
Optics Express	Optics Express, 65, 4.72% Optics Express 65 цитирований, 4.72%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes	Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes, 55, 3.99% Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes 55 цитирований, 3.99%
ACS applied materials & interfaces	ACS applied materials & interfaces, 29, 2.1% ACS applied materials & interfaces 29 цитирований, 2.1%
Chemistry of Materials	Chemistry of Materials, 25, 1.81% Chemistry of Materials 25 цитирований, 1.81%
Journal of Vacuum Science and Technology B	Journal of Vacuum Science and Technology B, 24, 1.74% Journal of Vacuum Science and Technology B 24 цитирования, 1.74%
Journal of Applied Physics	Journal of Applied Physics, 21, 1.52% Journal of Applied Physics 21 цитирование, 1.52%
Applied Optics	Applied Optics, 19, 1.38% Applied Optics 19 цитирований, 1.38%
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing	IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 18, 1.31% IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 18 цитирований, 1.31%
Micromachines	Micromachines, 18, 1.31% Micromachines 18 цитирований, 1.31%
Plasma Sources Science and Technology	Plasma Sources Science and Technology, 15, 1.09% Plasma Sources Science and Technology 15 цитирований, 1.09%
Journal of Photopolymer Science and Technology	Journal of Photopolymer Science and Technology, 14, 1.02% Journal of Photopolymer Science and Technology 14 цитирований, 1.02%
Scientia Sinica Technologica	Scientia Sinica Technologica, 14, 1.02% Scientia Sinica Technologica 14 цитирований, 1.02%
ACS Applied Nano Materials	ACS Applied Nano Materials, 12, 0.87% ACS Applied Nano Materials 12 цитирований, 0.87%
Applied Physics Letters	Applied Physics Letters, 11, 0.8% Applied Physics Letters 11 цитирований, 0.8%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films	Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 11, 0.8% Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films 11 цитирований, 0.8%
ACS Applied Polymer Materials	ACS Applied Polymer Materials, 11, 0.8% ACS Applied Polymer Materials 11 цитирований, 0.8%
Langmuir	Langmuir, 10, 0.73% Langmuir 10 цитирований, 0.73%
IEEE Transactions on Electron Devices	IEEE Transactions on Electron Devices, 10, 0.73% IEEE Transactions on Electron Devices 10 цитирований, 0.73%
Micro and Nano Engineering	Micro and Nano Engineering, 9, 0.65% Micro and Nano Engineering 9 цитирований, 0.65%
Journal Physics D: Applied Physics	Journal Physics D: Applied Physics, 9, 0.65% Journal Physics D: Applied Physics 9 цитирований, 0.65%
Crystals	Crystals, 9, 0.65% Crystals 9 цитирований, 0.65%
Nanotechnology	Nanotechnology, 9, 0.65% Nanotechnology 9 цитирований, 0.65%
Measurement Science and Technology	Measurement Science and Technology, 9, 0.65% Measurement Science and Technology 9 цитирований, 0.65%
Acta Optica Sinica	Acta Optica Sinica, 9, 0.65% Acta Optica Sinica 9 цитирований, 0.65%
Environmental Science & Technology	Environmental Science & Technology, 9, 0.65% Environmental Science & Technology 9 цитирований, 0.65%
Chinese Journal of Chemistry	Chinese Journal of Chemistry, 8, 0.58% Chinese Journal of Chemistry 8 цитирований, 0.58%
Applied Surface Science	Applied Surface Science, 8, 0.58% Applied Surface Science 8 цитирований, 0.58%
Applied Sciences (Switzerland)	Applied Sciences (Switzerland), 8, 0.58% Applied Sciences (Switzerland) 8 цитирований, 0.58%
Measurement: Journal of the International Measurement Confederation	Measurement: Journal of the International Measurement Confederation, 7, 0.51% Measurement: Journal of the International Measurement Confederation 7 цитирований, 0.51%
ACS Macro Letters	ACS Macro Letters, 7, 0.51% ACS Macro Letters 7 цитирований, 0.51%
Electronics (Switzerland)	Electronics (Switzerland), 7, 0.51% Electronics (Switzerland) 7 цитирований, 0.51%
Nano Letters	Nano Letters, 7, 0.51% Nano Letters 7 цитирований, 0.51%
