Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology

SPIE-Intl Soc Optical Eng

ISSN: 27088340

Публикации журнала в Cobalt

Вы ученый?

Создайте профиль, чтобы получать персональные рекомендации коллег, конференций и новых статей.

Войти с ORCID

SCImago

БС

БС2

Impact factor

2.3

SJR

0.437

CiteScore

4.3

Годы выпуска

2024-2026

Варианты названий

Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology

Страница журнала в БС

за всё время с 2021

Публикаций

404

Цитирований

1 325

Индекс Хирша

Публикаций

403

Цитирований

1 320

Топ-3 цитирующих журналов

Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology (105 цитирований)

Optics Express (58 цитирований)

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes (52 цитирования)

Топ-3 организаций

за всё время за 5 лет

Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр (66 публикаций)

Лёвенский католический университет (29 публикаций)

Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли (17 публикаций)

Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр (60 публикаций)

Лёвенский католический университет (28 публикаций)

Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли (15 публикаций)

Топ-3 стран

за всё время за 5 лет

США (115 публикаций)

Бельгия (69 публикаций)

Китай (57 публикаций)

США (104 публикации)

Бельгия (63 публикации)

Китай (54 публикации)

Топ-3 учёных по количеству статей

1 публикация в журнале

Виолетта Лука

26 публикаций, 304 цитирования, 7 рецензий

Индекс Хирша 11

Стэнфордский университет

1 публикация в журнале

Янаги Масаси

22 публикации, 377 цитирований

Индекс Хирша 10

1 публикация в журнале

Папаверо Георгий

PhD

20 публикаций, 155 цитирований

Индекс Хирша 7

Университет имени Аристотеля в Салониках

Национальный центр научных исследований «Демокрит»

