Э Брюс Л

Bruce L Robert
Публикаций
39
Цитирований
1 261
Индекс Хирша
18
Полная статистика
Всего публикаций
39
Всего цитирований
1261
Цитирований на публикацию
32.33
Среднее число публикаций в год
2.44
Среднее число соавторов
10.64
Годы публикаций
2010-2025 (16 лет)
h-index
18
i10-index
29
m-index
1.13
o-index
58
g-index
35
w-index
5
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Области наук

2
4
6
8
10
12
Surfaces, Coatings and Films, 12, 30.77%
Surfaces, Coatings and Films
12 публикаций, 30.77%
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 11, 28.21%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
11 публикаций, 28.21%
Condensed Matter Physics, 10, 25.64%
Condensed Matter Physics
10 публикаций, 25.64%
Electrical and Electronic Engineering, 5, 12.82%
Electrical and Electronic Engineering
5 публикаций, 12.82%
Materials Chemistry, 4, 10.26%
Materials Chemistry
4 публикации, 10.26%
Process Chemistry and Technology, 4, 10.26%
Process Chemistry and Technology
4 публикации, 10.26%
Instrumentation, 4, 10.26%
Instrumentation
4 публикации, 10.26%
Surfaces and Interfaces, 4, 10.26%
Surfaces and Interfaces
4 публикации, 10.26%
Acoustics and Ultrasonics, 4, 10.26%
Acoustics and Ultrasonics
4 публикации, 10.26%
General Materials Science, 3, 7.69%
General Materials Science
3 публикации, 7.69%
General Physics and Astronomy, 2, 5.13%
General Physics and Astronomy
2 публикации, 5.13%
Physics and Astronomy (miscellaneous), 2, 5.13%
Physics and Astronomy (miscellaneous)
2 публикации, 5.13%
Electrochemistry, 1, 2.56%
Electrochemistry
1 публикация, 2.56%
Polymers and Plastics, 1, 2.56%
Polymers and Plastics
1 публикация, 2.56%
Mechanical Engineering, 1, 2.56%
Mechanical Engineering
1 публикация, 2.56%
Biomaterials, 1, 2.56%
Biomaterials
1 публикация, 2.56%
General Engineering, 1, 2.56%
General Engineering
1 публикация, 2.56%
Mechanics of Materials, 1, 2.56%
Mechanics of Materials
1 публикация, 2.56%
2
4
6
8
10
12

Журналы

1
2
3
4
5
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
5 публикаций, 12.82%
Journal of Vacuum Science and Technology B
5 публикаций, 12.82%
Journal Physics D: Applied Physics
4 публикации, 10.26%
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
3 публикации, 7.69%
Applied Physics Letters
2 публикации, 5.13%
Nanoscale
1 публикация, 2.56%
Advanced Functional Materials
1 публикация, 2.56%
ACS Nano
1 публикация, 2.56%
ECS Journal of Solid State Science and Technology
1 публикация, 2.56%
Journal of Applied Physics
1 публикация, 2.56%
Plasma Processes and Polymers
1 публикация, 2.56%
Advanced Materials
1 публикация, 2.56%
IEEE Transactions on Electron Devices
1 публикация, 2.56%
1
2
3
4
5

