Лаборатория функциональных материалов и устройств для наноэлектроники

Заведующий лабораторией

Зенкевич Андрей Владимирович

к.ф.-м.н.
Публикаций
112
Цитирований
2 346
Индекс Хирша
23
Необходимо авторизоваться.

Экспериментальные исследования принципиально новых физических эффектов в наноразмерных структурах на основе неорганических материалов, которые могут быть использованы для разработки синтетических многофункциональных устройств. Такие устройства должны явиться альтернативным подходом к созданию вычислительных систем и информационных технологий принципиально иного уровня.

  1. Фотолитография
  2. Электронная и ионная литография
  3. Осаждение тонких пленок
  4. Плазмохимическое травление
  5. Электронная микроскопия
  6. Атомно-силовая микроскопия (АСМ)
  7. Электрофизические измерения
  8. Рентгеновская дифракция
  9. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
  10. Магнитометрия
  11. Рентгеновская спектроскопия с использованием синхротронного излучения
Зенкевич Андрей Владимирович
Андрей Зенкевич
Заведующий лабораторией
Антон Ханас 🥼 🤝
Старший научный сотрудник
Лев Леонид
Леонид Лев
Старший научный сотрудник
Зарубин Сергей С
Сергей Зарубин
Научный сотрудник
Ольга Пермякова 🤝
Научный сотрудник
Сизых Никита
Никита Сизых
Младший научный сотрудник
Трунов Кирилл
Кирилл Трунов
Младший научный сотрудник
Никита Жидков
Младший научный сотрудник
Всего публикаций
46
Всего цитирований
1702
Цитирований на публикацию
37
Среднее число публикаций в год
3.83
Годы публикаций
2014-2025 (12 лет)
h-index
20
i10-index
27
m-index
1.67
o-index
71
g-index
41
w-index
7
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Топ-100

Области наук

2
4
6
8
10
12
14
General Materials Science, 14, 30.43%
General Materials Science
14 публикаций, 30.43%
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 13, 28.26%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
13 публикаций, 28.26%
Condensed Matter Physics, 12, 26.09%
Condensed Matter Physics
12 публикаций, 26.09%
Electrical and Electronic Engineering, 8, 17.39%
Electrical and Electronic Engineering
8 публикаций, 17.39%
Materials Chemistry, 6, 13.04%
Materials Chemistry
6 публикаций, 13.04%
Surfaces, Coatings and Films, 6, 13.04%
Surfaces, Coatings and Films
6 публикаций, 13.04%
Physics and Astronomy (miscellaneous), 5, 10.87%
Physics and Astronomy (miscellaneous)
5 публикаций, 10.87%
General Physics and Astronomy, 4, 8.7%
General Physics and Astronomy
4 публикации, 8.7%
Mechanical Engineering, 4, 8.7%
Mechanical Engineering
4 публикации, 8.7%
Surfaces and Interfaces, 4, 8.7%
Surfaces and Interfaces
4 публикации, 8.7%
Mechanics of Materials, 4, 8.7%
Mechanics of Materials
4 публикации, 8.7%
Metals and Alloys, 3, 6.52%
Metals and Alloys
3 публикации, 6.52%
Atomic and Molecular Physics, and Optics, 2, 4.35%
Atomic and Molecular Physics, and Optics
2 публикации, 4.35%
General Chemistry, 1, 2.17%
General Chemistry
1 публикация, 2.17%
Ceramics and Composites, 1, 2.17%
Ceramics and Composites
1 публикация, 2.17%
Computer Science Applications, 1, 2.17%
Computer Science Applications
1 публикация, 2.17%
General Medicine, 1, 2.17%
General Medicine
1 публикация, 2.17%
General Chemical Engineering, 1, 2.17%
General Chemical Engineering
1 публикация, 2.17%
Polymers and Plastics, 1, 2.17%
Polymers and Plastics
1 публикация, 2.17%
Bioengineering, 1, 2.17%
Bioengineering
1 публикация, 2.17%
General Engineering, 1, 2.17%
General Engineering
1 публикация, 2.17%
General Neuroscience, 1, 2.17%
General Neuroscience
1 публикация, 2.17%
Artificial Intelligence, 1, 2.17%
Artificial Intelligence
1 публикация, 2.17%
Cognitive Neuroscience, 1, 2.17%
Cognitive Neuroscience
1 публикация, 2.17%
2
4
6
8
10
12
14

