Э Брюс Л

Bruce L Robert
Публикаций
39
Цитирований
1 182
Индекс Хирша
18
Найдено 
Найдено 
Найдено 
Полная статистика
Всего публикаций
39
Всего цитирований
1182
Цитирований на публикацию
30.31
Среднее число публикаций в год
2.44
Среднее число соавторов
10.64
Годы публикаций
2010-2025 (16 лет)
h-index
18
i10-index
29
m-index
1.13
o-index
58
g-index
34
w-index
6
Описание метрик
h-index
Учёный имеет индекс h, если h из его N статей цитируются как минимум h раз каждая, в то время как оставшиеся (N - h) статей цитируются не более чем h раз каждая.
i10-index
Число статей автора, получивших не менее 10 ссылок каждая.
m-index
m-индекс ученого численно равен отношению его h-индекса к количеству лет, прошедших с момента первой публикации.
o-index
Среднее геометрическое h-индекса и числа цитирований наиболее цитируемой статьи ученого.
g-index
Для данного множества статей, отсортированного в порядке убывания количества цитирований, которые получили эти статьи, g-индекс это наибольшее число, такое что g самых цитируемых статей получили (суммарно) не менее g2 цитирований.
w-index
Если w статей ученого имеют не менее 10w цитирований каждая и другие статьи меньше, чем 10(w+1) цитирований, то w-индекс исследователя равен w.

Области наук

2
4
6
8
10
12
Surfaces, Coatings and Films, 12, 30.77%
Surfaces, Coatings and Films
12 публикаций, 30.77%
Electronic, Optical and Magnetic Materials, 11, 28.21%
Electronic, Optical and Magnetic Materials
11 публикаций, 28.21%
Condensed Matter Physics, 10, 25.64%
Condensed Matter Physics
10 публикаций, 25.64%
Electrical and Electronic Engineering, 5, 12.82%
Electrical and Electronic Engineering
5 публикаций, 12.82%
Materials Chemistry, 4, 10.26%
Materials Chemistry
4 публикации, 10.26%
Process Chemistry and Technology, 4, 10.26%
Process Chemistry and Technology
4 публикации, 10.26%
Instrumentation, 4, 10.26%
Instrumentation
4 публикации, 10.26%
Surfaces and Interfaces, 4, 10.26%
Surfaces and Interfaces
4 публикации, 10.26%
Acoustics and Ultrasonics, 4, 10.26%
Acoustics and Ultrasonics
4 публикации, 10.26%
General Materials Science, 3, 7.69%
General Materials Science
3 публикации, 7.69%
General Physics and Astronomy, 2, 5.13%
General Physics and Astronomy
2 публикации, 5.13%
Physics and Astronomy (miscellaneous), 2, 5.13%
Physics and Astronomy (miscellaneous)
2 публикации, 5.13%
Electrochemistry, 1, 2.56%
Electrochemistry
1 публикация, 2.56%
Polymers and Plastics, 1, 2.56%
Polymers and Plastics
1 публикация, 2.56%
Mechanical Engineering, 1, 2.56%
Mechanical Engineering
1 публикация, 2.56%
Biomaterials, 1, 2.56%
Biomaterials
1 публикация, 2.56%
General Engineering, 1, 2.56%
General Engineering
1 публикация, 2.56%
Mechanics of Materials, 1, 2.56%
Mechanics of Materials
1 публикация, 2.56%
2
4
6
8
10
12

Журналы

1
2
3
4
5
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
5 публикаций, 12.82%
Journal of Vacuum Science and Technology B
5 публикаций, 12.82%
Journal Physics D: Applied Physics
4 публикации, 10.26%
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
3 публикации, 7.69%
Applied Physics Letters
2 публикации, 5.13%
Nanoscale
1 публикация, 2.56%
Advanced Functional Materials
1 публикация, 2.56%
ACS Nano
1 публикация, 2.56%
ECS Journal of Solid State Science and Technology
1 публикация, 2.56%
Journal of Applied Physics
1 публикация, 2.56%
Plasma Processes and Polymers
1 публикация, 2.56%
Advanced Materials
1 публикация, 2.56%
IEEE Transactions on Electron Devices
1 публикация, 2.56%
1
2
3
4
5