Цитирующие журналы

20
40
60
80
100
120
140
160
180
200
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
193 цитирования, 15.31%
Журнал не определён, 117, 9.28%
Журнал не определён
117 цитирований, 9.28%
Journal of Vacuum Science and Technology B
70 цитирований, 5.55%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
64 цитирования, 5.08%
Journal Physics D: Applied Physics
58 цитирований, 4.6%
Journal of Applied Physics
36 цитирований, 2.85%
Plasma Processes and Polymers
33 цитирования, 2.62%
ECS Journal of Solid State Science and Technology
27 цитирований, 2.14%
Applied Surface Science
25 цитирований, 1.98%
ACS applied materials & interfaces
24 цитирования, 1.9%
Plasma Sources Science and Technology
23 цитирования, 1.82%
IEEE Transactions on Electron Devices
20 цитирований, 1.59%
Applied Physics Letters
18 цитирований, 1.43%
IEEE Electron Device Letters
15 цитирований, 1.19%
IEEE Journal of the Electron Devices Society
13 цитирований, 1.03%
Polymers
13 цитирований, 1.03%
Physics of Plasmas
12 цитирований, 0.95%
Scientific Reports
12 цитирований, 0.95%
Nanotechnology
11 цитирований, 0.87%
Journal of Chemical Physics
10 цитирований, 0.79%
Vacuum
10 цитирований, 0.79%
Microelectronic Engineering
10 цитирований, 0.79%
Chemistry of Materials
9 цитирований, 0.71%
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
9 цитирований, 0.71%
Materials
9 цитирований, 0.71%
Nanoscale
8 цитирований, 0.63%
Nature Communications
8 цитирований, 0.63%
Langmuir
8 цитирований, 0.63%
Physical Chemistry Chemical Physics
7 цитирований, 0.56%
Journal of Materials Chemistry C
7 цитирований, 0.56%
MRS Proceedings
7 цитирований, 0.56%
ACS Applied Electronic Materials
7 цитирований, 0.56%
ACS Applied Nano Materials
6 цитирований, 0.48%
ACS Nano
6 цитирований, 0.48%
Plasma Chemistry and Plasma Processing
6 цитирований, 0.48%
Surface and Coatings Technology
6 цитирований, 0.48%
IEEE Access
6 цитирований, 0.48%
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
5 цитирований, 0.4%
Journal of Physical Chemistry C
5 цитирований, 0.4%
Small
5 цитирований, 0.4%
Nano Letters
5 цитирований, 0.4%
Journal of Micromechanics and Microengineering
5 цитирований, 0.4%
Micromachines
4 цитирования, 0.32%
RSC Advances
4 цитирования, 0.32%
Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS
4 цитирования, 0.32%
Advanced Functional Materials
4 цитирования, 0.32%
Materials Science in Semiconductor Processing
4 цитирования, 0.32%
Nanomaterials
4 цитирования, 0.32%
Scripta Materialia
4 цитирования, 0.32%
ACS Sustainable Chemistry and Engineering
4 цитирования, 0.32%
Current Applied Physics
4 цитирования, 0.32%
Physica Scripta
4 цитирования, 0.32%
Acta Physica Sinica
4 цитирования, 0.32%
Russian Microelectronics
4 цитирования, 0.32%
Nature Nanotechnology
3 цитирования, 0.24%
Journal of Applied Polymer Science
3 цитирования, 0.24%
Surfaces and Interfaces
3 цитирования, 0.24%
Applied Physics Reviews
3 цитирования, 0.24%
Plasma Physics and Controlled Fusion
3 цитирования, 0.24%
Microelectronics Journal
3 цитирования, 0.24%
AIP Advances
3 цитирования, 0.24%
IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics
3 цитирования, 0.24%
Review of Scientific Instruments
3 цитирования, 0.24%
Journal of Physical Chemistry B
3 цитирования, 0.24%
Soft Matter
3 цитирования, 0.24%
Chemical Engineering Journal
3 цитирования, 0.24%
Advanced Materials Interfaces
3 цитирования, 0.24%
ACS Omega
3 цитирования, 0.24%
Semiconductor Science and Technology
3 цитирования, 0.24%
Chemical Engineering Research and Design
3 цитирования, 0.24%
Coatings
3 цитирования, 0.24%
Applied Science and Convergence Technology
3 цитирования, 0.24%
Nanomanufacturing and Metrology
3 цитирования, 0.24%
Carbon
2 цитирования, 0.16%
Journal of Materials Research
2 цитирования, 0.16%
Journal of Alloys and Compounds
2 цитирования, 0.16%
Micro and Nano Engineering
2 цитирования, 0.16%
Advanced Electronic Materials
2 цитирования, 0.16%
EPJ Applied Physics
2 цитирования, 0.16%
Physica Status Solidi - Rapid Research Letters
2 цитирования, 0.16%
Chinese Physics B
2 цитирования, 0.16%
European Physical Journal D
2 цитирования, 0.16%
Frontiers of Chemical Science and Engineering
2 цитирования, 0.16%
Journal of Lightwave Technology
2 цитирования, 0.16%
Journal of the Korean Physical Society
2 цитирования, 0.16%
Materials Science and Engineering C
2 цитирования, 0.16%
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology
2 цитирования, 0.16%
IEEE Sensors Journal
2 цитирования, 0.16%
Lab on a Chip
2 цитирования, 0.16%
Nature Materials
2 цитирования, 0.16%
Frontiers of Nanoscience
2 цитирования, 0.16%
IEEE Journal of Solid-State Circuits
2 цитирования, 0.16%
Semiconductors
2 цитирования, 0.16%
Ceramics International
2 цитирования, 0.16%
Springer Handbooks
2 цитирования, 0.16%
IEEE Nanotechnology Magazine
2 цитирования, 0.16%
Thin Solid Films
2 цитирования, 0.16%
Journal of Non-Crystalline Solids
2 цитирования, 0.16%
Science Bulletin
2 цитирования, 0.16%
Analytical Chemistry
2 цитирования, 0.16%
20
40
60
80
100
120
140
160
180
200