Журналы

1
2
3
4
ACS applied materials & interfaces
4 публикации, 8.7%
Applied Physics Letters
3 публикации, 6.52%
Advanced Materials Interfaces
3 публикации, 6.52%
Nanoscale
2 публикации, 4.35%
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
2 публикации, 4.35%
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
2 публикации, 4.35%
Journal of Applied Physics
2 публикации, 4.35%
Microelectronic Engineering
2 публикации, 4.35%
Thin Solid Films
2 публикации, 4.35%
Russian Microelectronics
2 публикации, 4.35%
ACS Applied Nano Materials
1 публикация, 2.17%
Small Methods
1 публикация, 2.17%
Journal of Physics Condensed Matter
1 публикация, 2.17%
Neurocomputing
1 публикация, 2.17%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
1 публикация, 2.17%
JETP Letters
1 публикация, 2.17%
Physica Status Solidi - Rapid Research Letters
1 публикация, 2.17%
Acta Materialia
1 публикация, 2.17%
AIP Advances
1 публикация, 2.17%
Physical Review Materials
1 публикация, 2.17%
ACS Nano
1 публикация, 2.17%
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
1 публикация, 2.17%
Nanomaterials
1 публикация, 2.17%
Applied Surface Science
1 публикация, 2.17%
Nanotechnology
1 публикация, 2.17%
Frontiers in Neuroscience
1 публикация, 2.17%
ACS Omega
1 публикация, 2.17%
Nanoscale Research Letters
1 публикация, 2.17%
IEEE Transactions on Electron Devices
1 публикация, 2.17%
Physical Review B
1 публикация, 2.17%
2015 International Conference on Memristive Systems (MEMRISYS)
1 публикация, 2.17%
1
2
3
4