Macromolecules	Macromolecules, 7, 0.51% Macromolecules 7 цитирований, 0.51%
IEEE Electron Devices Reviews	IEEE Electron Devices Reviews, 7, 0.51% IEEE Electron Devices Reviews 7 цитирований, 0.51%
ACS Nano	ACS Nano, 6, 0.44% ACS Nano 6 цитирований, 0.44%
Physics of Plasmas	Physics of Plasmas, 6, 0.44% Physics of Plasmas 6 цитирований, 0.44%
Cluster Computing	Cluster Computing, 6, 0.44% Cluster Computing 6 цитирований, 0.44%
IEEE Access	IEEE Access, 6, 0.44% IEEE Access 6 цитирований, 0.44%
AIP Advances	AIP Advances, 5, 0.36% AIP Advances 5 цитирований, 0.36%
Materials Science in Semiconductor Processing	Materials Science in Semiconductor Processing, 5, 0.36% Materials Science in Semiconductor Processing 5 цитирований, 0.36%
Journal of Physical Chemistry C	Journal of Physical Chemistry C, 5, 0.36% Journal of Physical Chemistry C 5 цитирований, 0.36%
Scientific Reports	Scientific Reports, 5, 0.36% Scientific Reports 5 цитирований, 0.36%
Advances in Colloid and Interface Science	Advances in Colloid and Interface Science, 5, 0.36% Advances in Colloid and Interface Science 5 цитирований, 0.36%
Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision	Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision, 5, 0.36% Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision 5 цитирований, 0.36%
Machine Learning: Science and Technology	Machine Learning: Science and Technology, 5, 0.36% Machine Learning: Science and Technology 5 цитирований, 0.36%
Applied Physics Reviews	Applied Physics Reviews, 4, 0.29% Applied Physics Reviews 4 цитирования, 0.29%
iScience	iScience, 4, 0.29% iScience 4 цитирования, 0.29%
Chemical Science	Chemical Science, 4, 0.29% Chemical Science 4 цитирования, 0.29%
Nanomaterials	Nanomaterials, 4, 0.29% Nanomaterials 4 цитирования, 0.29%
Chemical Reviews	Chemical Reviews, 4, 0.29% Chemical Reviews 4 цитирования, 0.29%
Laser and Photonics Reviews	Laser and Photonics Reviews, 4, 0.29% Laser and Photonics Reviews 4 цитирования, 0.29%
CIRP Annals - Manufacturing Technology	CIRP Annals - Manufacturing Technology, 4, 0.29% CIRP Annals - Manufacturing Technology 4 цитирования, 0.29%
IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems	IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, 4, 0.29% IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems 4 цитирования, 0.29%
Precision Engineering	Precision Engineering, 4, 0.29% Precision Engineering 4 цитирования, 0.29%
Applied Physics Express	Applied Physics Express, 4, 0.29% Applied Physics Express 4 цитирования, 0.29%
Inorganic Chemistry	Inorganic Chemistry, 4, 0.29% Inorganic Chemistry 4 цитирования, 0.29%
ACS Applied Electronic Materials	ACS Applied Electronic Materials, 4, 0.29% ACS Applied Electronic Materials 4 цитирования, 0.29%
ACS Applied Optical Materials	ACS Applied Optical Materials, 4, 0.29% ACS Applied Optical Materials 4 цитирования, 0.29%
Optics Continuum	Optics Continuum, 4, 0.29% Optics Continuum 4 цитирования, 0.29%
IEEE Electron Devices Magazine	IEEE Electron Devices Magazine, 4, 0.29% IEEE Electron Devices Magazine 4 цитирования, 0.29%
Moore and More	Moore and More, 4, 0.29% Moore and More 4 цитирования, 0.29%
Plasma Science and Technology	Plasma Science and Technology, 3, 0.22% Plasma Science and Technology 3 цитирования, 0.22%
Journal of Chemical Physics	Journal of Chemical Physics, 3, 0.22% Journal of Chemical Physics 3 цитирования, 0.22%
Small Methods	Small Methods, 3, 0.22% Small Methods 3 цитирования, 0.22%
Journal of Modern Optics	Journal of Modern Optics, 3, 0.22% Journal of Modern Optics 3 цитирования, 0.22%
Journal of the American Chemical Society	Journal of the American Chemical Society, 3, 0.22% Journal of the American Chemical Society 3 цитирования, 0.22%
Expert Systems with Applications	Expert Systems with Applications, 3, 0.22% Expert Systems with Applications 3 цитирования, 0.22%