Цитируемые журналы

20
40
60
80
100
120
140
160
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
144 цитирования, 12.68%
Journal of Applied Physics
72 цитирования, 6.34%
Applied Physics Letters
66 цитирований, 5.81%
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena
59 цитирований, 5.19%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
50 цитирований, 4.4%
Journal of Vacuum Science and Technology B
44 цитирования, 3.87%
Journal Physics D: Applied Physics
40 цитирований, 3.52%
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
34 цитирования, 2.99%
Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
34 цитирования, 2.99%
Журнал не определён, 32, 2.82%
Журнал не определён
32 цитирования, 2.82%
Journal of the Electrochemical Society
25 цитирований, 2.2%
Plasma Processes and Polymers
17 цитирований, 1.5%
IEEE Transactions on Electron Devices
17 цитирований, 1.5%
Nature
15 цитирований, 1.32%
Plasma Sources Science and Technology
13 цитирований, 1.14%
ECS Journal of Solid State Science and Technology
13 цитирований, 1.14%
Nano Letters
13 цитирований, 1.14%
Applied Surface Science
13 цитирований, 1.14%
Journal of Chemical Physics
12 цитирований, 1.06%
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
12 цитирований, 1.06%
IEEE Electron Device Letters
12 цитирований, 1.06%
Chemical Reviews
12 цитирований, 1.06%
Physical Review Letters
11 цитирований, 0.97%
Macromolecules
11 цитирований, 0.97%
Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America
9 цитирований, 0.79%
IBM Journal of Research and Development
9 цитирований, 0.79%
Advanced Functional Materials
8 цитирований, 0.7%
Advanced Materials
8 цитирований, 0.7%
Physical Review B
8 цитирований, 0.7%
Journal of Photopolymer Science and Technology
7 цитирований, 0.62%
Science
7 цитирований, 0.62%
Nanotechnology
7 цитирований, 0.62%
Nature Nanotechnology
6 цитирований, 0.53%
Surface Science
6 цитирований, 0.53%
Physical Chemistry Chemical Physics
6 цитирований, 0.53%
Surface and Coatings Technology
6 цитирований, 0.53%
Microelectronic Engineering
6 цитирований, 0.53%
Thin Solid Films
6 цитирований, 0.53%
Langmuir
6 цитирований, 0.53%
Journal of the Mechanics and Physics of Solids
5 цитирований, 0.44%
Chemistry of Materials
5 цитирований, 0.44%
Nature Materials
5 цитирований, 0.44%
Scientific Reports
5 цитирований, 0.44%
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
4 цитирования, 0.35%
ACS applied materials & interfaces
4 цитирования, 0.35%
Nature Communications
4 цитирования, 0.35%
IEEE Transactions on Plasma Science
4 цитирования, 0.35%
Journal of Physical Chemistry C
4 цитирования, 0.35%
Vacuum
4 цитирования, 0.35%
Nature Biotechnology
4 цитирования, 0.35%
Proceedings of the IEEE
4 цитирования, 0.35%
Materials
4 цитирования, 0.35%
Journal of Sol-Gel Science and Technology
3 цитирования, 0.26%
Small
3 цитирования, 0.26%
Nanomaterials
3 цитирования, 0.26%