Цитирующие журналы

20
40
60
80
100
120
140
Applied Physics Letters
126 цитирований, 7.39%
Журнал не определён, 86, 5.05%
Журнал не определён
86 цитирований, 5.05%
ACS applied materials & interfaces
71 цитирование, 4.17%
Journal of Applied Physics
60 цитирований, 3.52%
Advanced Electronic Materials
43 цитирования, 2.52%
ACS Applied Electronic Materials
39 цитирований, 2.29%
IEEE Transactions on Electron Devices
36 цитирований, 2.11%
Nanoscale
33 цитирования, 1.94%
Physical Review Applied
32 цитирования, 1.88%
Advanced Materials
32 цитирования, 1.88%
Advanced Functional Materials
27 цитирований, 1.58%
Journal of Alloys and Compounds
26 цитирований, 1.53%
IEEE Electron Device Letters
26 цитирований, 1.53%
Physical Review B
26 цитирований, 1.53%
APL Materials
24 цитирования, 1.41%
Nanomaterials
22 цитирования, 1.29%
Advanced Materials Interfaces
22 цитирования, 1.29%
ACS Nano
20 цитирований, 1.17%
Nanotechnology
20 цитирований, 1.17%
Nature Communications
19 цитирований, 1.12%
Applied Surface Science
19 цитирований, 1.12%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
18 цитирований, 1.06%
Physica Status Solidi - Rapid Research Letters
18 цитирований, 1.06%
Journal of Materials Chemistry C
17 цитирований, 1%
Journal Physics D: Applied Physics
17 цитирований, 1%
Ceramics International
15 цитирований, 0.88%
npj Computational Materials
14 цитирований, 0.82%
Applied Physics Reviews
13 цитирований, 0.76%
Journal of Physics Condensed Matter
13 цитирований, 0.76%
Small
13 цитирований, 0.76%
Microelectronic Engineering
13 цитирований, 0.76%
AIP Advances
12 цитирований, 0.7%
Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science
12 цитирований, 0.7%
IEEE Journal of the Electron Devices Society
11 цитирований, 0.65%
Physical Review Letters
10 цитирований, 0.59%
Physical Review Materials
10 цитирований, 0.59%
Russian Microelectronics
10 цитирований, 0.59%
Materials Science in Semiconductor Processing
9 цитирований, 0.53%
Nano Letters
9 цитирований, 0.53%
Vacuum
9 цитирований, 0.53%
Solid-State Electronics
8 цитирований, 0.47%
Acta Materialia
8 цитирований, 0.47%
Chinese Physics B
8 цитирований, 0.47%
Science
8 цитирований, 0.47%
Journal of Physical Chemistry C
8 цитирований, 0.47%
Scientific Reports
8 цитирований, 0.47%
Nano Energy
8 цитирований, 0.47%
Materials
8 цитирований, 0.47%
Advanced Intelligent Systems
8 цитирований, 0.47%
Advanced Materials Technologies
7 цитирований, 0.41%
Surfaces and Interfaces
7 цитирований, 0.41%
Materials Horizons
7 цитирований, 0.41%
Physical Chemistry Chemical Physics
7 цитирований, 0.41%
RSC Advances
7 цитирований, 0.41%
Advanced Science
7 цитирований, 0.41%
Thin Solid Films
7 цитирований, 0.41%
Journal of Materials Science: Materials in Electronics
7 цитирований, 0.41%
Journal of Vacuum Science and Technology B
7 цитирований, 0.41%
Journal of the American Ceramic Society
7 цитирований, 0.41%
Journal of Surface Investigation
6 цитирований, 0.35%
Microscopy and Microanalysis
6 цитирований, 0.35%
Science China Information Sciences
6 цитирований, 0.35%
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
6 цитирований, 0.35%
Materials and Design
6 цитирований, 0.35%
Journal of Materials Chemistry A
6 цитирований, 0.35%
Semiconductor Science and Technology
6 цитирований, 0.35%
Science advances
6 цитирований, 0.35%
Science China Materials
6 цитирований, 0.35%
Applied Physics Express
6 цитирований, 0.35%
Nanobiotechnology Reports
6 цитирований, 0.35%
ACS Applied Nano Materials
5 цитирований, 0.29%
Materials Today
5 цитирований, 0.29%
Chaos, Solitons and Fractals
5 цитирований, 0.29%
ACS Applied Energy Materials
5 цитирований, 0.29%
Russian Journal of Applied Chemistry
5 цитирований, 0.29%
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
5 цитирований, 0.29%
Nanoscale Advances
5 цитирований, 0.29%
JOM
5 цитирований, 0.29%
Journal of Physical Chemistry Letters
5 цитирований, 0.29%
Frontiers of Physics
5 цитирований, 0.29%
Materials Science and Engineering: R: Reports
4 цитирования, 0.23%
Journal of Physics: Conference Series
4 цитирования, 0.23%
Nanoscale Horizons
4 цитирования, 0.23%
Electronics (Switzerland)
4 цитирования, 0.23%
Physics of the Solid State
4 цитирования, 0.23%
Applied Physics A: Materials Science and Processing
4 цитирования, 0.23%
Nano Convergence
4 цитирования, 0.23%
Journal of Semiconductors
4 цитирования, 0.23%
Journal of Electronic Materials
4 цитирования, 0.23%
ACS Omega
4 цитирования, 0.23%
Ferroelectrics
4 цитирования, 0.23%
Nanoscale Research Letters
4 цитирования, 0.23%
IEEE Access
4 цитирования, 0.23%
Tyumen State University Herald. Physical and Mathematical Modeling Oil Gas Energy
4 цитирования, 0.23%
IEEE Transactions on Materials for Electron Devices
4 цитирования, 0.23%
Russian Journal of Inorganic Chemistry
3 цитирования, 0.18%
Micromachines
3 цитирования, 0.18%
Advanced Optical Materials
3 цитирования, 0.18%
Neurocomputing
3 цитирования, 0.18%
Chemistry of Materials
3 цитирования, 0.18%
20
40
60
80
100
120
140