Наиболее цитируемые за 5 лет

Название публикации

Топ-100

Цитирующие журналы

	20 40 60 80 100 120
Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology	Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology, 105, 7.92% Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 105 цитирований, 7.92%
Optics Express	Optics Express, 58, 4.38% Optics Express 58 цитирований, 4.38%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes	Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes, 52, 3.92% Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes 52 цитирования, 3.92%
ACS applied materials & interfaces	ACS applied materials & interfaces, 28, 2.11% ACS applied materials & interfaces 28 цитирований, 2.11%
Chemistry of Materials	Chemistry of Materials, 25, 1.89% Chemistry of Materials 25 цитирований, 1.89%
Journal of Vacuum Science and Technology B	Journal of Vacuum Science and Technology B, 24, 1.81% Journal of Vacuum Science and Technology B 24 цитирования, 1.81%
Journal of Applied Physics	Journal of Applied Physics, 21, 1.58% Journal of Applied Physics 21 цитирование, 1.58%
Applied Optics	Applied Optics, 19, 1.43% Applied Optics 19 цитирований, 1.43%
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing	IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 18, 1.36% IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 18 цитирований, 1.36%
Journal of Photopolymer Science and Technology	Journal of Photopolymer Science and Technology, 14, 1.06% Journal of Photopolymer Science and Technology 14 цитирований, 1.06%
Scientia Sinica Technologica	Scientia Sinica Technologica, 14, 1.06% Scientia Sinica Technologica 14 цитирований, 1.06%
Plasma Sources Science and Technology	Plasma Sources Science and Technology, 13, 0.98% Plasma Sources Science and Technology 13 цитирований, 0.98%
Micromachines	Micromachines, 12, 0.91% Micromachines 12 цитирований, 0.91%
ACS Applied Nano Materials	ACS Applied Nano Materials, 12, 0.91% ACS Applied Nano Materials 12 цитирований, 0.91%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films	Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 11, 0.83% Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films 11 цитирований, 0.83%
Applied Physics Letters	Applied Physics Letters, 10, 0.75% Applied Physics Letters 10 цитирований, 0.75%
Langmuir	Langmuir, 10, 0.75% Langmuir 10 цитирований, 0.75%
IEEE Transactions on Electron Devices	IEEE Transactions on Electron Devices, 10, 0.75% IEEE Transactions on Electron Devices 10 цитирований, 0.75%
Micro and Nano Engineering	Micro and Nano Engineering, 9, 0.68% Micro and Nano Engineering 9 цитирований, 0.68%
Journal Physics D: Applied Physics	Journal Physics D: Applied Physics, 9, 0.68% Journal Physics D: Applied Physics 9 цитирований, 0.68%
Crystals	Crystals, 9, 0.68% Crystals 9 цитирований, 0.68%
Nanotechnology	Nanotechnology, 9, 0.68% Nanotechnology 9 цитирований, 0.68%
Measurement Science and Technology	Measurement Science and Technology, 9, 0.68% Measurement Science and Technology 9 цитирований, 0.68%
Acta Optica Sinica	Acta Optica Sinica, 9, 0.68% Acta Optica Sinica 9 цитирований, 0.68%
Environmental Science & Technology	Environmental Science & Technology, 9, 0.68% Environmental Science & Technology 9 цитирований, 0.68%
ACS Applied Polymer Materials	ACS Applied Polymer Materials, 9, 0.68% ACS Applied Polymer Materials 9 цитирований, 0.68%
Chinese Journal of Chemistry	Chinese Journal of Chemistry, 8, 0.6% Chinese Journal of Chemistry 8 цитирований, 0.6%
Applied Surface Science	Applied Surface Science, 8, 0.6% Applied Surface Science 8 цитирований, 0.6%
Applied Sciences (Switzerland)	Applied Sciences (Switzerland), 8, 0.6% Applied Sciences (Switzerland) 8 цитирований, 0.6%
Measurement: Journal of the International Measurement Confederation	Measurement: Journal of the International Measurement Confederation, 7, 0.53% Measurement: Journal of the International Measurement Confederation 7 цитирований, 0.53%
ACS Macro Letters	ACS Macro Letters, 7, 0.53% ACS Macro Letters 7 цитирований, 0.53%
Nano Letters	Nano Letters, 7, 0.53% Nano Letters 7 цитирований, 0.53%
Macromolecules	Macromolecules, 7, 0.53% Macromolecules 7 цитирований, 0.53%
IEEE Electron Devices Reviews	IEEE Electron Devices Reviews, 7, 0.53% IEEE Electron Devices Reviews 7 цитирований, 0.53%
ACS Nano	ACS Nano, 6, 0.45% ACS Nano 6 цитирований, 0.45%
Physics of Plasmas	Physics of Plasmas, 6, 0.45% Physics of Plasmas 6 цитирований, 0.45%
Cluster Computing	Cluster Computing, 6, 0.45% Cluster Computing 6 цитирований, 0.45%
IEEE Access	IEEE Access, 6, 0.45% IEEE Access 6 цитирований, 0.45%
AIP Advances	AIP Advances, 5, 0.38% AIP Advances 5 цитирований, 0.38%
Materials Science in Semiconductor Processing	Materials Science in Semiconductor Processing, 5, 0.38% Materials Science in Semiconductor Processing 5 цитирований, 0.38%
Journal of Physical Chemistry C	Journal of Physical Chemistry C, 5, 0.38% Journal of Physical Chemistry C 5 цитирований, 0.38%
Scientific Reports	Scientific Reports, 5, 0.38% Scientific Reports 5 цитирований, 0.38%
Advances in Colloid and Interface Science	Advances in Colloid and Interface Science, 5, 0.38% Advances in Colloid and Interface Science 5 цитирований, 0.38%
Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision	Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision, 5, 0.38% Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision 5 цитирований, 0.38%
Machine Learning: Science and Technology	Machine Learning: Science and Technology, 5, 0.38% Machine Learning: Science and Technology 5 цитирований, 0.38%
Applied Physics Reviews	Applied Physics Reviews, 4, 0.3% Applied Physics Reviews 4 цитирования, 0.3%
Chemical Science	Chemical Science, 4, 0.3% Chemical Science 4 цитирования, 0.3%
Nanomaterials	Nanomaterials, 4, 0.3% Nanomaterials 4 цитирования, 0.3%
Chemical Reviews	Chemical Reviews, 4, 0.3% Chemical Reviews 4 цитирования, 0.3%
CIRP Annals - Manufacturing Technology	CIRP Annals - Manufacturing Technology, 4, 0.3% CIRP Annals - Manufacturing Technology 4 цитирования, 0.3%
IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems	IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, 4, 0.3% IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems 4 цитирования, 0.3%
Applied Physics Express	Applied Physics Express, 4, 0.3% Applied Physics Express 4 цитирования, 0.3%
Inorganic Chemistry	Inorganic Chemistry, 4, 0.3% Inorganic Chemistry 4 цитирования, 0.3%
ACS Applied Electronic Materials	ACS Applied Electronic Materials, 4, 0.3% ACS Applied Electronic Materials 4 цитирования, 0.3%
ACS Applied Optical Materials	ACS Applied Optical Materials, 4, 0.3% ACS Applied Optical Materials 4 цитирования, 0.3%
Optics Continuum	Optics Continuum, 4, 0.3% Optics Continuum 4 цитирования, 0.3%
IEEE Electron Devices Magazine	IEEE Electron Devices Magazine, 4, 0.3% IEEE Electron Devices Magazine 4 цитирования, 0.3%
Moore and More	Moore and More, 4, 0.3% Moore and More 4 цитирования, 0.3%
Plasma Science and Technology	Plasma Science and Technology, 3, 0.23% Plasma Science and Technology 3 цитирования, 0.23%
Journal of Chemical Physics	Journal of Chemical Physics, 3, 0.23% Journal of Chemical Physics 3 цитирования, 0.23%
Small Methods	Small Methods, 3, 0.23% Small Methods 3 цитирования, 0.23%
Journal of Modern Optics	Journal of Modern Optics, 3, 0.23% Journal of Modern Optics 3 цитирования, 0.23%
Journal of the American Chemical Society	Journal of the American Chemical Society, 3, 0.23% Journal of the American Chemical Society 3 цитирования, 0.23%
Electronics (Switzerland)	Electronics (Switzerland), 3, 0.23% Electronics (Switzerland) 3 цитирования, 0.23%
Expert Systems with Applications	Expert Systems with Applications, 3, 0.23% Expert Systems with Applications 3 цитирования, 0.23%
ECS Journal of Solid State Science and Technology	ECS Journal of Solid State Science and Technology, 3, 0.23% ECS Journal of Solid State Science and Technology 3 цитирования, 0.23%
Review of Scientific Instruments	Review of Scientific Instruments, 3, 0.23% Review of Scientific Instruments 3 цитирования, 0.23%
IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement	IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement, 3, 0.23% IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement 3 цитирования, 0.23%
Physical Review Accelerators and Beams	Physical Review Accelerators and Beams, 3, 0.23% Physical Review Accelerators and Beams 3 цитирования, 0.23%
Photonics	Photonics, 3, 0.23% Photonics 3 цитирования, 0.23%
Physics of Fluids	Physics of Fluids, 3, 0.23% Physics of Fluids 3 цитирования, 0.23%
Laser and Photonics Reviews	Laser and Photonics Reviews, 3, 0.23% Laser and Photonics Reviews 3 цитирования, 0.23%
Physica Scripta	Physica Scripta, 3, 0.23% Physica Scripta 3 цитирования, 0.23%
AEJ - Alexandria Engineering Journal	AEJ - Alexandria Engineering Journal, 3, 0.23% AEJ - Alexandria Engineering Journal 3 цитирования, 0.23%
Materials	Materials, 3, 0.23% Materials 3 цитирования, 0.23%
International Journal of Extreme Manufacturing	International Journal of Extreme Manufacturing, 3, 0.23% International Journal of Extreme Manufacturing 3 цитирования, 0.23%
Engineering Research Express	Engineering Research Express, 3, 0.23% Engineering Research Express 3 цитирования, 0.23%
Ultramicroscopy	Ultramicroscopy, 2, 0.15% Ultramicroscopy 2 цитирования, 0.15%
IEEE Journal of the Electron Devices Society	IEEE Journal of the Electron Devices Society, 2, 0.15% IEEE Journal of the Electron Devices Society 2 цитирования, 0.15%
Laser and Optoelectronics Progress	Laser and Optoelectronics Progress, 2, 0.15% Laser and Optoelectronics Progress 2 цитирования, 0.15%
Journal of Materials Chemistry C	Journal of Materials Chemistry C, 2, 0.15% Journal of Materials Chemistry C 2 цитирования, 0.15%
Solid-State Electronics	Solid-State Electronics, 2, 0.15% Solid-State Electronics 2 цитирования, 0.15%
Trends in Chemistry	Trends in Chemistry, 2, 0.15% Trends in Chemistry 2 цитирования, 0.15%
iScience	iScience, 2, 0.15% iScience 2 цитирования, 0.15%
International Communications in Heat and Mass Transfer	International Communications in Heat and Mass Transfer, 2, 0.15% International Communications in Heat and Mass Transfer 2 цитирования, 0.15%
Optics and Laser Technology	Optics and Laser Technology, 2, 0.15% Optics and Laser Technology 2 цитирования, 0.15%
ACS Sensors	ACS Sensors, 2, 0.15% ACS Sensors 2 цитирования, 0.15%
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology	Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology, 2, 0.15% Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology 2 цитирования, 0.15%
Rapid Communications in Mass Spectrometry	Rapid Communications in Mass Spectrometry, 2, 0.15% Rapid Communications in Mass Spectrometry 2 цитирования, 0.15%
ACS Photonics	ACS Photonics, 2, 0.15% ACS Photonics 2 цитирования, 0.15%
Chemical Engineering Journal	Chemical Engineering Journal, 2, 0.15% Chemical Engineering Journal 2 цитирования, 0.15%
Chinese Journal of Lasers	Chinese Journal of Lasers, 2, 0.15% Chinese Journal of Lasers 2 цитирования, 0.15%
Optica	Optica, 2, 0.15% Optica 2 цитирования, 0.15%
Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry	Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2, 0.15% Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 2 цитирования, 0.15%
Sensors	Sensors, 2, 0.15% Sensors 2 цитирования, 0.15%
APL Photonics	APL Photonics, 2, 0.15% APL Photonics 2 цитирования, 0.15%
Advanced Materials Interfaces	Advanced Materials Interfaces, 2, 0.15% Advanced Materials Interfaces 2 цитирования, 0.15%
Current Applied Physics	Current Applied Physics, 2, 0.15% Current Applied Physics 2 цитирования, 0.15%
Applied Mathematical Modelling	Applied Mathematical Modelling, 2, 0.15% Applied Mathematical Modelling 2 цитирования, 0.15%
IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology	IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology, 2, 0.15% IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology 2 цитирования, 0.15%