Цитирующие журналы

20
40
60
80
100
120
140
160
180
200
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
181 цитирование, 15.29%
Журнал не определён, 112, 9.46%
Журнал не определён
112 цитирований, 9.46%
Journal of Vacuum Science and Technology B
69 цитирований, 5.83%
Journal Physics D: Applied Physics
56 цитирований, 4.73%
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes
50 цитирований, 4.22%
Journal of Applied Physics
36 цитирований, 3.04%
Plasma Processes and Polymers
33 цитирования, 2.79%
ECS Journal of Solid State Science and Technology
27 цитирований, 2.28%
ACS applied materials & interfaces
24 цитирования, 2.03%
Applied Surface Science
24 цитирования, 2.03%
IEEE Transactions on Electron Devices
20 цитирований, 1.69%
Applied Physics Letters
18 цитирований, 1.52%
Plasma Sources Science and Technology
18 цитирований, 1.52%
IEEE Electron Device Letters
15 цитирований, 1.27%
Polymers
13 цитирований, 1.1%
IEEE Journal of the Electron Devices Society
12 цитирований, 1.01%
Scientific Reports
12 цитирований, 1.01%
Physics of Plasmas
11 цитирований, 0.93%
Nanotechnology
11 цитирований, 0.93%
Journal of Chemical Physics
10 цитирований, 0.84%
Microelectronic Engineering
10 цитирований, 0.84%
Chemistry of Materials
9 цитирований, 0.76%
Vacuum
9 цитирований, 0.76%
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
9 цитирований, 0.76%
Materials
9 цитирований, 0.76%
Nanoscale
8 цитирований, 0.68%
Nature Communications
8 цитирований, 0.68%
Langmuir
8 цитирований, 0.68%
MRS Proceedings
7 цитирований, 0.59%
Physical Chemistry Chemical Physics
6 цитирований, 0.51%
Journal of Materials Chemistry C
6 цитирований, 0.51%
ACS Nano
6 цитирований, 0.51%
Plasma Chemistry and Plasma Processing
6 цитирований, 0.51%
Surface and Coatings Technology
6 цитирований, 0.51%
ACS Applied Electronic Materials
6 цитирований, 0.51%
ACS Applied Nano Materials
5 цитирований, 0.42%
Small
5 цитирований, 0.42%
Nano Letters
5 цитирований, 0.42%
Journal of Micromechanics and Microengineering
5 цитирований, 0.42%
IEEE Access
5 цитирований, 0.42%
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
4 цитирования, 0.34%
Micromachines
4 цитирования, 0.34%
RSC Advances
4 цитирования, 0.34%
Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS
4 цитирования, 0.34%
Advanced Functional Materials
4 цитирования, 0.34%
Journal of Physical Chemistry C
4 цитирования, 0.34%
Nanomaterials
4 цитирования, 0.34%
Scripta Materialia
4 цитирования, 0.34%
ACS Sustainable Chemistry and Engineering
4 цитирования, 0.34%
Current Applied Physics
4 цитирования, 0.34%
Physica Scripta
4 цитирования, 0.34%
Acta Physica Sinica
4 цитирования, 0.34%
Russian Microelectronics
4 цитирования, 0.34%
Nature Nanotechnology
3 цитирования, 0.25%
Journal of Applied Polymer Science
3 цитирования, 0.25%
Surfaces and Interfaces
3 цитирования, 0.25%
Applied Physics Reviews
3 цитирования, 0.25%
Microelectronics Journal
3 цитирования, 0.25%
IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics
3 цитирования, 0.25%
Materials Science in Semiconductor Processing
3 цитирования, 0.25%
Journal of Physical Chemistry B
3 цитирования, 0.25%
Soft Matter
3 цитирования, 0.25%
Advanced Materials Interfaces
3 цитирования, 0.25%
ACS Omega
3 цитирования, 0.25%
Semiconductor Science and Technology
3 цитирования, 0.25%
Coatings
3 цитирования, 0.25%
Applied Science and Convergence Technology
3 цитирования, 0.25%
Carbon
2 цитирования, 0.17%
Journal of Materials Research
2 цитирования, 0.17%
Plasma Physics and Controlled Fusion
2 цитирования, 0.17%
Micro and Nano Engineering
2 цитирования, 0.17%
Advanced Electronic Materials
2 цитирования, 0.17%
EPJ Applied Physics
2 цитирования, 0.17%
AIP Advances
2 цитирования, 0.17%
Chinese Physics B
2 цитирования, 0.17%
European Physical Journal D
2 цитирования, 0.17%
Frontiers of Chemical Science and Engineering
2 цитирования, 0.17%
Journal of Lightwave Technology
2 цитирования, 0.17%
Journal of the Korean Physical Society
2 цитирования, 0.17%
Materials Science and Engineering C
2 цитирования, 0.17%
Review of Scientific Instruments
2 цитирования, 0.17%
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology
2 цитирования, 0.17%
IEEE Sensors Journal
2 цитирования, 0.17%
Lab on a Chip
2 цитирования, 0.17%
Nature Materials
2 цитирования, 0.17%
Frontiers of Nanoscience
2 цитирования, 0.17%
IEEE Journal of Solid-State Circuits
2 цитирования, 0.17%
Semiconductors
2 цитирования, 0.17%
Springer Handbooks
2 цитирования, 0.17%
Chemical Engineering Journal
2 цитирования, 0.17%
IEEE Nanotechnology Magazine
2 цитирования, 0.17%
Thin Solid Films
2 цитирования, 0.17%
Journal of Non-Crystalline Solids
2 цитирования, 0.17%
Science Bulletin
2 цитирования, 0.17%
Analytical Chemistry
2 цитирования, 0.17%
Journal of Energy Storage
2 цитирования, 0.17%
Nanoscale Research Letters
2 цитирования, 0.17%
IEEE Transactions on Components, Packaging and Manufacturing Technology
2 цитирования, 0.17%
Macromolecules
2 цитирования, 0.17%
Journal of Materials Science and Technology
2 цитирования, 0.17%
20
40
60
80
100
120
140
160
180
200