ECS Journal of Solid State Science and Technology	ECS Journal of Solid State Science and Technology, 3, 0.22% ECS Journal of Solid State Science and Technology 3 цитирования, 0.22%
Review of Scientific Instruments	Review of Scientific Instruments, 3, 0.22% Review of Scientific Instruments 3 цитирования, 0.22%
IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement	IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement, 3, 0.22% IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement 3 цитирования, 0.22%
Physical Review Accelerators and Beams	Physical Review Accelerators and Beams, 3, 0.22% Physical Review Accelerators and Beams 3 цитирования, 0.22%
Photonics	Photonics, 3, 0.22% Photonics 3 цитирования, 0.22%
Physics of Fluids	Physics of Fluids, 3, 0.22% Physics of Fluids 3 цитирования, 0.22%
Advanced Materials Interfaces	Advanced Materials Interfaces, 3, 0.22% Advanced Materials Interfaces 3 цитирования, 0.22%
Physica Scripta	Physica Scripta, 3, 0.22% Physica Scripta 3 цитирования, 0.22%
ACM Transactions on Design Automation of Electronic Systems	ACM Transactions on Design Automation of Electronic Systems, 3, 0.22% ACM Transactions on Design Automation of Electronic Systems 3 цитирования, 0.22%
AEJ - Alexandria Engineering Journal	AEJ - Alexandria Engineering Journal, 3, 0.22% AEJ - Alexandria Engineering Journal 3 цитирования, 0.22%
Materials	Materials, 3, 0.22% Materials 3 цитирования, 0.22%
International Journal of Extreme Manufacturing	International Journal of Extreme Manufacturing, 3, 0.22% International Journal of Extreme Manufacturing 3 цитирования, 0.22%
Engineering Research Express	Engineering Research Express, 3, 0.22% Engineering Research Express 3 цитирования, 0.22%
Ultramicroscopy	Ultramicroscopy, 2, 0.15% Ultramicroscopy 2 цитирования, 0.15%
IEEE Journal of the Electron Devices Society	IEEE Journal of the Electron Devices Society, 2, 0.15% IEEE Journal of the Electron Devices Society 2 цитирования, 0.15%
Laser and Optoelectronics Progress	Laser and Optoelectronics Progress, 2, 0.15% Laser and Optoelectronics Progress 2 цитирования, 0.15%
Journal of Physics: Conference Series	Journal of Physics: Conference Series, 2, 0.15% Journal of Physics: Conference Series 2 цитирования, 0.15%
Journal of Materials Chemistry C	Journal of Materials Chemistry C, 2, 0.15% Journal of Materials Chemistry C 2 цитирования, 0.15%
Solid-State Electronics	Solid-State Electronics, 2, 0.15% Solid-State Electronics 2 цитирования, 0.15%
Trends in Chemistry	Trends in Chemistry, 2, 0.15% Trends in Chemistry 2 цитирования, 0.15%
International Communications in Heat and Mass Transfer	International Communications in Heat and Mass Transfer, 2, 0.15% International Communications in Heat and Mass Transfer 2 цитирования, 0.15%
Optics and Laser Technology	Optics and Laser Technology, 2, 0.15% Optics and Laser Technology 2 цитирования, 0.15%
ACS Sensors	ACS Sensors, 2, 0.15% ACS Sensors 2 цитирования, 0.15%
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology	Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology, 2, 0.15% Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology 2 цитирования, 0.15%
Rapid Communications in Mass Spectrometry	Rapid Communications in Mass Spectrometry, 2, 0.15% Rapid Communications in Mass Spectrometry 2 цитирования, 0.15%
ACS Photonics	ACS Photonics, 2, 0.15% ACS Photonics 2 цитирования, 0.15%
Chemical Engineering Journal	Chemical Engineering Journal, 2, 0.15% Chemical Engineering Journal 2 цитирования, 0.15%
Chinese Journal of Lasers	Chinese Journal of Lasers, 2, 0.15% Chinese Journal of Lasers 2 цитирования, 0.15%
Optica	Optica, 2, 0.15% Optica 2 цитирования, 0.15%
Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry	Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2, 0.15% Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 2 цитирования, 0.15%
Sensors	Sensors, 2, 0.15% Sensors 2 цитирования, 0.15%
APL Photonics	APL Photonics, 2, 0.15% APL Photonics 2 цитирования, 0.15%