	20 40 60 80 100 120

Цитирующие издатели

	50 100 150 200 250 300 350
SPIE-Intl Soc Optical Eng	SPIE-Intl Soc Optical Eng, 334, 25.21% SPIE-Intl Soc Optical Eng 334 цитирования, 25.21%
American Chemical Society (ACS)	American Chemical Society (ACS), 156, 11.77% American Chemical Society (ACS) 156 цитирований, 11.77%
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)	Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 132, 9.96% Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) 132 цитирования, 9.96%
Elsevier	Elsevier, 123, 9.28% Elsevier 123 цитирования, 9.28%
IOP Publishing	IOP Publishing, 99, 7.47% IOP Publishing 99 цитирований, 7.47%
Optica Publishing Group	Optica Publishing Group, 91, 6.87% Optica Publishing Group 91 цитирование, 6.87%
AIP Publishing	AIP Publishing, 60, 4.53% AIP Publishing 60 цитирований, 4.53%
MDPI	MDPI, 54, 4.08% MDPI 54 цитирования, 4.08%
American Vacuum Society	American Vacuum Society, 39, 2.94% American Vacuum Society 39 цитирований, 2.94%
Springer Nature	Springer Nature, 35, 2.64% Springer Nature 35 цитирований, 2.64%
Wiley	Wiley, 30, 2.26% Wiley 30 цитирований, 2.26%
Japan Society of Applied Physics	Japan Society of Applied Physics, 25, 1.89% Japan Society of Applied Physics 25 цитирований, 1.89%
Science in China Press	Science in China Press, 15, 1.13% Science in China Press 15 цитирований, 1.13%
The Technical Association of Photopolymers, Japan	The Technical Association of Photopolymers, Japan, 14, 1.06% The Technical Association of Photopolymers, Japan 14 цитирований, 1.06%
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics	Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, 13, 0.98% Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics 13 цитирований, 0.98%
Royal Society of Chemistry (RSC)	Royal Society of Chemistry (RSC), 9, 0.68% Royal Society of Chemistry (RSC) 9 цитирований, 0.68%
Association for Computing Machinery (ACM)	Association for Computing Machinery (ACM), 9, 0.68% Association for Computing Machinery (ACM) 9 цитирований, 0.68%
American Physical Society (APS)	American Physical Society (APS), 4, 0.3% American Physical Society (APS) 4 цитирования, 0.3%
Taylor & Francis	Taylor & Francis, 3, 0.23% Taylor & Francis 3 цитирования, 0.23%
The Electrochemical Society	The Electrochemical Society, 3, 0.23% The Electrochemical Society 3 цитирования, 0.23%
Pleiades Publishing	Pleiades Publishing, 2, 0.15% Pleiades Publishing 2 цитирования, 0.15%
Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences	Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, 2, 0.15% Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences 2 цитирования, 0.15%
The Surface Science Society of Japan	The Surface Science Society of Japan, 2, 0.15% The Surface Science Society of Japan 2 цитирования, 0.15%
De Gruyter Brill	De Gruyter Brill, 1, 0.08% De Gruyter Brill 1 цитирование, 0.08%
SAGE	SAGE, 1, 0.08% SAGE 1 цитирование, 0.08%
Trans Tech Publications	Trans Tech Publications, 1, 0.08% Trans Tech Publications 1 цитирование, 0.08%
Frontiers Media S.A.	Frontiers Media S.A., 1, 0.08% Frontiers Media S.A. 1 цитирование, 0.08%
International Union of Crystallography (IUCr)	International Union of Crystallography (IUCr), 1, 0.08% International Union of Crystallography (IUCr) 1 цитирование, 0.08%
Fuji Technology Press	Fuji Technology Press, 1, 0.08% Fuji Technology Press 1 цитирование, 0.08%
Beilstein-Institut	Beilstein-Institut, 1, 0.08% Beilstein-Institut 1 цитирование, 0.08%
Hindawi Limited	Hindawi Limited, 1, 0.08% Hindawi Limited 1 цитирование, 0.08%
Annual Reviews	Annual Reviews, 1, 0.08% Annual Reviews 1 цитирование, 0.08%
ASME International	ASME International, 1, 0.08% ASME International 1 цитирование, 0.08%
Japan Society for Environmental Chemistry	Japan Society for Environmental Chemistry, 1, 0.08% Japan Society for Environmental Chemistry 1 цитирование, 0.08%
The Open Journal	The Open Journal, 1, 0.08% The Open Journal 1 цитирование, 0.08%
IntechOpen	IntechOpen, 1, 0.08% IntechOpen 1 цитирование, 0.08%
Hans Publishers	Hans Publishers, 1, 0.08% Hans Publishers 1 цитирование, 0.08%
The Japan Society for Precision Engineering	The Japan Society for Precision Engineering, 1, 0.08% The Japan Society for Precision Engineering 1 цитирование, 0.08%
Kazakh-British Technical University	Kazakh-British Technical University, 1, 0.08% Kazakh-British Technical University 1 цитирование, 0.08%