Издатели

2
4
6
8
10
American Vacuum Society
10 публикаций, 25.64%
IOP Publishing
4 публикации, 10.26%
Wiley
3 публикации, 7.69%
AIP Publishing
3 публикации, 7.69%
SPIE-Intl Soc Optical Eng
3 публикации, 7.69%
American Chemical Society (ACS)
1 публикация, 2.56%
Royal Society of Chemistry (RSC)
1 публикация, 2.56%
The Electrochemical Society
1 публикация, 2.56%
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
1 публикация, 2.56%
2
4
6
8
10

Организации из публикаций

5
10
15
20
25
Организация не определена, 21, 53.85%
Организация не определена
21 публикация, 53.85%
Исследовательский центр Уотсона
13 публикаций, 33.33%
Мэрилендский университет, Колледж-Парк
11 публикаций, 28.21%
Калифорнийский университет в Беркли
2 публикации, 5.13%
Техасский университет в Остине
2 публикации, 5.13%
Samsung
1 публикация, 2.56%
Корнеллский университет
1 публикация, 2.56%
Национальный университет Чунг Ченг
1 публикация, 2.56%
Университет штата Аризона
1 публикация, 2.56%
Калифорнийский университет в Лос-Анджелесе
1 публикация, 2.56%
Нагойский университет
1 публикация, 2.56%
Осакский университет
1 публикация, 2.56%
Мичиганский университет
1 публикация, 2.56%
Sony Group Corporation
1 публикация, 2.56%
Лаборатория военно-морских исследований США
1 публикация, 2.56%
Университет Хьюстона
1 публикация, 2.56%
Университет Орлеана
1 публикация, 2.56%
5
10
15
20
25