Physics of Plasmas
3 цитирования, 0.26%
Journal of Physical Chemistry B
3 цитирования, 0.26%
Macromolecular Chemistry and Physics
3 цитирования, 0.26%
Angewandte Chemie - International Edition
3 цитирования, 0.26%
Journal of Micromechanics and Microengineering
3 цитирования, 0.26%
ArXiv
3 цитирования, 0.26%
Journal of Vacuum Science and Technology
3 цитирования, 0.26%
Journal of Polymer Science Polymer Chemistry Edition
3 цитирования, 0.26%
Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology
3 цитирования, 0.26%
Journal of Chemical Theory and Computation
2 цитирования, 0.18%
Materials Science and Engineering: R: Reports
2 цитирования, 0.18%
Applied Physics Reviews
2 цитирования, 0.18%
Accounts of Chemical Research
2 цитирования, 0.18%
Journal of Cleaner Production
2 цитирования, 0.18%
Science of the Total Environment
2 цитирования, 0.18%
Journal of the American Chemical Society
2 цитирования, 0.18%
Acta Materialia
2 цитирования, 0.18%
Surface Science Spectra
2 цитирования, 0.18%
Materials Science in Semiconductor Processing
2 цитирования, 0.18%
ACS Nano
2 цитирования, 0.18%
Reports on Progress in Physics
2 цитирования, 0.18%
Journal of Tribology
2 цитирования, 0.18%
Journal of Polymer Science, Part B: Polymer Physics
2 цитирования, 0.18%
Journal of Materials Science
2 цитирования, 0.18%
Physical Review A
2 цитирования, 0.18%
Physical Review E
2 цитирования, 0.18%
Advances in Polymer Science
2 цитирования, 0.18%
Nature Reviews Genetics
2 цитирования, 0.18%
Journal of Fluorine Chemistry
2 цитирования, 0.18%
Applied Physics A: Materials Science and Processing
2 цитирования, 0.18%
Journal of Materials Chemistry A
2 цитирования, 0.18%
Proceedings of the Royal Society A: Mathematical, Physical and Engineering Sciences
2 цитирования, 0.18%
Procedia Engineering
2 цитирования, 0.18%
Atomic Data and Nuclear Data Tables
2 цитирования, 0.18%
Chemical Society Reviews
2 цитирования, 0.18%
Journal of Physical Chemistry Letters
2 цитирования, 0.18%
Chemosphere
2 цитирования, 0.18%
ECS Transactions
2 цитирования, 0.18%
Electrophoresis
2 цитирования, 0.18%
Nucleic Acids Research
2 цитирования, 0.18%
Journal of Colloid and Interface Science
2 цитирования, 0.18%
The Journal of Physical Chemistry
2 цитирования, 0.18%
Journal of Physics E Scientific Instruments
2 цитирования, 0.18%
Carbon
1 цитирование, 0.09%
Journal of Applied Polymer Science
1 цитирование, 0.09%
20
40
60
80
100
120
140
160

Издатели

2
4
6
8
10
American Vacuum Society
10 публикаций, 25.64%
IOP Publishing
4 публикации, 10.26%
Wiley
3 публикации, 7.69%
AIP Publishing
3 публикации, 7.69%
SPIE-Intl Soc Optical Eng
3 публикации, 7.69%
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 2.56%
Royal Society of Chemistry (RSC)
1 публикация, 2.56%
The Electrochemical Society
1 публикация, 2.56%
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
1 публикация, 2.56%
2
4
6
8
10