	50 100 150 200 250 300 350

Публикующиеся организации

Публикующиеся организации за 5 лет

Публикующиеся страны

	20 40 60 80 100 120
США	США, 115, 28.47% США 115 публикаций, 28.47%
Бельгия	Бельгия, 69, 17.08% Бельгия 69 публикаций, 17.08%
Китай	Китай, 57, 14.11% Китай 57 публикаций, 14.11%
Япония	Япония, 43, 10.64% Япония 43 публикации, 10.64%
Германия	Германия, 36, 8.91% Германия 36 публикаций, 8.91%
Нидерланды	Нидерланды, 30, 7.43% Нидерланды 30 публикаций, 7.43%
Республика Корея	Республика Корея, 16, 3.96% Республика Корея 16 публикаций, 3.96%
Франция	Франция, 10, 2.48% Франция 10 публикаций, 2.48%
Швейцария	Швейцария, 9, 2.23% Швейцария 9 публикаций, 2.23%
Израиль	Израиль, 5, 1.24% Израиль 5 публикаций, 1.24%
Великобритания	Великобритания, 3, 0.74% Великобритания 3 публикации, 0.74%
Россия	Россия, 2, 0.5% Россия 2 публикации, 0.5%
Австрия	Австрия, 2, 0.5% Австрия 2 публикации, 0.5%
Вьетнам	Вьетнам, 2, 0.5% Вьетнам 2 публикации, 0.5%
Индия	Индия, 2, 0.5% Индия 2 публикации, 0.5%
Италия	Италия, 2, 0.5% Италия 2 публикации, 0.5%
Венгрия	Венгрия, 1, 0.25% Венгрия 1 публикация, 0.25%
Греция	Греция, 1, 0.25% Греция 1 публикация, 0.25%
Египет	Египет, 1, 0.25% Египет 1 публикация, 0.25%
Иран	Иран, 1, 0.25% Иран 1 публикация, 0.25%
Канада	Канада, 1, 0.25% Канада 1 публикация, 0.25%
Латвия	Латвия, 1, 0.25% Латвия 1 публикация, 0.25%
Мексика	Мексика, 1, 0.25% Мексика 1 публикация, 0.25%
ОАЭ	ОАЭ, 1, 0.25% ОАЭ 1 публикация, 0.25%
Сингапур	Сингапур, 1, 0.25% Сингапур 1 публикация, 0.25%
Турция	Турция, 1, 0.25% Турция 1 публикация, 0.25%
	20 40 60 80 100 120