Издатели

1
2
3
4
5
6
7
8
9
Elsevier
9 публикаций, 19.57%
Wiley
7 публикаций, 15.22%
American Chemical Society (ACS)
7 публикаций, 15.22%
AIP Publishing
6 публикаций, 13.04%
Pleiades Publishing
3 публикации, 6.52%
IOP Publishing
3 публикации, 6.52%
Royal Society of Chemistry (RSC)
2 публикации, 4.35%
American Physical Society (APS)
2 публикации, 4.35%
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
2 публикации, 4.35%
Springer Nature
1 публикация, 2.17%
MDPI
1 публикация, 2.17%
Frontiers Media S.A.
1 публикация, 2.17%
American Vacuum Society
1 публикация, 2.17%
1
2
3
4
5
6
7
8
9

Организации из публикаций

5
10
15
20
25
30
35
40
45
Московский физико-технический институт
43 публикации, 93.48%
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
11 публикаций, 23.91%
Немецкий Электронный Синхротрон
10 публикаций, 21.74%
Институт кристаллографии имени А. В. Шубникова
6 публикаций, 13.04%
Университет Небраски–Линкольн
6 публикаций, 13.04%
Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
5 публикаций, 10.87%
Институт микроэлектроники и микросистем
4 публикации, 8.7%
Организация не определена, 3, 6.52%
Организация не определена
3 публикации, 6.52%
Институт радиотехники и электроники имени В.А. Котельникова РАН
3 публикации, 6.52%
Центр им. Гельмгольца Дрезден-Россендорф
3 публикации, 6.52%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
2 публикации, 4.35%
Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
2 публикации, 4.35%
Институт общей физики имени А.М. Прохорова РАН
2 публикации, 4.35%
Институт проблем лазерных и информационных технологий
2 публикации, 4.35%
Федеральная политехническая школа Лозанны
2 публикации, 4.35%
Миланский университет Бикокка
2 публикации, 4.35%
Сколковский институт науки и технологий
1 публикация, 2.17%
Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики»
1 публикация, 2.17%
Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН
1 публикация, 2.17%
Курчатовский комплекс "Кристаллография и Фотоника"
1 публикация, 2.17%
Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
1 публикация, 2.17%
Университет ИТМО
1 публикация, 2.17%
Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского
1 публикация, 2.17%
Балтийский Федеральный Университет имени Иммануила Канта
1 публикация, 2.17%
Санкт-Петербургский государственный университет
1 публикация, 2.17%
Новосибирский государственный технический университет
1 публикация, 2.17%
Белорусский национальный технический университет
1 публикация, 2.17%
Научно-исследовательский институт системных исследований
1 публикация, 2.17%
Лундский университет
1 публикация, 2.17%
Университет Гренобль-Альпы
1 публикация, 2.17%
Римский Университет Ла Сапиенца
1 публикация, 2.17%
Институт Пауля Шеррера
1 публикация, 2.17%
Миланский технический университет
1 публикация, 2.17%
Институт материаловедческих мастерских
1 публикация, 2.17%
Институт Сложных Систем
1 публикация, 2.17%
Университет штата Северная Каролина
1 публикация, 2.17%
Сяньтаньский университет
1 публикация, 2.17%
Политехнический университет Валенсии
1 публикация, 2.17%
Химико-технологический институт
1 публикация, 2.17%
Национальный институт прикладных наук Тулузы
1 публикация, 2.17%
5
10
15
20
25
30
35
40
45