	20 40 60 80 100 120

Цитирующие издатели

	50 100 150 200 250 300 350
SPIE-Intl Soc Optical Eng	SPIE-Intl Soc Optical Eng, 334, 24.24% SPIE-Intl Soc Optical Eng 334 цитирования, 24.24%
American Chemical Society (ACS)	American Chemical Society (ACS), 159, 11.54% American Chemical Society (ACS) 159 цитирований, 11.54%
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)	Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 132, 9.58% Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) 132 цитирования, 9.58%
Elsevier	Elsevier, 129, 9.36% Elsevier 129 цитирований, 9.36%
IOP Publishing	IOP Publishing, 107, 7.76% IOP Publishing 107 цитирований, 7.76%
Optica Publishing Group	Optica Publishing Group, 98, 7.11% Optica Publishing Group 98 цитирований, 7.11%
MDPI	MDPI, 64, 4.64% MDPI 64 цитирования, 4.64%
AIP Publishing	AIP Publishing, 61, 4.43% AIP Publishing 61 цитирование, 4.43%
American Vacuum Society	American Vacuum Society, 39, 2.83% American Vacuum Society 39 цитирований, 2.83%
Springer Nature	Springer Nature, 35, 2.54% Springer Nature 35 цитирований, 2.54%
Wiley	Wiley, 34, 2.47% Wiley 34 цитирования, 2.47%
Japan Society of Applied Physics	Japan Society of Applied Physics, 25, 1.81% Japan Society of Applied Physics 25 цитирований, 1.81%
Science in China Press	Science in China Press, 15, 1.09% Science in China Press 15 цитирований, 1.09%
The Technical Association of Photopolymers, Japan	The Technical Association of Photopolymers, Japan, 14, 1.02% The Technical Association of Photopolymers, Japan 14 цитирований, 1.02%
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics	Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, 13, 0.94% Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics 13 цитирований, 0.94%
Royal Society of Chemistry (RSC)	Royal Society of Chemistry (RSC), 10, 0.73% Royal Society of Chemistry (RSC) 10 цитирований, 0.73%
Association for Computing Machinery (ACM)	Association for Computing Machinery (ACM), 10, 0.73% Association for Computing Machinery (ACM) 10 цитирований, 0.73%
American Physical Society (APS)	American Physical Society (APS), 4, 0.29% American Physical Society (APS) 4 цитирования, 0.29%
Taylor & Francis	Taylor & Francis, 3, 0.22% Taylor & Francis 3 цитирования, 0.22%
The Electrochemical Society	The Electrochemical Society, 3, 0.22% The Electrochemical Society 3 цитирования, 0.22%
Pleiades Publishing	Pleiades Publishing, 2, 0.15% Pleiades Publishing 2 цитирования, 0.15%
Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences	Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, 2, 0.15% Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences 2 цитирования, 0.15%
The Surface Science Society of Japan	The Surface Science Society of Japan, 2, 0.15% The Surface Science Society of Japan 2 цитирования, 0.15%
De Gruyter Brill	De Gruyter Brill, 1, 0.07% De Gruyter Brill 1 цитирование, 0.07%
SAGE	SAGE, 1, 0.07% SAGE 1 цитирование, 0.07%
Trans Tech Publications	Trans Tech Publications, 1, 0.07% Trans Tech Publications 1 цитирование, 0.07%
Frontiers Media S.A.	Frontiers Media S.A., 1, 0.07% Frontiers Media S.A. 1 цитирование, 0.07%
International Union of Crystallography (IUCr)	International Union of Crystallography (IUCr), 1, 0.07% International Union of Crystallography (IUCr) 1 цитирование, 0.07%
Fuji Technology Press	Fuji Technology Press, 1, 0.07% Fuji Technology Press 1 цитирование, 0.07%
Beilstein-Institut	Beilstein-Institut, 1, 0.07% Beilstein-Institut 1 цитирование, 0.07%
Hindawi Limited	Hindawi Limited, 1, 0.07% Hindawi Limited 1 цитирование, 0.07%
Annual Reviews	Annual Reviews, 1, 0.07% Annual Reviews 1 цитирование, 0.07%
ASME International	ASME International, 1, 0.07% ASME International 1 цитирование, 0.07%
Japan Society for Environmental Chemistry	Japan Society for Environmental Chemistry, 1, 0.07% Japan Society for Environmental Chemistry 1 цитирование, 0.07%
The Open Journal	The Open Journal, 1, 0.07% The Open Journal 1 цитирование, 0.07%
IntechOpen	IntechOpen, 1, 0.07% IntechOpen 1 цитирование, 0.07%
Hans Publishers	Hans Publishers, 1, 0.07% Hans Publishers 1 цитирование, 0.07%
The Japan Society for Precision Engineering	The Japan Society for Precision Engineering, 1, 0.07% The Japan Society for Precision Engineering 1 цитирование, 0.07%
Kazakh-British Technical University	Kazakh-British Technical University, 1, 0.07% Kazakh-British Technical University 1 цитирование, 0.07%
Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii	Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii, 1, 0.07% Autonomous Non-profit Organization Editorial Board of the journal Uspekhi Khimii 1 цитирование, 0.07%