Публикующиеся страны за 5 лет

	20 40 60 80 100 120
США	США, 104, 25.81% США 104 публикации, 25.81%
Бельгия	Бельгия, 63, 15.63% Бельгия 63 публикации, 15.63%
Китай	Китай, 54, 13.4% Китай 54 публикации, 13.4%
Япония	Япония, 41, 10.17% Япония 41 публикация, 10.17%
Германия	Германия, 29, 7.2% Германия 29 публикаций, 7.2%
Нидерланды	Нидерланды, 26, 6.45% Нидерланды 26 публикаций, 6.45%
Республика Корея	Республика Корея, 15, 3.72% Республика Корея 15 публикаций, 3.72%
Франция	Франция, 10, 2.48% Франция 10 публикаций, 2.48%
Швейцария	Швейцария, 9, 2.23% Швейцария 9 публикаций, 2.23%
Израиль	Израиль, 5, 1.24% Израиль 5 публикаций, 1.24%
Великобритания	Великобритания, 3, 0.74% Великобритания 3 публикации, 0.74%
Россия	Россия, 2, 0.5% Россия 2 публикации, 0.5%
Австрия	Австрия, 2, 0.5% Австрия 2 публикации, 0.5%
Вьетнам	Вьетнам, 2, 0.5% Вьетнам 2 публикации, 0.5%
Индия	Индия, 2, 0.5% Индия 2 публикации, 0.5%
Италия	Италия, 2, 0.5% Италия 2 публикации, 0.5%
Венгрия	Венгрия, 1, 0.25% Венгрия 1 публикация, 0.25%
Греция	Греция, 1, 0.25% Греция 1 публикация, 0.25%
Египет	Египет, 1, 0.25% Египет 1 публикация, 0.25%
Иран	Иран, 1, 0.25% Иран 1 публикация, 0.25%
Канада	Канада, 1, 0.25% Канада 1 публикация, 0.25%
ОАЭ	ОАЭ, 1, 0.25% ОАЭ 1 публикация, 0.25%
Сингапур	Сингапур, 1, 0.25% Сингапур 1 публикация, 0.25%
Турция	Турция, 1, 0.25% Турция 1 публикация, 0.25%
	20 40 60 80 100 120

1 публикация в журнале

Виолетта Лука

26 публикаций, 304 цитирования, 7 рецензий

Индекс Хирша 11

Стэнфордский университет

1 публикация в журнале

Папаверо Георгий

PhD

20 публикаций, 155 цитирований

Индекс Хирша 7

Университет имени Аристотеля в Салониках

Национальный центр научных исследований «Демокрит»