Организации из публикаций

5
10
15
20
25
Организация не определена, 21, 53.85%
Организация не определена
21 публикация, 53.85%
Исследовательский центр Уотсона
13 публикаций, 33.33%
Мэрилендский университет, Колледж-Парк
11 публикаций, 28.21%
Калифорнийский университет в Беркли
2 публикации, 5.13%
Техасский университет в Остине
2 публикации, 5.13%
Samsung
1 публикация, 2.56%
Корнеллский университет
1 публикация, 2.56%
Национальный университет Чунг Ченг
1 публикация, 2.56%
Университет штата Аризона
1 публикация, 2.56%
Калифорнийский университет в Лос-Анджелесе
1 публикация, 2.56%
Нагойский университет
1 публикация, 2.56%
Осакский университет
1 публикация, 2.56%
Мичиганский университет
1 публикация, 2.56%
Sony Group Corporation
1 публикация, 2.56%
Лаборатория военно-морских исследований США
1 публикация, 2.56%
Университет Хьюстона
1 публикация, 2.56%
Университет Орлеана
1 публикация, 2.56%
5
10
15
20
25

Страны из публикаций

5
10
15
20
25
30
35
США, 34, 87.18%
США
34 публикации, 87.18%
Страна не определена, 8, 20.51%
Страна не определена
8 публикаций, 20.51%
Китай, 3, 7.69%
Китай
3 публикации, 7.69%
Япония, 2, 5.13%
Япония
2 публикации, 5.13%
Франция, 1, 2.56%
Франция
1 публикация, 2.56%
Республика Корея, 1, 2.56%
Республика Корея
1 публикация, 2.56%
5
10
15
20
25
30
35