Страны из публикаций

5
10
15
20
25
30
35
40
45
Россия, 44, 95.65%
Россия
44 публикации, 95.65%
Германия, 13, 28.26%
Германия
13 публикаций, 28.26%
США, 6, 13.04%
США
6 публикаций, 13.04%
Италия, 5, 10.87%
Италия
5 публикаций, 10.87%
Страна не определена, 3, 6.52%
Страна не определена
3 публикации, 6.52%
Швейцария, 3, 6.52%
Швейцария
3 публикации, 6.52%
Франция, 1, 2.17%
Франция
1 публикация, 2.17%
Беларусь, 1, 2.17%
Беларусь
1 публикация, 2.17%
Китай, 1, 2.17%
Китай
1 публикация, 2.17%
Испания, 1, 2.17%
Испания
1 публикация, 2.17%
Швеция, 1, 2.17%
Швеция
1 публикация, 2.17%
5
10
15
20
25
30
35
40
45

Цитирующие организации

50
100
150
200
250
Организация не определена, 201, 11.81%
Организация не определена
201 цитирование, 11.81%
Московский физико-технический институт
107 цитирований, 6.29%
Сеульский университет
42 цитирования, 2.47%
Автономный университет Барселоны
38 цитирований, 2.23%
Дрезденский технический университет
36 цитирований, 2.12%
Фуданьский университет
34 цитирования, 2%
Университет Китайской академии наук
33 цитирования, 1.94%
Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"
32 цитирования, 1.88%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук
32 цитирования, 1.88%
Нанкинский университет
30 цитирований, 1.76%
Барселонский институт материаловедения
30 цитирований, 1.76%
Сидяньский университет
28 цитирований, 1.65%
Университет Париж-Сакле
27 цитирований, 1.59%
Сяньтаньский университет
25 цитирований, 1.47%
Университет Небраски–Линкольн
25 цитирований, 1.47%
Токийский университет
24 цитирования, 1.41%
Калифорнийский университет в Беркли
23 цитирования, 1.35%
Университет Цинхуа
22 цитирования, 1.29%
Национальный университет Сингапура
22 цитирования, 1.29%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
20 цитирований, 1.18%
Шаньдунский университет
19 цитирований, 1.12%
Хуачжунский университет науки и технологии
18 цитирований, 1.06%
Сианьский университет Цзяотун
18 цитирований, 1.06%
Хэбэйский университет
18 цитирований, 1.06%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли
18 цитирований, 1.06%
Национальный институт материаловедения
17 цитирований, 1%
Пекинский университет
16 цитирований, 0.94%
Восточно-Китайский педагогический университет
16 цитирований, 0.94%
Институт микроэлектроники и микросистем
16 цитирований, 0.94%
Пхоханский университет науки и технологий
16 цитирований, 0.94%
Университет Донгук
15 цитирований, 0.88%
Университет штата Северная Каролина
15 цитирований, 0.88%
Немецкий Электронный Синхротрон
15 цитирований, 0.88%
Курчатовский комплекс "Кристаллография и Фотоника"
14 цитирований, 0.82%
Институт кристаллографии имени А. В. Шубникова
14 цитирований, 0.82%
Университет Гренобль-Альпы
14 цитирований, 0.82%
Корейский институт передовых технологий
14 цитирований, 0.82%
Университет науки и технологий Китая
14 цитирований, 0.82%
Пенсильванский университет
14 цитирований, 0.82%
Институт радиотехники и электроники имени В.А. Котельникова РАН
13 цитирований, 0.76%
Индийский технологический институт в Мадрасе
13 цитирований, 0.76%
Чжэцзянский университет
13 цитирований, 0.76%
Университет электронных наук и технологий Китая
13 цитирований, 0.76%
Национальный университет Ян Мин Цзяотун
13 цитирований, 0.76%
Центральный южный университет