1 публикация в журнале

Янаги Масаси

22 публикации, 377 цитирований

Индекс Хирша 10

	10 20 30 40 50 60 70
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр	Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр, 66, 16.34% Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр 66 публикаций, 16.34%
Лёвенский католический университет	Лёвенский католический университет, 29, 7.18% Лёвенский католический университет 29 публикаций, 7.18%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли	Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли, 17, 4.21% Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли 17 публикаций, 4.21%
Samsung	Samsung, 10, 2.48% Samsung 10 публикаций, 2.48%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук	Институт микроэлектроники, Китайская академия наук, 10, 2.48% Институт микроэлектроники, Китайская академия наук 10 публикаций, 2.48%
Институт Пауля Шеррера	Институт Пауля Шеррера, 9, 2.23% Институт Пауля Шеррера 9 публикаций, 2.23%
Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств	Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств, 9, 2.23% Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств 9 публикаций, 2.23%
Университет Ханьян	Университет Ханьян, 8, 1.98% Университет Ханьян 8 публикаций, 1.98%
Хэфэйский технологический университет	Хэфэйский технологический университет, 6, 1.49% Хэфэйский технологический университет 6 публикаций, 1.49%
Аньхойский университет науки и технологий	Аньхойский университет науки и технологий, 6, 1.49% Аньхойский университет науки и технологий 6 публикаций, 1.49%
Пекинский технологический институт	Пекинский технологический институт, 5, 1.24% Пекинский технологический институт 5 публикаций, 1.24%
Национальный университет Тайваня	Национальный университет Тайваня, 5, 1.24% Национальный университет Тайваня 5 публикаций, 1.24%
Университет Китайской академии наук	Университет Китайской академии наук, 4, 0.99% Университет Китайской академии наук 4 публикации, 0.99%
Фуданьский университет	Фуданьский университет, 4, 0.99% Фуданьский университет 4 публикации, 0.99%
Токийский технологический институт	Токийский технологический институт, 4, 0.99% Токийский технологический институт 4 публикации, 0.99%
Калифорнийский университет в Беркли	Калифорнийский университет в Беркли, 4, 0.99% Калифорнийский университет в Беркли 4 публикации, 0.99%
Чжэцзянский университет	Чжэцзянский университет, 3, 0.74% Чжэцзянский университет 3 публикации, 0.74%
Технологический институт Карлсруэ	Технологический институт Карлсруэ, 3, 0.74% Технологический институт Карлсруэ 3 публикации, 0.74%
Университет Гренобль-Альпы	Университет Гренобль-Альпы, 3, 0.74% Университет Гренобль-Альпы 3 публикации, 0.74%
Шанхайский университет	Шанхайский университет, 3, 0.74% Шанхайский университет 3 публикации, 0.74%
Национальный университет Цинхуа	Национальный университет Цинхуа, 3, 0.74% Национальный университет Цинхуа 3 публикации, 0.74%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий	Национальный институт передовых промышленных наук и технологий, 3, 0.74% Национальный институт передовых промышленных наук и технологий 3 публикации, 0.74%
Амстердамский свободный университет	Амстердамский свободный университет, 3, 0.74% Амстердамский свободный университет 3 публикации, 0.74%
Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена	Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена, 3, 0.74% Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена 3 публикации, 0.74%
Университет Эрлангена — Нюрнберга	Университет Эрлангена — Нюрнберга, 3, 0.74% Университет Эрлангена — Нюрнберга 3 публикации, 0.74%
Физико-технический федеральный институт	Физико-технический федеральный институт, 3, 0.74% Физико-технический федеральный институт 3 публикации, 0.74%
Университет штата Калифорния, Нортридж	Университет штата Калифорния, Нортридж, 3, 0.74% Университет штата Калифорния, Нортридж 3 публикации, 0.74%
Технический университет Эскишехир	Технический университет Эскишехир, 2, 0.5% Технический университет Эскишехир 2 публикации, 0.5%
Нанкинский университет науки и технологий	Нанкинский университет науки и технологий, 2, 0.5% Нанкинский университет науки и технологий 2 публикации, 0.5%
Манчестерский университет	Манчестерский университет, 2, 0.5% Манчестерский университет 2 публикации, 0.5%
Университет Южной Калифорнии	Университет Южной Калифорнии, 2, 0.5% Университет Южной Калифорнии 2 публикации, 0.5%
Брукхейвенская национальная лаборатория	Брукхейвенская национальная лаборатория, 2, 0.5% Брукхейвенская национальная лаборатория 2 публикации, 0.5%
Сеульский университет	Сеульский университет, 2, 0.5% Сеульский университет 2 публикации, 0.5%
Университет Сонгюнгван	Университет Сонгюнгван, 2, 0.5% Университет Сонгюнгван 2 публикации, 0.5%
Национальный институт стандартов и технологий	Национальный институт стандартов и технологий, 2, 0.5% Национальный институт стандартов и технологий 2 публикации, 0.5%
Техасский университет в Далласе	Техасский университет в Далласе, 2, 0.5% Техасский университет в Далласе 2 публикации, 0.5%
Институт лазерной техники им. Фраунгофера	Институт лазерной техники им. Фраунгофера, 2, 0.5% Институт лазерной техники им. Фраунгофера 2 публикации, 0.5%
Siemens	Siemens, 2, 0.5% Siemens 2 публикации, 0.5%
Техасский университет A&M	Техасский университет A&M, 2, 0.5% Техасский университет A&M 2 публикации, 0.5%