Страны из публикаций

5
10
15
20
25
30
35
США, 34, 87.18%
США
34 публикации, 87.18%
Страна не определена, 8, 20.51%
Страна не определена
8 публикаций, 20.51%
Китай, 3, 7.69%
Китай
3 публикации, 7.69%
Япония, 2, 5.13%
Япония
2 публикации, 5.13%
Франция, 1, 2.56%
Франция
1 публикация, 2.56%
Республика Корея, 1, 2.56%
Республика Корея
1 публикация, 2.56%
5
10
15
20
25
30
35

Цитирующие организации

50
100
150
200
250
300
Организация не определена, 252, 21.32%
Организация не определена
252 цитирования, 21.32%
Исследовательский центр Уотсона
46 цитирований, 3.89%
Мэрилендский университет, Колледж-Парк
43 цитирования, 3.64%
Международный микроэлектронный научно-исследовательский центр
40 цитирований, 3.38%
Осакский университет
24 цитирования, 2.03%
Нагойский университет
22 цитирования, 1.86%
Лёвенский католический университет
21 цитирование, 1.78%
Университет Сонгюнгван
20 цитирований, 1.69%
Университет Гренобль-Альпы
18 цитирований, 1.52%
Samsung
18 цитирований, 1.52%
Университет Колорадо в Боулдере
17 цитирований, 1.44%
Стэнфордский университет
15 цитирований, 1.27%
Университет Китайской академии наук
14 цитирований, 1.18%
Университет Сантьяго-де-Компостела
13 цитирований, 1.1%
Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
12 цитирований, 1.02%
Мичиганский университет
12 цитирований, 1.02%
Университет Орлеана
12 цитирований, 1.02%
Калифорнийский университет в Беркли
11 цитирований, 0.93%
Sony Group Corporation
10 цитирований, 0.85%
Институт Йожефа Стефана
10 цитирований, 0.85%
Университет Цинхуа
9 цитирований, 0.76%
Сеульский университет
9 цитирований, 0.76%
Университет Ханьян
9 цитирований, 0.76%
Университет штата Аризона
9 цитирований, 0.76%
Университет в Суонси
9 цитирований, 0.76%
Колорадская горная школа
9 цитирований, 0.76%
Институт микроэлектроники, Китайская академия наук
9 цитирований, 0.76%
Хуачжунский университет науки и технологии
8 цитирований, 0.68%
Университет Тохоку
8 цитирований, 0.68%
Техасский университет в Остине
8 цитирований, 0.68%
Лаборатория военно-морских исследований США
8 цитирований, 0.68%
Физико-технологический институт имени К.А. Валиева
7 цитирований, 0.59%
МИРЭА — Российский технологический университет
7 цитирований, 0.59%
Даляньский технологический университет
7 цитирований, 0.59%
Северо-Китайский технологический университет
7 цитирований, 0.59%
Технический университет Эйндховена
7 цитирований, 0.59%
Массачусетский технологический институт
7 цитирований, 0.59%
Корейский институт передовых технологий
7 цитирований, 0.59%
Национальный университет Кёнпук
7 цитирований, 0.59%
Национальный центр научных исследований «Демокрит»
7 цитирований, 0.59%
Университет Хьюстона
7 цитирований, 0.59%
Московский физико-технический институт
6 цитирований, 0.51%
Национальный университет Чунгнам
6 цитирований, 0.51%
Калифорнийский университет в Лос-Анджелесе
6 цитирований, 0.51%
Киотский университет
6 цитирований, 0.51%
Техасский университет в Далласе
6 цитирований, 0.51%
Национальный университет Сингапура