	50 100 150 200 250 300 350

Публикующиеся организации

Публикующиеся организации за 5 лет

Публикующиеся страны

	20 40 60 80 100 120
США	США, 117, 28.33% США 117 публикаций, 28.33%
Бельгия	Бельгия, 70, 16.95% Бельгия 70 публикаций, 16.95%
Китай	Китай, 57, 13.8% Китай 57 публикаций, 13.8%
Япония	Япония, 44, 10.65% Япония 44 публикации, 10.65%
Германия	Германия, 37, 8.96% Германия 37 публикаций, 8.96%
Нидерланды	Нидерланды, 31, 7.51% Нидерланды 31 публикация, 7.51%
Республика Корея	Республика Корея, 16, 3.87% Республика Корея 16 публикаций, 3.87%
Франция	Франция, 10, 2.42% Франция 10 публикаций, 2.42%
Швейцария	Швейцария, 9, 2.18% Швейцария 9 публикаций, 2.18%
Израиль	Израиль, 5, 1.21% Израиль 5 публикаций, 1.21%
Великобритания	Великобритания, 3, 0.73% Великобритания 3 публикации, 0.73%
Россия	Россия, 2, 0.48% Россия 2 публикации, 0.48%
Австрия	Австрия, 2, 0.48% Австрия 2 публикации, 0.48%
Вьетнам	Вьетнам, 2, 0.48% Вьетнам 2 публикации, 0.48%
Индия	Индия, 2, 0.48% Индия 2 публикации, 0.48%
Италия	Италия, 2, 0.48% Италия 2 публикации, 0.48%
Сингапур	Сингапур, 2, 0.48% Сингапур 2 публикации, 0.48%
Венгрия	Венгрия, 1, 0.24% Венгрия 1 публикация, 0.24%
Греция	Греция, 1, 0.24% Греция 1 публикация, 0.24%
Египет	Египет, 1, 0.24% Египет 1 публикация, 0.24%
Иран	Иран, 1, 0.24% Иран 1 публикация, 0.24%
Канада	Канада, 1, 0.24% Канада 1 публикация, 0.24%
Латвия	Латвия, 1, 0.24% Латвия 1 публикация, 0.24%
Мексика	Мексика, 1, 0.24% Мексика 1 публикация, 0.24%
ОАЭ	ОАЭ, 1, 0.24% ОАЭ 1 публикация, 0.24%
Турция	Турция, 1, 0.24% Турция 1 публикация, 0.24%
	20 40 60 80 100 120