12 цитирований, 0.71%
Южно-Китайский педагогический университет
12 цитирований, 0.71%
Миланский университет Бикокка
12 цитирований, 0.71%
Институт физики Китайской академии наук
12 цитирований, 0.71%
Университет Ханьян
12 цитирований, 0.71%
Центр совместных инноваций передовых микроструктур
12 цитирований, 0.71%
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
11 цитирований, 0.65%
Институт проблем лазерных и информационных технологий
11 цитирований, 0.65%
Шанхайский университет Цзяотун
11 цитирований, 0.65%
Харбинский политехнический университет
11 цитирований, 0.65%
Университет Нового Южного Уэльса
11 цитирований, 0.65%
Пусанский университет
11 цитирований, 0.65%
Гонконгский политехнический университет
11 цитирований, 0.65%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий
11 цитирований, 0.65%
Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
10 цитирований, 0.59%
Физико-технологический институт имени К.А. Валиева
10 цитирований, 0.59%
Южный университет науки и технологий
10 цитирований, 0.59%
Национальный университет Цинхуа
10 цитирований, 0.59%
Корейский институт науки и технологий
10 цитирований, 0.59%
Шанхайский институт технической физики, Китайская академия наук
10 цитирований, 0.59%
Санкт-Петербургский государственный университет
9 цитирований, 0.53%
Даляньский технологический университет
9 цитирований, 0.53%
Лундский университет
9 цитирований, 0.53%
Наньянский технологический университет
9 цитирований, 0.53%
Уорикский университет
9 цитирований, 0.53%
Кембриджский университет
9 цитирований, 0.53%
Университет штата Пенсильвания
9 цитирований, 0.53%
Университет Корё
9 цитирований, 0.53%
Техасский университет в Далласе
9 цитирований, 0.53%
Университет Флориды
9 цитирований, 0.53%
Университет Минью
9 цитирований, 0.53%
Новосибирский Государственный Университет
8 цитирований, 0.47%
Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского
8 цитирований, 0.47%
Швейцарская высшая техническая школа Цюриха
8 цитирований, 0.47%
Нанькайский университет
8 цитирований, 0.47%
Университет Сорбонна
8 цитирований, 0.47%
Samsung
8 цитирований, 0.47%
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр
8 цитирований, 0.47%
Университет Сонгюнгван
8 цитирований, 0.47%
Ок-Риджская национальная лаборатория
8 цитирований, 0.47%
Иллинойсский университет в Урбане-Шампейне
8 цитирований, 0.47%
Сандийские национальные лаборатории
8 цитирований, 0.47%
Научно-технологический университет имени короля Абдаллы
7 цитирований, 0.41%
Федеральная политехническая школа Лозанны
7 цитирований, 0.41%
Университет имени Сунь Ятсена
7 цитирований, 0.41%
Центр им. Гельмгольца Дрезден-Россендорф
7 цитирований, 0.41%
Шанхайский институт керамики Китайской академии наук
7 цитирований, 0.41%
Токийский технологический институт
7 цитирований, 0.41%
Университет Соган
7 цитирований, 0.41%
Университет Тохоку
7 цитирований, 0.41%
Оборонный научно-технический университет Народно-освободительной армии Китая
7 цитирований, 0.41%
Рейнско-Вестфальский технический университет Ахена
7 цитирований, 0.41%
Гронингенский университет
7 цитирований, 0.41%
Юлихский исследовательский центр
7 цитирований, 0.41%
Университет Клода Бернара Лион 1
7 цитирований, 0.41%
Центральная школа Лиона
7 цитирований, 0.41%
50
100
150
200
250