Цитирующие организации

50
100
150
200
250
300
Организация не определена, 290, 23%
Организация не определена
290 цитирований, 23%
Исследовательский центр Уотсона
46 цитирований, 3.65%
Мэрилендский университет, Колледж-Парк
44 цитирования, 3.49%
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр
43 цитирования, 3.41%
Осакский университет
25 цитирований, 1.98%
Лёвенский католический университет
24 цитирования, 1.9%
Samsung
22 цитирования, 1.74%
Нагойский университет
22 цитирования, 1.74%
Университет Сонгюнгван
21 цитирование, 1.67%
Университет Гренобль-Альпы
18 цитирований, 1.43%
Университет Колорадо в Боулдере
17 цитирований, 1.35%
Университет Китайской академии наук
16 цитирований, 1.27%
Стэнфордский университет
15 цитирований, 1.19%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
14 цитирований, 1.11%
Университет Сантьяго-де-Компостела
14 цитирований, 1.11%
Мичиганский университет
13 цитирований, 1.03%
Университет Орлеана
12 цитирований, 0.95%
Университет Ханьян
11 цитирований, 0.87%
Калифорнийский университет в Беркли
11 цитирований, 0.87%
Университет в Суонси
10 цитирований, 0.79%
Sony Group Corporation
10 цитирований, 0.79%
Колорадская горная школа
10 цитирований, 0.79%
Институт Йожефа Стефана
10 цитирований, 0.79%
Университет Цинхуа
9 цитирований, 0.71%
Сеульский университет
9 цитирований, 0.71%
Университет штата Аризона
9 цитирований, 0.71%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук
9 цитирований, 0.71%
Хуачжунский университет науки и технологии
8 цитирований, 0.63%
Даляньский технологический университет
8 цитирований, 0.63%
Университет Тохоку
8 цитирований, 0.63%
Техасский университет в Остине
8 цитирований, 0.63%
Лаборатория военно-морских исследований США
8 цитирований, 0.63%
Физико-технологический институт имени К.А. Валиева
7 цитирований, 0.56%
МИРЭА — Российский технологический университет
7 цитирований, 0.56%
Северо-Китайский технологический университет
7 цитирований, 0.56%
Технический университет Эйндховена
7 цитирований, 0.56%
Массачусетский технологический институт
7 цитирований, 0.56%
Корейский институт передовых технологий
7 цитирований, 0.56%
Национальный университет Кёнпук
7 цитирований, 0.56%
Национальный университет Чунгнам
7 цитирований, 0.56%
Национальный центр научных исследований «Демокрит»
7 цитирований, 0.56%
Университет Хьюстона
7 цитирований, 0.56%
Московский физико-технический институт
6 цитирований, 0.48%
Университет Аджу
6 цитирований, 0.48%
Национальный институт стандартов и технологий
6 цитирований, 0.48%
Калифорнийский университет в Лос-Анджелесе
6 цитирований, 0.48%
Киотский университет
6 цитирований, 0.48%
Техасский университет в Далласе
6 цитирований, 0.48%
Национальный университет Сингапура
5 цитирований, 0.4%
Принстонский университет
5 цитирований, 0.4%
Ульсанский национальный институт науки и технологий
5 цитирований, 0.4%
Университет штата Северная Каролина
5 цитирований, 0.4%
Корейский научно-исследовательский институт стандартов и науки
5 цитирований, 0.4%
Рурский университет
5 цитирований, 0.4%
Чунцинский институт зеленых и интеллектуальных технологий Китайской академии наук
5 цитирований, 0.4%
Шанхайский институт микросистем и информационных технологий, Китайская академия наук
5 цитирований, 0.4%
Чжэцзянский университет
4 цитирования, 0.32%
Технион - израильский технологический институт
4 цитирования, 0.32%
Гентский университет
4 цитирования, 0.32%
Уппсальский университет
4 цитирования, 0.32%
Пекинский университет Цзяотун
4 цитирования, 0.32%
Институт Пауля Шеррера
4 цитирования, 0.32%
Нантский университет
4 цитирования, 0.32%
Дрезденский технический университет
4 цитирования, 0.32%
Педагогический университет Янцзы
4 цитирования, 0.32%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли
4 цитирования, 0.32%
Национальный университет Тайваня
4 цитирования, 0.32%
Университет Глазго
4 цитирования, 0.32%
Корейский институт науки и технологий
4 цитирования, 0.32%
Университет Миннесоты
4 цитирования, 0.32%
Университет Пердью
4 цитирования, 0.32%
Toshiba Corporation
4 цитирования, 0.32%
Веллорский технологический университет
3 цитирования, 0.24%
Пекинский технологический институт
3 цитирования, 0.24%
Пекинский университет
3 цитирования, 0.24%
Бэйханский университет
3 цитирования, 0.24%
Федеральная политехническая школа Лозанны
3 цитирования, 0.24%
Уханьский технологический университет
3 цитирования, 0.24%
Университетский колледж Лондона
3 цитирования, 0.24%
Тяньцзиньский университет
3 цитирования, 0.24%
Центр им. Гельмгольца Дрезден-Россендорф
3 цитирования, 0.24%
Технический университет Дании
3 цитирования, 0.24%
Университет Ноттингем Трент
3 цитирования, 0.24%
Национальный университет Ян Мин Цзяотун
3 цитирования, 0.24%
Токийский технологический институт
3 цитирования, 0.24%
Аргоннская национальная лаборатория
3 цитирования, 0.24%
Университет Ёнсе
3 цитирования, 0.24%
Университет Корё
3 цитирования, 0.24%
Корейский научно-исследовательский институт химической технологии
3 цитирования, 0.24%
Институт фундаментальных наук
3 цитирования, 0.24%
Северо-Западный университет
3 цитирования, 0.24%
Миссурийский университет в Канзас-Сити
3 цитирования, 0.24%
Национальный университет Чонбук
3 цитирования, 0.24%
Чикагский университет
3 цитирования, 0.24%
Венский технический университет
3 цитирования, 0.24%
Корейский научно-исследовательский институт атомной энергии
3 цитирования, 0.24%
Университет Кэйо
3 цитирования, 0.24%
Национальный институт передовых промышленных наук и технологий
3 цитирования, 0.24%
Институт исследования полимеров Общества Макса Планка
3 цитирования, 0.24%
Университет науки и технологий Китая
3 цитирования, 0.24%
50
100
150
200
250
300