Публикующиеся страны за 5 лет

	20 40 60 80 100 120
США	США, 104, 25.24% США 104 публикации, 25.24%
Бельгия	Бельгия, 62, 15.05% Бельгия 62 публикации, 15.05%
Китай	Китай, 51, 12.38% Китай 51 публикация, 12.38%
Япония	Япония, 42, 10.19% Япония 42 публикации, 10.19%
Германия	Германия, 30, 7.28% Германия 30 публикаций, 7.28%
Нидерланды	Нидерланды, 27, 6.55% Нидерланды 27 публикаций, 6.55%
Республика Корея	Республика Корея, 14, 3.4% Республика Корея 14 публикаций, 3.4%
Франция	Франция, 10, 2.43% Франция 10 публикаций, 2.43%
Швейцария	Швейцария, 9, 2.18% Швейцария 9 публикаций, 2.18%
Израиль	Израиль, 5, 1.21% Израиль 5 публикаций, 1.21%
Великобритания	Великобритания, 3, 0.73% Великобритания 3 публикации, 0.73%
Россия	Россия, 2, 0.49% Россия 2 публикации, 0.49%
Австрия	Австрия, 2, 0.49% Австрия 2 публикации, 0.49%
Вьетнам	Вьетнам, 2, 0.49% Вьетнам 2 публикации, 0.49%
Индия	Индия, 2, 0.49% Индия 2 публикации, 0.49%
Италия	Италия, 2, 0.49% Италия 2 публикации, 0.49%
Сингапур	Сингапур, 2, 0.49% Сингапур 2 публикации, 0.49%
Венгрия	Венгрия, 1, 0.24% Венгрия 1 публикация, 0.24%
Греция	Греция, 1, 0.24% Греция 1 публикация, 0.24%
Египет	Египет, 1, 0.24% Египет 1 публикация, 0.24%
Иран	Иран, 1, 0.24% Иран 1 публикация, 0.24%
Канада	Канада, 1, 0.24% Канада 1 публикация, 0.24%
ОАЭ	ОАЭ, 1, 0.24% ОАЭ 1 публикация, 0.24%
Турция	Турция, 1, 0.24% Турция 1 публикация, 0.24%
	20 40 60 80 100 120

1 публикация в журнале

Виолетта Лука

26 публикаций, 309 цитирований, 9 рецензий

Индекс Хирша 11

Стэнфордский университет

1 публикация в журнале

Папаверо Георгий

PhD

20 публикаций, 155 цитирований

Индекс Хирша 7

Университет имени Аристотеля в Салониках

Национальный центр научных исследований «Демокрит»