Цитирующие страны

50
100
150
200
250
300
350
400
450
Китай, 445, 26.15%
Китай
445 цитирований, 26.15%
США, 210, 12.34%
США
210 цитирований, 12.34%
Россия, 183, 10.75%
Россия
183 цитирования, 10.75%
Страна не определена, 155, 9.11%
Страна не определена
155 цитирований, 9.11%
Республика Корея, 155, 9.11%
Республика Корея
155 цитирований, 9.11%
Германия, 125, 7.34%
Германия
125 цитирований, 7.34%
Япония, 76, 4.47%
Япония
76 цитирований, 4.47%
Индия, 73, 4.29%
Индия
73 цитирования, 4.29%
Испания, 64, 3.76%
Испания
64 цитирования, 3.76%
Франция, 63, 3.7%
Франция
63 цитирования, 3.7%
Италия, 52, 3.06%
Италия
52 цитирования, 3.06%
Великобритания, 44, 2.59%
Великобритания
44 цитирования, 2.59%
Сингапур, 32, 1.88%
Сингапур
32 цитирования, 1.88%
Австралия, 24, 1.41%
Австралия
24 цитирования, 1.41%
Швейцария, 24, 1.41%
Швейцария
24 цитирования, 1.41%
Канада, 17, 1%
Канада
17 цитирований, 1%
Швеция, 17, 1%
Швеция
17 цитирований, 1%
Румыния, 15, 0.88%
Румыния
15 цитирований, 0.88%
Саудовская Аравия, 14, 0.82%
Саудовская Аравия
14 цитирований, 0.82%
Португалия, 13, 0.76%
Португалия
13 цитирований, 0.76%
Бельгия, 12, 0.71%
Бельгия
12 цитирований, 0.71%
Мексика, 12, 0.71%
Мексика
12 цитирований, 0.71%
Нидерланды, 9, 0.53%
Нидерланды
9 цитирований, 0.53%
Израиль, 8, 0.47%
Израиль
8 цитирований, 0.47%
Польша, 8, 0.47%
Польша
8 цитирований, 0.47%
Финляндия, 8, 0.47%
Финляндия
8 цитирований, 0.47%
Греция, 7, 0.41%
Греция
7 цитирований, 0.41%
Люксембург, 6, 0.35%
Люксембург
6 цитирований, 0.35%
Пакистан, 5, 0.29%
Пакистан
5 цитирований, 0.29%
Турция, 5, 0.29%
Турция
5 цитирований, 0.29%
Дания, 4, 0.24%
Дания
4 цитирования, 0.24%
Ирландия, 4, 0.24%
Ирландия
4 цитирования, 0.24%
Эстония, 3, 0.18%
Эстония
3 цитирования, 0.18%
Болгария, 3, 0.18%
Болгария
3 цитирования, 0.18%
Иран, 3, 0.18%
Иран
3 цитирования, 0.18%
Малайзия, 3, 0.18%
Малайзия
3 цитирования, 0.18%
Чехия, 3, 0.18%
Чехия
3 цитирования, 0.18%
Чили, 3, 0.18%
Чили
3 цитирования, 0.18%
Казахстан, 2, 0.12%
Казахстан
2 цитирования, 0.12%
Австрия, 2, 0.12%
Австрия
2 цитирования, 0.12%
Аргентина, 2, 0.12%
Аргентина
2 цитирования, 0.12%
Вьетнам, 2, 0.12%
Вьетнам
2 цитирования, 0.12%
Индонезия, 2, 0.12%
Индонезия
2 цитирования, 0.12%
Марокко, 2, 0.12%
Марокко
2 цитирования, 0.12%
Норвегия, 2, 0.12%
Норвегия
2 цитирования, 0.12%
Тунис, 2, 0.12%
Тунис
2 цитирования, 0.12%
Хорватия, 2, 0.12%
Хорватия
2 цитирования, 0.12%
ЮАР, 2, 0.12%
ЮАР
2 цитирования, 0.12%
Украина, 1, 0.06%
Украина
1 цитирование, 0.06%
Беларусь, 1, 0.06%
Беларусь
1 цитирование, 0.06%
Алжир, 1, 0.06%
Алжир
1 цитирование, 0.06%
Бангладеш, 1, 0.06%
Бангладеш
1 цитирование, 0.06%
Бразилия, 1, 0.06%
Бразилия
1 цитирование, 0.06%
Венгрия, 1, 0.06%
Венгрия
1 цитирование, 0.06%
Гонконг (САР), 1, 0.06%
Гонконг (САР)
1 цитирование, 0.06%
Исландия, 1, 0.06%
Исландия
1 цитирование, 0.06%
Колумбия, 1, 0.06%
Колумбия
1 цитирование, 0.06%
Латвия, 1, 0.06%
Латвия
1 цитирование, 0.06%
Литва, 1, 0.06%
Литва
1 цитирование, 0.06%
Нигерия, 1, 0.06%
Нигерия
1 цитирование, 0.06%
Новая Зеландия, 1, 0.06%
Новая Зеландия
1 цитирование, 0.06%
ОАЭ, 1, 0.06%
ОАЭ
1 цитирование, 0.06%
Сербия, 1, 0.06%
Сербия
1 цитирование, 0.06%
Таиланд, 1, 0.06%
Таиланд
1 цитирование, 0.06%
50
100
150
200
250
300
350
400
450
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.