5 цитирований, 0.42%
Принстонский университет
5 цитирований, 0.42%
Ульсанский национальный институт науки и технологий
5 цитирований, 0.42%
Университет Аджу
5 цитирований, 0.42%
Национальный институт стандартов и технологий
5 цитирований, 0.42%
Университет штата Северная Каролина
5 цитирований, 0.42%
Корейский научно-исследовательский институт стандартов и науки
5 цитирований, 0.42%
Рурский университет
5 цитирований, 0.42%
Чунцинский институт зеленых и интеллектуальных технологий Китайской академии наук
5 цитирований, 0.42%
Технион - израильский технологический институт
4 цитирования, 0.34%
Гентский университет
4 цитирования, 0.34%
Уппсальский университет
4 цитирования, 0.34%
Пекинский университет Цзяотун
4 цитирования, 0.34%
Институт Пауля Шеррера
4 цитирования, 0.34%
Нантский университет
4 цитирования, 0.34%
Дрезденский технический университет
4 цитирования, 0.34%
Педагогический университет Янцзы
4 цитирования, 0.34%
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли
4 цитирования, 0.34%
Национальный университет Тайваня
4 цитирования, 0.34%
Университет Глазго
4 цитирования, 0.34%
Корейский институт науки и технологий
4 цитирования, 0.34%
Университет Миннесоты
4 цитирования, 0.34%
Университет Пердью
4 цитирования, 0.34%
Toshiba Corporation
4 цитирования, 0.34%
Шанхайский институт микросистем и информационных технологий, Китайская академия наук
4 цитирования, 0.34%
Веллорский технологический университет
3 цитирования, 0.25%
Пекинский технологический институт
3 цитирования, 0.25%
Чжэцзянский университет
3 цитирования, 0.25%
Пекинский университет
3 цитирования, 0.25%
Бэйханский университет
3 цитирования, 0.25%
Федеральная политехническая школа Лозанны
3 цитирования, 0.25%
Уханьский технологический университет
3 цитирования, 0.25%
Университетский колледж Лондона
3 цитирования, 0.25%
Тяньцзиньский университет
3 цитирования, 0.25%
Центр им. Гельмгольца Дрезден-Россендорф
3 цитирования, 0.25%
Университет Ноттингем Трент
3 цитирования, 0.25%
Аргоннская национальная лаборатория
3 цитирования, 0.25%
Университет Ёнсе
3 цитирования, 0.25%
Корейский научно-исследовательский институт химической технологии
3 цитирования, 0.25%
Институт фундаментальных наук
3 цитирования, 0.25%
Северо-Западный университет
3 цитирования, 0.25%
Миссурийский университет в Канзас-Сити
3 цитирования, 0.25%
Национальный университет Чонбук
3 цитирования, 0.25%
Чикагский университет
3 цитирования, 0.25%
Венский технический университет
3 цитирования, 0.25%
Университет Кэйо
3 цитирования, 0.25%
Институт исследования полимеров Общества Макса Планка
3 цитирования, 0.25%
Университет науки и технологий Китая
3 цитирования, 0.25%
Агентство науки, технологий и исследований
3 цитирования, 0.25%
Иллинойсский университет в Урбане-Шампейне
3 цитирования, 0.25%
Гамбургский университет
3 цитирования, 0.25%
Технический университет Ильменау
3 цитирования, 0.25%
Университет Кюсю
3 цитирования, 0.25%
Полимерный научно-технический институт
3 цитирования, 0.25%
50
100
150
200
250
300