1 публикация в журнале

Янаги Масаси

22 публикации, 378 цитирований

Индекс Хирша 10

	10 20 30 40 50 60 70
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр	Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр, 67, 16.22% Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр 67 публикаций, 16.22%
Лёвенский католический университет	Лёвенский католический университет, 29, 7.02% Лёвенский католический университет 29 публикаций, 7.02%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли	Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли, 17, 4.12% Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли 17 публикаций, 4.12%
Samsung	Samsung, 10, 2.42% Samsung 10 публикаций, 2.42%
Университет Ханьян	Университет Ханьян, 10, 2.42% Университет Ханьян 10 публикаций, 2.42%
Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств	Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств, 10, 2.42% Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств 10 публикаций, 2.42%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук	Институт микроэлектроники, Китайская академия наук, 10, 2.42% Институт микроэлектроники, Китайская академия наук 10 публикаций, 2.42%
Институт Пауля Шеррера	Институт Пауля Шеррера, 9, 2.18% Институт Пауля Шеррера 9 публикаций, 2.18%
Хэфэйский технологический университет	Хэфэйский технологический университет, 6, 1.45% Хэфэйский технологический университет 6 публикаций, 1.45%
Аньхойский университет науки и технологий	Аньхойский университет науки и технологий, 6, 1.45% Аньхойский университет науки и технологий 6 публикаций, 1.45%
Пекинский технологический институт	Пекинский технологический институт, 5, 1.21% Пекинский технологический институт 5 публикаций, 1.21%
Национальный университет Тайваня	Национальный университет Тайваня, 5, 1.21% Национальный университет Тайваня 5 публикаций, 1.21%
Университет Китайской академии наук	Университет Китайской академии наук, 4, 0.97% Университет Китайской академии наук 4 публикации, 0.97%
Фуданьский университет	Фуданьский университет, 4, 0.97% Фуданьский университет 4 публикации, 0.97%
Токийский технологический институт	Токийский технологический институт, 4, 0.97% Токийский технологический институт 4 публикации, 0.97%
Калифорнийский университет в Беркли	Калифорнийский университет в Беркли, 4, 0.97% Калифорнийский университет в Беркли 4 публикации, 0.97%
Чжэцзянский университет	Чжэцзянский университет, 3, 0.73% Чжэцзянский университет 3 публикации, 0.73%
Технологический институт Карлсруэ	Технологический институт Карлсруэ, 3, 0.73% Технологический институт Карлсруэ 3 публикации, 0.73%
Университет Гренобль-Альпы	Университет Гренобль-Альпы, 3, 0.73% Университет Гренобль-Альпы 3 публикации, 0.73%
Шанхайский университет	Шанхайский университет, 3, 0.73% Шанхайский университет 3 публикации, 0.73%
Национальный университет Цинхуа	Национальный университет Цинхуа, 3, 0.73% Национальный университет Цинхуа 3 публикации, 0.73%
Брукхейвенская национальная лаборатория	Брукхейвенская национальная лаборатория, 3, 0.73% Брукхейвенская национальная лаборатория 3 публикации, 0.73%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий	Национальный институт передовых промышленных наук и технологий, 3, 0.73% Национальный институт передовых промышленных наук и технологий 3 публикации, 0.73%
Амстердамский свободный университет	Амстердамский свободный университет, 3, 0.73% Амстердамский свободный университет 3 публикации, 0.73%
Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена	Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена, 3, 0.73% Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена 3 публикации, 0.73%
Университет Эрлангена — Нюрнберга	Университет Эрлангена — Нюрнберга, 3, 0.73% Университет Эрлангена — Нюрнберга 3 публикации, 0.73%
Физико-технический федеральный институт	Физико-технический федеральный институт, 3, 0.73% Физико-технический федеральный институт 3 публикации, 0.73%
Университет штата Калифорния, Нортридж	Университет штата Калифорния, Нортридж, 3, 0.73% Университет штата Калифорния, Нортридж 3 публикации, 0.73%
Технический университет Эскишехир	Технический университет Эскишехир, 2, 0.48% Технический университет Эскишехир 2 публикации, 0.48%
Нанкинский университет науки и технологий	Нанкинский университет науки и технологий, 2, 0.48% Нанкинский университет науки и технологий 2 публикации, 0.48%
Манчестерский университет	Манчестерский университет, 2, 0.48% Манчестерский университет 2 публикации, 0.48%
Университет Южной Калифорнии	Университет Южной Калифорнии, 2, 0.48% Университет Южной Калифорнии 2 публикации, 0.48%
Университет Стоуни-Брук	Университет Стоуни-Брук, 2, 0.48% Университет Стоуни-Брук 2 публикации, 0.48%
Сеульский университет	Сеульский университет, 2, 0.48% Сеульский университет 2 публикации, 0.48%
Университет Сонгюнгван	Университет Сонгюнгван, 2, 0.48% Университет Сонгюнгван 2 публикации, 0.48%
Национальный институт стандартов и технологий	Национальный институт стандартов и технологий, 2, 0.48% Национальный институт стандартов и технологий 2 публикации, 0.48%
Техасский университет в Далласе	Техасский университет в Далласе, 2, 0.48% Техасский университет в Далласе 2 публикации, 0.48%
Институт лазерной техники им. Фраунгофера	Институт лазерной техники им. Фраунгофера, 2, 0.48% Институт лазерной техники им. Фраунгофера 2 публикации, 0.48%
Siemens	Siemens, 2, 0.48% Siemens 2 публикации, 0.48%