Цитирующие страны

50
100
150
200
250
300
350
США, 326, 25.85%
США
326 цитирований, 25.85%
Страна не определена, 170, 13.48%
Страна не определена
170 цитирований, 13.48%
Китай, 139, 11.02%
Китай
139 цитирований, 11.02%
Республика Корея, 114, 9.04%
Республика Корея
114 цитирований, 9.04%
Япония, 111, 8.8%
Япония
111 цитирований, 8.8%
Бельгия, 62, 4.92%
Бельгия
62 цитирования, 4.92%
Франция, 59, 4.68%
Франция
59 цитирований, 4.68%
Германия, 55, 4.36%
Германия
55 цитирований, 4.36%
Великобритания, 37, 2.93%
Великобритания
37 цитирований, 2.93%
Россия, 30, 2.38%
Россия
30 цитирований, 2.38%
Индия, 26, 2.06%
Индия
26 цитирований, 2.06%
Испания, 25, 1.98%
Испания
25 цитирований, 1.98%
Нидерланды, 16, 1.27%
Нидерланды
16 цитирований, 1.27%
Италия, 12, 0.95%
Италия
12 цитирований, 0.95%
Швейцария, 12, 0.95%
Швейцария
12 цитирований, 0.95%
Словения, 11, 0.87%
Словения
11 цитирований, 0.87%
Швеция, 10, 0.79%
Швеция
10 цитирований, 0.79%
Канада, 9, 0.71%
Канада
9 цитирований, 0.71%
Финляндия, 9, 0.71%
Финляндия
9 цитирований, 0.71%
Греция, 8, 0.63%
Греция
8 цитирований, 0.63%
Сингапур, 7, 0.56%
Сингапур
7 цитирований, 0.56%
Австрия, 6, 0.48%
Австрия
6 цитирований, 0.48%
Израиль, 6, 0.48%
Израиль
6 цитирований, 0.48%
Австралия, 5, 0.4%
Австралия
5 цитирований, 0.4%
Египет, 5, 0.4%
Египет
5 цитирований, 0.4%
Иран, 5, 0.4%
Иран
5 цитирований, 0.4%
Ирландия, 5, 0.4%
Ирландия
5 цитирований, 0.4%
Бангладеш, 4, 0.32%
Бангладеш
4 цитирования, 0.32%
Бразилия, 3, 0.24%
Бразилия
3 цитирования, 0.24%
Дания, 3, 0.24%
Дания
3 цитирования, 0.24%
Румыния, 2, 0.16%
Румыния
2 цитирования, 0.16%
Чили, 2, 0.16%
Чили
2 цитирования, 0.16%
ЮАР, 2, 0.16%
ЮАР
2 цитирования, 0.16%
Португалия, 1, 0.08%
Португалия
1 цитирование, 0.08%
Алжир, 1, 0.08%
Алжир
1 цитирование, 0.08%
Болгария, 1, 0.08%
Болгария
1 цитирование, 0.08%
Вьетнам, 1, 0.08%
Вьетнам
1 цитирование, 0.08%
Гонконг (САР), 1, 0.08%
Гонконг (САР)
1 цитирование, 0.08%
Индонезия, 1, 0.08%
Индонезия
1 цитирование, 0.08%
Ирак, 1, 0.08%
Ирак
1 цитирование, 0.08%
Колумбия, 1, 0.08%
Колумбия
1 цитирование, 0.08%
Пакистан, 1, 0.08%
Пакистан
1 цитирование, 0.08%
Польша, 1, 0.08%
Польша
1 цитирование, 0.08%
Таиланд, 1, 0.08%
Таиланд
1 цитирование, 0.08%
Тунис, 1, 0.08%
Тунис
1 цитирование, 0.08%
Турция, 1, 0.08%
Турция
1 цитирование, 0.08%
Филиппины, 1, 0.08%
Филиппины
1 цитирование, 0.08%
Чехия, 1, 0.08%
Чехия
1 цитирование, 0.08%
Шри-Ланка, 1, 0.08%
Шри-Ланка
1 цитирование, 0.08%
50
100
150
200
250
300
350
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.