Направления исследований

Сегнетоэлектрическая память на основе HfO2

+
Сегнетоэлектрическая память на основе HfO2
Открытие в 2011 году сегнетоэлектричества (СЭ) в легированных сверхтонких пленках HfO2 возродило интерес исследователей к концепциям микроэлектронных устройств на основе СЭ, поскольку позволило обойти ряд технологических проблем, присущих классическим СЭ материалам, как BaTiO3 и PZT. До настоящего времени интерес лишь усиливался, поскольку успех в научно-исследовательских проектах по СЭ в легированном HfO2 и, особенно, в смешанном Hf0.5Zr0.5O2 позволил вплотную подойти к созданию встроенной СЭ памяти по технологиям FeRAM и FeFET. Наша лаборатория активно участвует как в фундаментальных исследованиях физических механизмов, происходящих в СЭ пленках на основе HfO2, так и в прикладном проекте, направленном на создание полноценных устройств СЭ памяти, производимых в России.

Нейроморфные электронные устройства

+
Нейроморфные электронные устройства
Успех нейронных сетей в последние годы неоспорим и виден уже даже на бытовом уровне. Однако и в этой сфере есть куда расти: создание специализированного "железа", адаптированного под исполнение нейросетевых алгоритмов прямо в чипе, позволит значительно снизить энергопотребление и увеличить скорость работы, а также запускать сложные нейросети на компактных устройствах вместо обращения к удаленным серверам. Наша лаборатория занимается разработкой электронных аналогов синапсов и нейронов, также называемых "мемристорами", как компонентой базы для аппаратной реализации нейронных сетей.

Синхротронные методы исследования материалов и устройств для микроэлектроники

+
Синхротронные методы исследования материалов и устройств для микроэлектроники
Для исследования новых материалов и создания новых устройств микро- и наноэлектроники требуются все более тонкие и сложные методы. Одним из классов таких методов являются рентгеновская спектроскопия и дифракция с использованием синхротронного излучения. Наша лаборатория обладает уникальными компетенциями в проведении т.н. operando рентгеновских экспериментов, когда измерения происходят непосредственно в процессе работы электронных устройств. Это позволяет наиболее полно характеризовать механизмы функционирования прототипов устройств, оценивать их стабильность во времени и в течение их жизненного цикла. В числе используемых нами методов: рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, спектроскопия рентгеновского поглощения (обе с опцией магнитного дихроизма в излучении с круговой поляризацией), Мёссбауэровская спектроскопия, рентгеновская дифракция.

Новые материалы и устройства

+
Новые материалы и устройства
Лаборатория также занимается разработкой методов синтеза новых функциональных материалов в наноразмерных слоях и многослойных структурах, имеющих потенциал приложений в устройствах наноэлектроники, включая: ферромагнитные материалы для спинтроники, оксиды с эффектом обратимого резистивного переключения для устройств памяти и мемристоров, составные мультиферроики для управления магнетизмом при помощи электрических полей. С коллегами из других организаций мы исследуем также двумерные (2D) материалы, топологические изоляторы, галогенидные перовскиты и другие современные твердотельные материалы. Среди методов синтеза новых материалов наша лаборатория особенно специализируется на импульсном лазерном осаждении.

Публикации и патенты

Найдено 
Юрий Александрович Матвеев, Андрей Владимирович Зенкевич, Дмитрий Владимирович Негров
RU2627125C1, 2017

Партнёры

Научно исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова

Адрес лаборатории

Долгопрудный, Институтский переулок, 9
Необходимо авторизоваться.