	10 20 30 40 50 60
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр	Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр, 59, 14.32% Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр 59 публикаций, 14.32%
Лёвенский католический университет	Лёвенский католический университет, 27, 6.55% Лёвенский католический университет 27 публикаций, 6.55%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли	Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли, 14, 3.4% Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли 14 публикаций, 3.4%
Samsung	Samsung, 10, 2.43% Samsung 10 публикаций, 2.43%
Институт Пауля Шеррера	Институт Пауля Шеррера, 9, 2.18% Институт Пауля Шеррера 9 публикаций, 2.18%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук	Институт микроэлектроники, Китайская академия наук, 9, 2.18% Институт микроэлектроники, Китайская академия наук 9 публикаций, 2.18%
Университет Ханьян	Университет Ханьян, 8, 1.94% Университет Ханьян 8 публикаций, 1.94%
Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств	Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств, 7, 1.7% Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств 7 публикаций, 1.7%
Хэфэйский технологический университет	Хэфэйский технологический университет, 6, 1.46% Хэфэйский технологический университет 6 публикаций, 1.46%
Аньхойский университет науки и технологий	Аньхойский университет науки и технологий, 6, 1.46% Аньхойский университет науки и технологий 6 публикаций, 1.46%
Пекинский технологический институт	Пекинский технологический институт, 5, 1.21% Пекинский технологический институт 5 публикаций, 1.21%
Университет Китайской академии наук	Университет Китайской академии наук, 4, 0.97% Университет Китайской академии наук 4 публикации, 0.97%
Фуданьский университет	Фуданьский университет, 4, 0.97% Фуданьский университет 4 публикации, 0.97%
Токийский технологический институт	Токийский технологический институт, 4, 0.97% Токийский технологический институт 4 публикации, 0.97%
Технологический институт Карлсруэ	Технологический институт Карлсруэ, 3, 0.73% Технологический институт Карлсруэ 3 публикации, 0.73%
Университет Гренобль-Альпы	Университет Гренобль-Альпы, 3, 0.73% Университет Гренобль-Альпы 3 публикации, 0.73%
Шанхайский университет	Шанхайский университет, 3, 0.73% Шанхайский университет 3 публикации, 0.73%
Брукхейвенская национальная лаборатория	Брукхейвенская национальная лаборатория, 3, 0.73% Брукхейвенская национальная лаборатория 3 публикации, 0.73%
Калифорнийский университет в Беркли	Калифорнийский университет в Беркли, 3, 0.73% Калифорнийский университет в Беркли 3 публикации, 0.73%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий	Национальный институт передовых промышленных наук и технологий, 3, 0.73% Национальный институт передовых промышленных наук и технологий 3 публикации, 0.73%
Амстердамский свободный университет	Амстердамский свободный университет, 3, 0.73% Амстердамский свободный университет 3 публикации, 0.73%
Университет штата Калифорния, Нортридж	Университет штата Калифорния, Нортридж, 3, 0.73% Университет штата Калифорния, Нортридж 3 публикации, 0.73%
Чжэцзянский университет	Чжэцзянский университет, 2, 0.49% Чжэцзянский университет 2 публикации, 0.49%
Технический университет Эскишехир	Технический университет Эскишехир, 2, 0.49% Технический университет Эскишехир 2 публикации, 0.49%
Нанкинский университет науки и технологий	Нанкинский университет науки и технологий, 2, 0.49% Нанкинский университет науки и технологий 2 публикации, 0.49%
Манчестерский университет	Манчестерский университет, 2, 0.49% Манчестерский университет 2 публикации, 0.49%
Университет Южной Калифорнии	Университет Южной Калифорнии, 2, 0.49% Университет Южной Калифорнии 2 публикации, 0.49%
Национальный университет Тайваня	Национальный университет Тайваня, 2, 0.49% Национальный университет Тайваня 2 публикации, 0.49%
Университет Стоуни-Брук	Университет Стоуни-Брук, 2, 0.49% Университет Стоуни-Брук 2 публикации, 0.49%
Национальный университет Цинхуа	Национальный университет Цинхуа, 2, 0.49% Национальный университет Цинхуа 2 публикации, 0.49%
Сеульский университет	Сеульский университет, 2, 0.49% Сеульский университет 2 публикации, 0.49%
Университет Сонгюнгван	Университет Сонгюнгван, 2, 0.49% Университет Сонгюнгван 2 публикации, 0.49%
Национальный институт стандартов и технологий	Национальный институт стандартов и технологий, 2, 0.49% Национальный институт стандартов и технологий 2 публикации, 0.49%
Техасский университет в Далласе	Техасский университет в Далласе, 2, 0.49% Техасский университет в Далласе 2 публикации, 0.49%
Институт лазерной техники им. Фраунгофера	Институт лазерной техники им. Фраунгофера, 2, 0.49% Институт лазерной техники им. Фраунгофера 2 публикации, 0.49%
Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена	Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена, 2, 0.49% Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена 2 публикации, 0.49%
Университет Эрлангена — Нюрнберга	Университет Эрлангена — Нюрнберга, 2, 0.49% Университет Эрлангена — Нюрнберга 2 публикации, 0.49%
Siemens	Siemens, 2, 0.49% Siemens 2 публикации, 0.49%
Физико-технический федеральный институт	Физико-технический федеральный институт, 2, 0.49% Физико-технический федеральный институт 2 публикации, 0.49%