	10 20 30 40 50 60
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр	Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр, 60, 14.89% Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр 60 публикаций, 14.89%
Лёвенский католический университет	Лёвенский католический университет, 28, 6.95% Лёвенский католический университет 28 публикаций, 6.95%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли	Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли, 15, 3.72% Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли 15 публикаций, 3.72%
Samsung	Samsung, 10, 2.48% Samsung 10 публикаций, 2.48%
Институт Пауля Шеррера	Институт Пауля Шеррера, 9, 2.23% Институт Пауля Шеррера 9 публикаций, 2.23%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук	Институт микроэлектроники, Китайская академия наук, 9, 2.23% Институт микроэлектроники, Китайская академия наук 9 публикаций, 2.23%
Университет Ханьян	Университет Ханьян, 7, 1.74% Университет Ханьян 7 публикаций, 1.74%
Хэфэйский технологический университет	Хэфэйский технологический университет, 6, 1.49% Хэфэйский технологический университет 6 публикаций, 1.49%
Аньхойский университет науки и технологий	Аньхойский университет науки и технологий, 6, 1.49% Аньхойский университет науки и технологий 6 публикаций, 1.49%
Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств	Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств, 6, 1.49% Институт Фраунгофера по интегрированным системам и технологиям устройств 6 публикаций, 1.49%
Пекинский технологический институт	Пекинский технологический институт, 5, 1.24% Пекинский технологический институт 5 публикаций, 1.24%
Университет Китайской академии наук	Университет Китайской академии наук, 4, 0.99% Университет Китайской академии наук 4 публикации, 0.99%
Фуданьский университет	Фуданьский университет, 4, 0.99% Фуданьский университет 4 публикации, 0.99%
Национальный университет Тайваня	Национальный университет Тайваня, 4, 0.99% Национальный университет Тайваня 4 публикации, 0.99%
Токийский технологический институт	Токийский технологический институт, 4, 0.99% Токийский технологический институт 4 публикации, 0.99%
Технологический институт Карлсруэ	Технологический институт Карлсруэ, 3, 0.74% Технологический институт Карлсруэ 3 публикации, 0.74%
Университет Гренобль-Альпы	Университет Гренобль-Альпы, 3, 0.74% Университет Гренобль-Альпы 3 публикации, 0.74%
Шанхайский университет	Шанхайский университет, 3, 0.74% Шанхайский университет 3 публикации, 0.74%
Национальный университет Цинхуа	Национальный университет Цинхуа, 3, 0.74% Национальный университет Цинхуа 3 публикации, 0.74%
Калифорнийский университет в Беркли	Калифорнийский университет в Беркли, 3, 0.74% Калифорнийский университет в Беркли 3 публикации, 0.74%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий	Национальный институт передовых промышленных наук и технологий, 3, 0.74% Национальный институт передовых промышленных наук и технологий 3 публикации, 0.74%
Амстердамский свободный университет	Амстердамский свободный университет, 3, 0.74% Амстердамский свободный университет 3 публикации, 0.74%
Университет штата Калифорния, Нортридж	Университет штата Калифорния, Нортридж, 3, 0.74% Университет штата Калифорния, Нортридж 3 публикации, 0.74%
Чжэцзянский университет	Чжэцзянский университет, 2, 0.5% Чжэцзянский университет 2 публикации, 0.5%
Технический университет Эскишехир	Технический университет Эскишехир, 2, 0.5% Технический университет Эскишехир 2 публикации, 0.5%
Нанкинский университет науки и технологий	Нанкинский университет науки и технологий, 2, 0.5% Нанкинский университет науки и технологий 2 публикации, 0.5%
Манчестерский университет	Манчестерский университет, 2, 0.5% Манчестерский университет 2 публикации, 0.5%
Университет Южной Калифорнии	Университет Южной Калифорнии, 2, 0.5% Университет Южной Калифорнии 2 публикации, 0.5%
Брукхейвенская национальная лаборатория	Брукхейвенская национальная лаборатория, 2, 0.5% Брукхейвенская национальная лаборатория 2 публикации, 0.5%
Сеульский университет	Сеульский университет, 2, 0.5% Сеульский университет 2 публикации, 0.5%
Университет Сонгюнгван	Университет Сонгюнгван, 2, 0.5% Университет Сонгюнгван 2 публикации, 0.5%
Национальный институт стандартов и технологий	Национальный институт стандартов и технологий, 2, 0.5% Национальный институт стандартов и технологий 2 публикации, 0.5%
Техасский университет в Далласе	Техасский университет в Далласе, 2, 0.5% Техасский университет в Далласе 2 публикации, 0.5%
Институт лазерной техники им. Фраунгофера	Институт лазерной техники им. Фраунгофера, 2, 0.5% Институт лазерной техники им. Фраунгофера 2 публикации, 0.5%
Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена	Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена, 2, 0.5% Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена 2 публикации, 0.5%
Университет Эрлангена — Нюрнберга	Университет Эрлангена — Нюрнберга, 2, 0.5% Университет Эрлангена — Нюрнберга 2 публикации, 0.5%
Siemens	Siemens, 2, 0.5% Siemens 2 публикации, 0.5%
Физико-технический федеральный институт	Физико-технический федеральный институт, 2, 0.5% Физико-технический федеральный институт 2 публикации, 0.5%
Техасский университет A&M	Техасский университет A&M, 2, 0.5% Техасский университет A&M 2 публикации, 0.5%