Цитирующие страны

50
100
150
200
250
300
350
США, 316, 26.73%
США
316 цитирований, 26.73%
Страна не определена, 139, 11.76%
Страна не определена
139 цитирований, 11.76%
Китай, 127, 10.74%
Китай
127 цитирований, 10.74%
Япония, 104, 8.8%
Япония
104 цитирования, 8.8%
Республика Корея, 101, 8.54%
Республика Корея
101 цитирование, 8.54%
Бельгия, 60, 5.08%
Бельгия
60 цитирований, 5.08%
Франция, 59, 4.99%
Франция
59 цитирований, 4.99%
Германия, 55, 4.65%
Германия
55 цитирований, 4.65%
Великобритания, 36, 3.05%
Великобритания
36 цитирований, 3.05%
Россия, 26, 2.2%
Россия
26 цитирований, 2.2%
Индия, 25, 2.12%
Индия
25 цитирований, 2.12%
Испания, 24, 2.03%
Испания
24 цитирования, 2.03%
Нидерланды, 15, 1.27%
Нидерланды
15 цитирований, 1.27%
Италия, 12, 1.02%
Италия
12 цитирований, 1.02%
Швейцария, 12, 1.02%
Швейцария
12 цитирований, 1.02%
Словения, 11, 0.93%
Словения
11 цитирований, 0.93%
Швеция, 10, 0.85%
Швеция
10 цитирований, 0.85%
Канада, 9, 0.76%
Канада
9 цитирований, 0.76%
Греция, 8, 0.68%
Греция
8 цитирований, 0.68%
Финляндия, 8, 0.68%
Финляндия
8 цитирований, 0.68%
Сингапур, 7, 0.59%
Сингапур
7 цитирований, 0.59%
Австрия, 6, 0.51%
Австрия
6 цитирований, 0.51%
Израиль, 6, 0.51%
Израиль
6 цитирований, 0.51%
Австралия, 5, 0.42%
Австралия
5 цитирований, 0.42%
Египет, 5, 0.42%
Египет
5 цитирований, 0.42%
Иран, 5, 0.42%
Иран
5 цитирований, 0.42%
Ирландия, 5, 0.42%
Ирландия
5 цитирований, 0.42%
Бангладеш, 4, 0.34%
Бангладеш
4 цитирования, 0.34%
Бразилия, 3, 0.25%
Бразилия
3 цитирования, 0.25%
Дания, 2, 0.17%
Дания
2 цитирования, 0.17%
Румыния, 2, 0.17%
Румыния
2 цитирования, 0.17%
Чили, 2, 0.17%
Чили
2 цитирования, 0.17%
ЮАР, 2, 0.17%
ЮАР
2 цитирования, 0.17%
Португалия, 1, 0.08%
Португалия
1 цитирование, 0.08%
Алжир, 1, 0.08%
Алжир
1 цитирование, 0.08%
Болгария, 1, 0.08%
Болгария
1 цитирование, 0.08%
Вьетнам, 1, 0.08%
Вьетнам
1 цитирование, 0.08%
Гонконг (САР), 1, 0.08%
Гонконг (САР)
1 цитирование, 0.08%
Индонезия, 1, 0.08%
Индонезия
1 цитирование, 0.08%
Ирак, 1, 0.08%
Ирак
1 цитирование, 0.08%
Колумбия, 1, 0.08%
Колумбия
1 цитирование, 0.08%
Пакистан, 1, 0.08%
Пакистан
1 цитирование, 0.08%
Польша, 1, 0.08%
Польша
1 цитирование, 0.08%
Таиланд, 1, 0.08%
Таиланд
1 цитирование, 0.08%
Тунис, 1, 0.08%
Тунис
1 цитирование, 0.08%
Турция, 1, 0.08%
Турция
1 цитирование, 0.08%
Филиппины, 1, 0.08%
Филиппины
1 цитирование, 0.08%
Чехия, 1, 0.08%
Чехия
1 цитирование, 0.08%
Шри-Ланка, 1, 0.08%
Шри-Ланка
1 цитирование, 0.08%
50
100
150
200
250
300
350
  • Мы не учитываем публикации, у которых нет DOI.
  • Статистика пересчитывается раз в сутки.